中南大学-竞价公告(CB119422021004702)

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中南大学-竞价公告(CB119422021004702)



申购单号:CB 点击查看>>
申购主题:GVC- * T高真空磁控离子溅射仪
采购单位: (略)
报价要求:
发票类型:增值税普通发票
币种:人民币
预算:
签约时间:发布中标结果后7天内签约合同
送货时间:合同签订后 * 天内送达
安装要求:免费上门安装(含材料费)
收货地址: (略) 省/ (略) 市/ (略) 区/点击查看>>*
付款方式:货到验收合格后付款
备注说明:申购明细:


序号采购内容数量预算单价
1GVC- * T高真空磁控离子溅射仪1.0
品牌 (略)
型号GVC- * T
规格参数系统采用ARM或 (略) 理器控制,全数字显示,中文操作界面;彩色液晶屏显示,触摸屏操作,屏幕尺寸不小于7英寸;真空室内径不小于 * mm,高度不低于 * mm;最大溅射电流不小于 * mA,最小溅射电流不大于5mA,步进量为5mA;采用涡轮分子泵和旋片真空泵组合的真空泵组作为抽气单元,其中涡轮分子泵的抽速不小于 * L/s;系统可实时显示分子泵转速、电压、电流、轴承温度等工作参数;系统极限真空优于5E-3Pa;最长溅射时间不小于 * 秒; * .具备可旋转样品台,转速可调,最高转速不小于 * 转/分;具备预溅射挡板,确保镀膜纯度,减少污染。内置不少于 * 种靶材溅射参数,包括金、铂、铬、钨、钛、铝、镍等常用靶材;可设定:(1)溅射电流;溅射时间;靶材种类;屏幕亮度等参数; 可显示:溅射电流;)溅射剩余时间;工作真空度;靶材累计使用时间;设备累计使用时间;分子泵转速、轴承温度、工作电流、电压;当前使用靶材种类;工作方式等参数。溅射电流:- * mA连续可调,最小步长为5mA;5.溅射时长:1- * s连续可调,最小步长为1s;可用溅射靶材:所有金属靶材、ITO靶;真空室采用高透光性的高硅硼玻璃,尺寸约为φ * × * mm;可容纳最大样品杯直径为φ * mm;高真空泵:进口涡轮分子泵,抽速为 * L/s; * .低真空泵:旋片式真空泵,抽速为1L/s; * .真空规管:进口复合规,量程为1E-3Pa到1E5Pa; * .系统极限真空:<5E-3Pa;系统工作真空:0.1-5pa(根据靶材不同,工作真空不同);1工作模式:具备自动和手动两种工作模式,可在系统内设置;样品台旋转:4- * rpm可调;具备预溅射挡板,在溅射开始时,先 (略) 清洁,此时挡板闭合;开始工作时,挡板自动打开,提供镀膜纯度;具备溅射电流和真空度双重互锁,安全可靠,任 * 条件触发,系统即可停止工作,防止因为误操作导致设备损坏
质保及售后服务按行业标准提供服务

信息来自:https:/ 点击查看>> #/purchase/detail/bc6d * a 点击查看>> b * b2c6d *
, (略) , (略) 市, (略) 区, (略)


申购单号:CB 点击查看>>
申购主题:GVC- * T高真空磁控离子溅射仪
采购单位: (略)
报价要求:
发票类型:增值税普通发票
币种:人民币
预算:
签约时间:发布中标结果后7天内签约合同
送货时间:合同签订后 * 天内送达
安装要求:免费上门安装(含材料费)
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序号采购内容数量预算单价
1GVC- * T高真空磁控离子溅射仪1.0
品牌 (略)
型号GVC- * T
规格参数系统采用ARM或 (略) 理器控制,全数字显示,中文操作界面;彩色液晶屏显示,触摸屏操作,屏幕尺寸不小于7英寸;真空室内径不小于 * mm,高度不低于 * mm;最大溅射电流不小于 * mA,最小溅射电流不大于5mA,步进量为5mA;采用涡轮分子泵和旋片真空泵组合的真空泵组作为抽气单元,其中涡轮分子泵的抽速不小于 * L/s;系统可实时显示分子泵转速、电压、电流、轴承温度等工作参数;系统极限真空优于5E-3Pa;最长溅射时间不小于 * 秒; * .具备可旋转样品台,转速可调,最高转速不小于 * 转/分;具备预溅射挡板,确保镀膜纯度,减少污染。内置不少于 * 种靶材溅射参数,包括金、铂、铬、钨、钛、铝、镍等常用靶材;可设定:(1)溅射电流;溅射时间;靶材种类;屏幕亮度等参数; 可显示:溅射电流;)溅射剩余时间;工作真空度;靶材累计使用时间;设备累计使用时间;分子泵转速、轴承温度、工作电流、电压;当前使用靶材种类;工作方式等参数。溅射电流:- * mA连续可调,最小步长为5mA;5.溅射时长:1- * s连续可调,最小步长为1s;可用溅射靶材:所有金属靶材、ITO靶;真空室采用高透光性的高硅硼玻璃,尺寸约为φ * × * mm;可容纳最大样品杯直径为φ * mm;高真空泵:进口涡轮分子泵,抽速为 * L/s; * .低真空泵:旋片式真空泵,抽速为1L/s; * .真空规管:进口复合规,量程为1E-3Pa到1E5Pa; * .系统极限真空:<5E-3Pa;系统工作真空:0.1-5pa(根据靶材不同,工作真空不同);1工作模式:具备自动和手动两种工作模式,可在系统内设置;样品台旋转:4- * rpm可调;具备预溅射挡板,在溅射开始时,先 (略) 清洁,此时挡板闭合;开始工作时,挡板自动打开,提供镀膜纯度;具备溅射电流和真空度双重互锁,安全可靠,任 * 条件触发,系统即可停止工作,防止因为误操作导致设备损坏
质保及售后服务按行业标准提供服务

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