中科院重庆绿色智能技术研究院-竞价公告(CBCIGIT2021000144)

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中科院重庆绿色智能技术研究院-竞价公告(CBCIGIT2021000144)



申购单号:CBCIGIT 点击查看>>
申购主题:衍射调制动态曝光装置
采购单位: (略) (略) 绿色智 (略)
报价要求:
发票类型:增值税普通发票
币种:人民币
预算:
签约时间:发布竞价结果后7天内签约合同
送货时间:发布竞价结果后 * 天内送达
安装要求:免费上门安装(含材料费)
收货地址: (略) 市/市辖区/ (略) 区/点击查看>>*
付款方式:货到验收合格后付款 * %,质保期满付尾款。
备注说明:成交供应商需承诺提供的货物是全新未使用过的, (略) (略) CQA,进货渠道合法并提交售后服务承诺函及正式的报价单及联系人联系方式信息。 请报价供应商下载 无关联关系承诺书 盖章后上传,下载地址:http:/ 点击查看>> 申购明细:


序号采购内容数量预算单价
1衍射调制动态曝光装置1.0
品牌
型号
规格参数1、有效曝光面积:大于 * mm* * mm;2、光强范围:0.5mW/cm2~ * mW/cm2范围内可调;3、光强调节精度:优于0.1mW;4、曝光均匀性:6寸范围优于±1.5%,2寸内优于±0.5%;5、X\Y方向运动精度及重复定位精度:优于 * nm;6、X\ (略) 程:≥5mm;7、X\Y运动直线度:5mm距离不大于 * nm;8、X\Y运动速度:≥ * nm/s;9、X\Y运动速度编程精度:优于 * nm/s; * 、X\Y运动时间量程:≥ * s; * 、X\Y运动时间控制精度:优于0.1s; * 、X\Y运动电机启停与光源曝光同步性:优于0.1s; * 、X\Y运 (略) 度:2mm范围优于1um,同时能检测; * 、 (略) 程:≥ * mm; * 、Z方向运动精度及重复定位精度:优于1um; * 、承片台吸附基片,需考虑基片形变问题(可考虑多孔抽真空吸附方式); * 、可以高精度调平及分离; * 、Z方向编程控制精度:优于1um; * 、水平方向旋转范围±5°,旋转分辨率±0. * °; * 、承载台需按晶圆外形设计,具有4寸、6寸等多种规格; * 、掩模架需要配备5寸、7寸等多种种掩模架; * 、软件需具备功能包括:定时曝光、步进曝光、连续曝光 * 种模式; * 、具有对准显示、调平、调旋转功能; * 、曝光机工作台具有 * 定防震功能; * 、能够完成连续面型微纳结构光学元件的制备,面型精度优于PV * nm,表面粗糙度优于Ra 5nm。
质保及售后服务按行业标准提供服务

信息来自:https:/ 点击查看>> #/purchase/detail/d * d8d * ed0 * * fe2ea *
, (略) , (略)


申购单号:CBCIGIT 点击查看>>
申购主题:衍射调制动态曝光装置
采购单位: (略) (略) 绿色智 (略)
报价要求:
发票类型:增值税普通发票
币种:人民币
预算:
签约时间:发布竞价结果后7天内签约合同
送货时间:发布竞价结果后 * 天内送达
安装要求:免费上门安装(含材料费)
收货地址: (略) 市/市辖区/ (略) 区/点击查看>>*
付款方式:货到验收合格后付款 * %,质保期满付尾款。
备注说明:成交供应商需承诺提供的货物是全新未使用过的, (略) (略) CQA,进货渠道合法并提交售后服务承诺函及正式的报价单及联系人联系方式信息。 请报价供应商下载 无关联关系承诺书 盖章后上传,下载地址:http:/ 点击查看>> 申购明细:


序号采购内容数量预算单价
1衍射调制动态曝光装置1.0
品牌
型号
规格参数1、有效曝光面积:大于 * mm* * mm;2、光强范围:0.5mW/cm2~ * mW/cm2范围内可调;3、光强调节精度:优于0.1mW;4、曝光均匀性:6寸范围优于±1.5%,2寸内优于±0.5%;5、X\Y方向运动精度及重复定位精度:优于 * nm;6、X\ (略) 程:≥5mm;7、X\Y运动直线度:5mm距离不大于 * nm;8、X\Y运动速度:≥ * nm/s;9、X\Y运动速度编程精度:优于 * nm/s; * 、X\Y运动时间量程:≥ * s; * 、X\Y运动时间控制精度:优于0.1s; * 、X\Y运动电机启停与光源曝光同步性:优于0.1s; * 、X\Y运 (略) 度:2mm范围优于1um,同时能检测; * 、 (略) 程:≥ * mm; * 、Z方向运动精度及重复定位精度:优于1um; * 、承片台吸附基片,需考虑基片形变问题(可考虑多孔抽真空吸附方式); * 、可以高精度调平及分离; * 、Z方向编程控制精度:优于1um; * 、水平方向旋转范围±5°,旋转分辨率±0. * °; * 、承载台需按晶圆外形设计,具有4寸、6寸等多种规格; * 、掩模架需要配备5寸、7寸等多种种掩模架; * 、软件需具备功能包括:定时曝光、步进曝光、连续曝光 * 种模式; * 、具有对准显示、调平、调旋转功能; * 、曝光机工作台具有 * 定防震功能; * 、能够完成连续面型微纳结构光学元件的制备,面型精度优于PV * nm,表面粗糙度优于Ra 5nm。
质保及售后服务按行业标准提供服务

信息来自:https:/ 点击查看>> #/purchase/detail/d * d8d * ed0 * * fe2ea *
, (略) , (略)
    
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