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[B2021112403]MPCVD半导体工艺系统网上竞价公告

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[B2021112403]MPCVD半导体工艺系统网上竞价公告



采购项目信息

剩余时间:
项目名称MPCVD半导体工艺系统项目编号B 点击查看>>
开始时间 点击查看>> * : * : * 截止时间 点击查看>> * : * : *
供应商资格要求 参照《中华人民共和国政府采购法》第 * 十 * 条规定的资格条件。

采购货物信息列表

序号货物(服务)名称数量计量单位
1 MPCVD 1
技术参数 1、手套箱及抽风管道升级。改造设备手套及抽风管道,使其具备 * 硼烷、硅烷(B2H6、SiH4)等半导体工艺气 (略) 理能力,从而进 * 步拓展设备的半导体工艺性能。设备升级 (略) 分:(1)手套箱内增加 * 硼烷、硅烷浓度侦测器,用于监测手套箱内是否存在 * 硼烷、硅烷泄露;(2)手套箱循环系统增加活性炭过滤器,用于吸附反应腔内可能发生的微量 * 硼烷、硅烷泄露;(3)设备增加抽风管道,用 (略) 形成相对负压,防止可能的工艺气体泄露向设备外扩散。2、样品台升级。改造样品台,提高生长区域的温度均匀性,增加偏压功能模块。(1)通过有限元仿真及实验验证改造样品台,实现有效生长区域内,衬底温度差异≤ * ℃, (略) 件包括:铜样品台、圆形钼板、水冷系统;(2)样品台增加偏压功能模块,可在样品台上施加0- * V大小的偏压。3、实现手套箱和真空互联系统的对接。MPCVD系统配置有手套箱,升级改造的重点是将手套箱和真空互联系统的进样室连接,实现衬底从无氧无水的手套箱转移到高真空的进样室,从而进 * 步可以转移到真空互联系统的其它功能腔室。(1)在手套箱壳体增加接口,安装与真空互联系统对接管道;(2) (略) 安装线性机械手,实现衬底在MPCVD手套箱和真空系统的进样室之间的转移。4、气路及气体流量计升级。(1)增加适用于纯硅烷(SiH4)的MFC流量计,量程为 * sccm;(2)增加适用于5%B2H6/H2混合气的MFC流量计,量程为 * sccm;(3)增加氩气(Ar)气路,将设备原有6路气体升级改造为7路气体。氩气延用设备预留气路 (略) 有的 * sccm MFC流量计(M6);(4)原用于B2H6的5sccm MFC流量计(M4)作为备件保留。
相关材料

(略) 采购与 (略)

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1 MPCVD 1
技术参数 1、手套箱及抽风管道升级。改造设备手套及抽风管道,使其具备 * 硼烷、硅烷(B2H6、SiH4)等半导体工艺气 (略) 理能力,从而进 * 步拓展设备的半导体工艺性能。设备升级 (略) 分:(1)手套箱内增加 * 硼烷、硅烷浓度侦测器,用于监测手套箱内是否存在 * 硼烷、硅烷泄露;(2)手套箱循环系统增加活性炭过滤器,用于吸附反应腔内可能发生的微量 * 硼烷、硅烷泄露;(3)设备增加抽风管道,用 (略) 形成相对负压,防止可能的工艺气体泄露向设备外扩散。2、样品台升级。改造样品台,提高生长区域的温度均匀性,增加偏压功能模块。(1)通过有限元仿真及实验验证改造样品台,实现有效生长区域内,衬底温度差异≤ * ℃, (略) 件包括:铜样品台、圆形钼板、水冷系统;(2)样品台增加偏压功能模块,可在样品台上施加0- * V大小的偏压。3、实现手套箱和真空互联系统的对接。MPCVD系统配置有手套箱,升级改造的重点是将手套箱和真空互联系统的进样室连接,实现衬底从无氧无水的手套箱转移到高真空的进样室,从而进 * 步可以转移到真空互联系统的其它功能腔室。(1)在手套箱壳体增加接口,安装与真空互联系统对接管道;(2) (略) 安装线性机械手,实现衬底在MPCVD手套箱和真空系统的进样室之间的转移。4、气路及气体流量计升级。(1)增加适用于纯硅烷(SiH4)的MFC流量计,量程为 * sccm;(2)增加适用于5%B2H6/H2混合气的MFC流量计,量程为 * sccm;(3)增加氩气(Ar)气路,将设备原有6路气体升级改造为7路气体。氩气延用设备预留气路 (略) 有的 * sccm MFC流量计(M6);(4)原用于B2H6的5sccm MFC流量计(M4)作为备件保留。
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