包括：WS方镜，采用8轴激光干涉仪对方镜六自由度位移测量，材料要求：进口微晶玻璃、密度2.53g/cm³、杨氏模量E= 点击查看>> Gpa、线性膨胀系数≤0.1×10E^-6/K、泊松比0.243；加工制造要求：尺寸公差0.02～0.2mm详见图纸、反射镀膜面具有较高的形位公差要求、其中ABCD面形位公差0.0001(50nm/100×100)、EFG面形位公差0.0003(20nm/30×30)。RS方镜，提供研磨板的吸附固定及六自由度位移测量，材料要求：进口微晶玻璃、密度2.53g/cm³、杨氏模量E= 点击查看>> Gpa、线性膨胀系数≤0.1×10E^-6/K、泊松比0.243；加工制造要求：尺寸公差0.02～0.1mm详见图纸、RS方镜中测量光栅和掩膜吸附粘面需要较高的形位公差要求、其中AE面形位公差0.001、BD面形位公差0.0004/10和0.0008/20、C面形位公差0.015、F面形位公差0.008。联系人：石艺楠，联系电话： 点击查看>> 。研制周期12个月。

包括：WS方镜，采用8轴激光干涉仪对方镜六自由度位移测量，材料要求：进口微晶玻璃、密度2.53g/cm³、杨氏模量E= 点击查看>> Gpa、线性膨胀系数≤0.1×10E^-6/K、泊松比0.243；加工制造要求：尺寸公差0.02～0.2mm详见图纸、反射镀膜面具有较高的形位公差要求、其中ABCD面形位公差0.0001(50nm/100×100)、EFG面形位公差0.0003(20nm/30×30)。RS方镜，提供研磨板的吸附固定及六自由度位移测量，材料要求：进口微晶玻璃、密度2.53g/cm³、杨氏模量E= 点击查看>> Gpa、线性膨胀系数≤0.1×10E^-6/K、泊松比0.243；加工制造要求：尺寸公差0.02～0.1mm详见图纸、RS方镜中测量光栅和掩膜吸附粘面需要较高的形位公差要求、其中AE面形位公差0.001、BD面形位公差0.0004/10和0.0008/20、C面形位公差0.015、F面形位公差0.008。联系人：石艺楠，联系电话： 点击查看>> 。研制周期12个月。