单面光刻机采购

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单面光刻机采购



发布时间:2022-04-12 15:38:39截止时间:2022-04-16 12:00:00
基本信息:


CB 点击查看>>





国产含税

增值税普通发票

人民币



发布竞价结果后7天内签约合同

发布竞价结果后7天内送达

免费上门安装(含材料费)





1.货到安装、调试、验收合格后,付全款。


申购明细:
序号
1
采购内容
单面光刻机
数量
1
预算单价
品牌
不限
型号
不限
规格参数
光波长小于或者等于365nm,4吋片光照均匀性1%,6吋片的光照均匀性2%,曝光量自动或者手动设定,硅片表面光强度40mW/cm^2,或注明胶类型和胶厚度与曝光时间关系,对准精度优于0.5微米,套刻精度优于1.0微米,尽可能高,有效视场22mm*22mm,尽可能大些,有效分辨率优于0.5微米,光源采用汞灯,寿命要高,硅片尺寸为4-6吋,手动上版,可自动检查上版平整度,手动上片,可自动吸气固定硅片,显微 (略) 视场内清晰,符合光刻工艺要求,图像要清晰,不能出现虚像。
质保及售后服务
售后保修2年,质保期后提供长期售后服务,维修只收取配件成本费。


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光波长小于或者等于365nm,4吋片光照均匀性1%,6吋片的光照均匀性2%,曝光量自动或者手动设定,硅片表面光强度40mW/cm^2,或注明胶类型和胶厚度与曝光时间关系,对准精度优于0.5微米,套刻精度优于1.0微米,尽可能高,有效视场22mm*22mm,尽可能大些,有效分辨率优于0.5微米,光源采用汞灯,寿命要高,硅片尺寸为4-6吋,手动上版,可自动检查上版平整度,手动上片,可自动吸气固定硅片,显微 (略) 视场内清晰,符合光刻工艺要求,图像要清晰,不能出现虚像。
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