中南大学-竞价公告(CB119422022002266)
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中南大学-竞价公告(CB119422022002266)
(略) :CB 点击查看>>
申购主题:高真空微纳米薄膜材料制备仪器
采购单位: (略)
报价要求:
发票类型:增值税专用发票
币种:人民币
预算:
签约时间:发布中标结果后15天内签约合同
送货时间:发布竞价结果后60天内送达
安装要求:免费上门安装（含材料费）
收货地址:湖南省/长沙市/岳麓区/点击查看>>*
付款方式:货到验收合格后付款
备注说明:设备必须与采购要求配置完全一致， 如不能满足要求，我单位有权拒收货物并通知相关机构取消此次采购，中标供应商需赔偿由此造成的一切损失。申购明细：
| 序号 | 采购内容 | 数量 | 预算单价 |
| 1 | 高真空微纳米薄膜材料制备仪 | 1.0 | 台 |
| 品牌 | 沈阳科诚 | ||
| 型号 | CK-450 | ||
| 规格参数 | 设备主要技术参数如下：1.设备可制备多种单层或多层金属、合金、氮化物、氧化物等薄膜样品，尤其能实现多靶共溅射及气体反应（如氧气、氮气）溅射功能；2.设备可制备厚度为几纳米到几微米的高质量薄膜样品；3.设备整体品质优良，能长期安全、稳定运行，可靠性好，故障率低；4.溅射室真空度优于5×10-5pa，且真空度保持良好，不会随着使用时间的增加而降低；抽真空速度快；系统漏率优于5×10-7Pa.l/s；5.高薄膜均匀性：制备出的薄膜厚度不均匀度<3%-4%；6.配备2英寸强磁靶4套，射频/直流兼容，均能溅射磁性与非磁性材料；7.每个靶配备直流电源，电源功率不低于500W；8.样品台可放置2英寸（ 点击查看>> mm）基片；9.样品台可加热温度至600 连续可调，控温精度 ，样品台耐高温，加热效率高，加热过程平衡均匀；10.基片接入偏压-200V；11.基片旋转速度可调，转速0～30转／分；12.靶基间距可调范围50 mm以上；13. (略) ：氩气、氧气、氮气；14.机械泵及分子泵噪音小，不影响相邻实验室或办公室人员的工作和学习；15.溅射室配备带防护挡板的观察窗；16.能够稳定、精确地控制和调节工作气压；17.溅射室体积尽量小，有利于快速抽真空和保持真空度；18.溅射靶配备防交叉污染的屏蔽筒与翻盖挡，基片亦配备挡板；19. (略) 件与材料易更换，如靶材、磁铁等；20.具有报警系统：具备对缺水、过流过压、短路、断电等异常情况进行报警并自动执行保护措施的能力，以保障设备的安全运行；21.所有配件与零件（尤其是分子泵）必须保障质量优良，故障率低，必须采用优质可靠的、信誉度高的品牌；22.提供完整的仪器使用培训与详尽的技术咨询；23.提供优质的售后服务；24.其余未尽技术指标与要求则以设备高效、安全、稳定运行及使用便利为目标而设定。 | ||
| 质保及售后服务 | 按行业标准提供服务 | ||
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申购主题:高真空微纳米薄膜材料制备仪器
采购单位: (略)
报价要求:
发票类型:增值税专用发票
币种:人民币
预算:
签约时间:发布中标结果后15天内签约合同
送货时间:发布竞价结果后60天内送达
安装要求:免费上门安装（含材料费）
收货地址:湖南省/长沙市/岳麓区/点击查看>>*
付款方式:货到验收合格后付款
备注说明:设备必须与采购要求配置完全一致， 如不能满足要求，我单位有权拒收货物并通知相关机构取消此次采购，中标供应商需赔偿由此造成的一切损失。申购明细：
| 序号 | 采购内容 | 数量 | 预算单价 |
| 1 | 高真空微纳米薄膜材料制备仪 | 1.0 | 台 |
| 品牌 | 沈阳科诚 | ||
| 型号 | CK-450 | ||
| 规格参数 | 设备主要技术参数如下：1.设备可制备多种单层或多层金属、合金、氮化物、氧化物等薄膜样品，尤其能实现多靶共溅射及气体反应（如氧气、氮气）溅射功能；2.设备可制备厚度为几纳米到几微米的高质量薄膜样品；3.设备整体品质优良，能长期安全、稳定运行，可靠性好，故障率低；4.溅射室真空度优于5×10-5pa，且真空度保持良好，不会随着使用时间的增加而降低；抽真空速度快；系统漏率优于5×10-7Pa.l/s；5.高薄膜均匀性：制备出的薄膜厚度不均匀度<3%-4%；6.配备2英寸强磁靶4套，射频/直流兼容，均能溅射磁性与非磁性材料；7.每个靶配备直流电源，电源功率不低于500W；8.样品台可放置2英寸（ 点击查看>> mm）基片；9.样品台可加热温度至600 连续可调，控温精度 ，样品台耐高温，加热效率高，加热过程平衡均匀；10.基片接入偏压-200V；11.基片旋转速度可调，转速0～30转／分；12.靶基间距可调范围50 mm以上；13. (略) ：氩气、氧气、氮气；14.机械泵及分子泵噪音小，不影响相邻实验室或办公室人员的工作和学习；15.溅射室配备带防护挡板的观察窗；16.能够稳定、精确地控制和调节工作气压；17.溅射室体积尽量小，有利于快速抽真空和保持真空度；18.溅射靶配备防交叉污染的屏蔽筒与翻盖挡，基片亦配备挡板；19. (略) 件与材料易更换，如靶材、磁铁等；20.具有报警系统：具备对缺水、过流过压、短路、断电等异常情况进行报警并自动执行保护措施的能力，以保障设备的安全运行；21.所有配件与零件（尤其是分子泵）必须保障质量优良，故障率低，必须采用优质可靠的、信誉度高的品牌；22.提供完整的仪器使用培训与详尽的技术咨询；23.提供优质的售后服务；24.其余未尽技术指标与要求则以设备高效、安全、稳定运行及使用便利为目标而设定。 | ||
| 质保及售后服务 | 按行业标准提供服务 | ||
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