无掩膜光刻机（又名:无掩膜激光直写系统）

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无掩膜光刻机（又名:无掩膜激光直写系统）

基本信息

项目编号中大招（货）[2022]343号
项目名称中山 (略) 无掩膜光刻机采购项目
项目类型货物采购申购主题无掩膜光刻机（又名: 无掩膜激光直写系统）采购单位中山大学
项目预算采购开始时间2022-08-26 17:33采购结束时间2022-09-02 16:00是否送货是
期望收货时间合同签订后60天交货经办人王老师经办人电话*-808
送货地址中山大学广州校区东校园化材楼
电子签章本项目需要使用CA签字CA操作手册下载
备注1、国内供货请报含税人民币价；境外供货（进口）请报免税人民币价或外币价， (略) 必须有境外人民币收款账户。 2、进口货物中如有国内供货部分，供应商在报价时应分别报价，境外供货部分、国内供货部分的币种选择见第1条，并分别签订进口货物购销协议和国内采购合同；外贸代理费由供应商支付。3、本项目学校不收取任何费用。4、若产生加征关税由供应商负责。5、“★”标注的技术参数为废标条款。 6、本项目采用数字证书，请供应商根据指引（http://**）提前办理CA证书 。

设备列表

采购设备数量参考品牌详细响应要求
无掩膜光刻机（又名: 无掩膜激光直写系统）1台详情请进入系统查看
"无掩膜光刻机（又名: 无掩膜激光直写系统）"技术要求
序号技术要求内容评分等级是否需要附件说明
1 1、主机参数：1、LD或LED激光：405nm, 功率不低于3000 mW，24小时内光源功率稳定性优于5%，可靠工作时间高于8000小时，最小光斑小于0.*@*.5um以下胶厚。 重要 是
2 2、激光直写线宽：*@*um以下胶厚，线宽均匀性优于±10%。提供实际加工样品，封样作为验收评判参照。 重要 是
3 3、▲ 激光直写曝光模式：飞行扫描模式。 非常重要 是
4 4、▲二维平移样品台：工作幅面不小于100mm100mm，XY轴定位分辨率优于40nm，XY轴重复定位精度优于±150nm，真空吸附固定样品。 非常重要 是
5 5、最大直写速度：不小于30mm2/*@*um分辨率。验收时，采用用户提供的图案（幅面50mm50mm）加工涂有AZ5214E的硅片，实际直写速度作为评判参照。 重要 是
6 6、▲ (略) ：CCD动态自动对焦，行程不小于15mm，分辨率优于100nm，Z轴自动对焦精度优于300nm，跟随速度优于2mm/s，具有动态焦深控制能力 非常重要 是
7 7、空间光调制器SLM：DMD，*@*3.68um/10.8um，最高刷新频率 > 10KHz。 重要 是
8 8、▲ 直写加工拼接误差：小于200nm，提供实际加工样品，封样作为验收评判参照。 非常重要 是
9 9、▲特殊直写曝光效果：具有立体浮雕图形和数字全息光刻功能，提供实际加工样品，封样作为验收评判参照。 非常重要 是
10 10、高精度重定位功能：支持CCD读取标靶定位，具有套刻功能。 重要 是
11 11、灰度直写曝光：最小台阶宽度小于2um，支持最大512台阶。；2、附件参数：无；3、软件及其功能：加工控制软件：运动控制+图像下载。光刻图形处理：支持图形格式GDSII、DXF(CAD)、BMP。提供软件源码和技术开发支持。具有立体浮雕图形和数字全息光刻功能；数据文档格式：DXF , GDSII , BMP（单色/256 灰度）。 重要 是

基本信息

项目编号中大招（货）[2022]343号
项目名称中山 (略) 无掩膜光刻机采购项目
项目类型货物采购申购主题无掩膜光刻机（又名: 无掩膜激光直写系统）采购单位中山大学
项目预算采购开始时间2022-08-26 17:33采购结束时间2022-09-02 16:00是否送货是
期望收货时间合同签订后60天交货经办人王老师经办人电话*-808
送货地址中山大学广州校区东校园化材楼
电子签章本项目需要使用CA签字CA操作手册下载
备注1、国内供货请报含税人民币价；境外供货（进口）请报免税人民币价或外币价， (略) 必须有境外人民币收款账户。 2、进口货物中如有国内供货部分，供应商在报价时应分别报价，境外供货部分、国内供货部分的币种选择见第1条，并分别签订进口货物购销协议和国内采购合同；外贸代理费由供应商支付。3、本项目学校不收取任何费用。4、若产生加征关税由供应商负责。5、“★”标注的技术参数为废标条款。 6、本项目采用数字证书，请供应商根据指引（http://**）提前办理CA证书 。

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序号技术要求内容评分等级是否需要附件说明
1 1、主机参数：1、LD或LED激光：405nm, 功率不低于3000 mW，24小时内光源功率稳定性优于5%，可靠工作时间高于8000小时，最小光斑小于0.*@*.5um以下胶厚。 重要 是
2 2、激光直写线宽：*@*um以下胶厚，线宽均匀性优于±10%。提供实际加工样品，封样作为验收评判参照。 重要 是
3 3、▲ 激光直写曝光模式：飞行扫描模式。 非常重要 是
4 4、▲二维平移样品台：工作幅面不小于100mm100mm，XY轴定位分辨率优于40nm，XY轴重复定位精度优于±150nm，真空吸附固定样品。 非常重要 是
5 5、最大直写速度：不小于30mm2/*@*um分辨率。验收时，采用用户提供的图案（幅面50mm50mm）加工涂有AZ5214E的硅片，实际直写速度作为评判参照。 重要 是
6 6、▲ (略) ：CCD动态自动对焦，行程不小于15mm，分辨率优于100nm，Z轴自动对焦精度优于300nm，跟随速度优于2mm/s，具有动态焦深控制能力 非常重要 是
7 7、空间光调制器SLM：DMD，*@*3.68um/10.8um，最高刷新频率 > 10KHz。 重要 是
8 8、▲ 直写加工拼接误差：小于200nm，提供实际加工样品，封样作为验收评判参照。 非常重要 是
9 9、▲特殊直写曝光效果：具有立体浮雕图形和数字全息光刻功能，提供实际加工样品，封样作为验收评判参照。 非常重要 是
10 10、高精度重定位功能：支持CCD读取标靶定位，具有套刻功能。 重要 是
11 11、灰度直写曝光：最小台阶宽度小于2um，支持最大512台阶。；2、附件参数：无；3、软件及其功能：加工控制软件：运动控制+图像下载。光刻图形处理：支持图形格式GDSII、DXF(CAD)、BMP。提供软件源码和技术开发支持。具有立体浮雕图形和数字全息光刻功能；数据文档格式：DXF , GDSII , BMP（单色/256 灰度）。 重要 是

    
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