序号 | 技术要求内容 | 评分等级 | 是否需要附件说明 | 1 | 主机参数1、机械四轴扫描定位系统:机械定位扫描平台具备X/Y/Z/F 四轴定位系统,每个坐标轴均具备闭环电路控制的直流伺服马达扫描平台,Z轴马达台额外叠加高分辨率的XYZ-3轴压电驱动位移系统。 | 重要 | 否 |
2 | 主机参数2、机械四轴扫描定位系统:系统支持的扫描类型具备“样品扫描”、“探针扫描”和“探针与样品共扫描“模式。 | 重要 | 否 |
3 | 主机参数3、机械四轴扫描定位系统:XYZ直流伺服马达扫描系统具备线性光栅位置读取分辨率≤ 2.5 nm ,马达轴扫描分辨率≤10.0 nm,采用4倍过采样处理机制确保位置精确度。Z-轴压电驱动扫描系统具备闭环控制的扫描轴分辨率为≤1.5纳米。 | 重要 | 否 |
4 | ★主机参数4、机械四轴扫描定位系统X/Y/Z/F马达扫描轴最大动态扫描范围X≥100mm, Y≥75mm, Z≥50mm, F (光学聚焦轴) ≥50mm。 | 重要 | 是 |
5 | 主机参数5、机械四轴扫描定位系统XY坐标轴可经由手动调节头额外扩展 X/Y扫描范围至≥±12.0 mm。 | 重要 | 否 |
6 | 主机参数6、机械四轴扫描定位系统具备X/Y/Z/F 四维亚微米便携式独立遥控杆,具有精确/慢速和长距离/快速双模式。 | 重要 | 否 |
7 | 主机参数7、系统无缝集成的微观光学显微镜成像工作站系统:核心光学组件倒置集成于XY马达扫描台的正下方,光学成像对焦由一个电动马达聚焦驱动器(≤5.5nm分辨率,5厘米对焦移动范围)进行精确的数字式调节。 | 重要 | 否 |
8 | 主机参数8、系统无缝集成的微观光学显微镜成像工作站系统:成像光路具备模块化显微镜光路设计,具有临界照明的落射荧光光学元件,光导耦合器,视场调节镜片(用于自由调节入射光斑的大小和视场),以及滤光片立方体和用于连接像机的C型接口适配器。 | 重要 | 否 |
9 | 主机参数9、系统无缝集成的微观光学显微镜成像工作站系统:倒置显微镜具备至少2个不同放大倍数的高级物镜,同时可安装在6孔位物镜盘上,系统标配的物镜具有长工作距离的荧光级物镜,放大倍数≥20倍。 | 重要 | 否 |
10 | 主机参数10、系统无缝集成的微观光学显微镜成像工作站系统具备无缝连接的荧光激发光源系统,包含:荧光激发全波段LED光源,为用户应用适配的多波段荧光滤波片套装,3mm光纤导光管和荧光级CCD相机。 | 重要 | 否 |
11 | 主机参数11、系统无缝集成的微观光学显微镜成像工作站系统具备同步荧光成像与电化学/电生理信号原位集成采集技术,所有同步关联的在线数据都可以在线储存于软件中。 | 重要 | 否 |
12 | 主机参数12、多功能扫描探针显微成像工作站控制器系统支持扫描电化学显微镜(SECM)技术所有已知的扫描模式:(a)自动/手动针尖逼近曲线;(b)2D/3D等高扫描 (自动斜率矫正;用户自定义XYZ扫描轴);(c)2D/3D跳跃式矩阵协议扫描(每一矩阵点可使用任何自定义波形和实验序列);(d)2D/3D等间距扫描(剪切力调制模式/直流调制模式/交流调制模式);(e)2D/3D自定义模版矩阵扫描(3D微观打印/电沉积/电修饰模式);(f)循环同向扫描或循环逆向扫描 (可自定义任何扫描动作组合和循环)。 | 非常重要 | 否 |
13 | 主机参数13、多功能扫描探针显微成像工作站控制器系统控制系统支持扫描电化学显微镜(SECM)技术所有已知的高级成像操作模式:(a)正/负反馈模式(b)产生/收集模式(c)氧还竞争模式(d)表面问询滴定模式(e)AC-SECM模式(f)无氧还媒介物下的直接模式(g)剪切力感应下的非接触式表面形貌追踪模式深度扫描(X/Z Depth Scan)模式。 | 重要 | 否 |
14 | 主机参数14、多功能扫描探针显微成像工作站控制器系统支持高级等间距模式下的剪切力感应驱动机理(进行完全的非接触式扫描):(a)剪切力感应模块内置交流频率锁定放大器,工作频率范围至少涵盖100 KHz 至1 MHz,可控等间距范围涵盖10纳米至5微米(探针与样品之间的可控等间距),激发信号振幅0 V 至2 V (交流正弦波)(b)剪切力感应下的形貌测量系统,可在线同时储存样品的电化学活性电流和高度形貌信息的数据。 可兼容SECM / SICM / SECCM等电化学扫描探针显微镜技术。(c)等间距扫描模式支持跳跃式扫描(针对形貌粗糙具有斜率的样品表面)和非跳跃式扫描功能(针对形貌平滑的样品表面)。 | 重要 | 否 |
15 | 主机参数15、多功能扫描探针显微成像工作站控制器系统支持扫描离子电导显微镜(SICM)技术:(a)支持跳跃式直流调校 以及最新的BM-SICM(偏压调校)高级工作模式。(b)SICM纳米探针的逼近曲线最慢扫速可达到≤10 nm/s ,专门针对纳米探针的优化使用。 | 重要 | 否 |
16 | 主机参数16、多功能扫描探针显微成像工作站控制器系统支持扫描微电化学池显微技术:(a)支持利用单孔或双孔微滴管探针在气相中通过悬浮的微观液滴进行微观物理形貌及纳米表面反应活性的同步成像(b)用户可自定义矩阵跳跃扫描模式下的原位实验序列。 | 重要 | 否 |
17 | 主机参数17、多功能扫描探针显微成像工作站控制器系统支持同步原位荧光成像技术:(a)支持在SECM/SICM的扫描探针显微成像的同时,进行同步原位的高速荧光显微成像实验; 系统提供毫秒级的时间分辨率和精确的多通道信号同步激发/采集/关联,所有同步关联的数据都同步在线储存于软件中。 | 非常重要 | 否 |
18 | 微电极拉制仪参数:1、电脑控制。 2、仪器内部具有二氧化碳激光器,除拉制普通玻璃微电极外,还可拉制石英微电极。3、可编写并存贮≥100个拉制程序。4、提供膜片钳微电极与细胞内记录电极的拉制程序样例。 5、每次拉制都产生两个对称的电极。 6、拉制温度不受限制。7、可进行两次以上的循环拉制。8、能拉制稳定、可靠的尖端≤ 0.03μm 的电极。9、具真空荧光显示。10、拉制程序可写保护锁。 11、质量控制:电镜检测电极尖端变化≤0.1μm。12、用于拉制直径在≥ 0.6mm的玻璃/石英毛坯。 | 重要 | 否 |
19 | 磨针仪参数:1.配备显微镜,目镜≥ 10x,物镜≥ 3x。2.微操纵器上下移动距离≥ 45mm。3.显微镜三维移动,移动距离:X轴≥5mm。4.电极夹持器上配有量角尺,用于测量打磨角度。5.具有垂直打磨适配器。6.具有电极内注水装置,用于防止打磨碎屑的堆积和电极尖端堵塞。 7.玻璃管直径(外径)范围至少覆盖:1-1.5 mm。 8.马达转速范围覆盖:50-2000 rpm。 | 重要 | 否 |
20 | 锻针仪参数:1.目镜:≥15X,含测微尺;物镜:≥5X和35X。总放大倍数:≥75X和525X。 2.显微镜:Y≥30mmX(细微调节旋钮)≥5°,Z(倾斜精细控制旋钮≥3°。3.加热操纵器移动距离:X轴≥10mm;4.移液器操纵器X≥10mm; 5.玻璃管直径(外径)范围至少覆盖:1-1.5mm。 | 重要 | 否 |
21 | 配置清单:1、机械扫描平台升级一台,2、集成倒置显微镜一台,3、相关线路及配件一套,4、微电极拉制仪一台,5、磨针仪一台,6、锻针仪一台。 | 非常重要 | 是 |
22 | 售后服务及培训:免费安装培训,同时对主机提供质量保证售后服务。培训要求:培训内容包括但不限于仪器的原理、仪器的使用操作、仪器的软件操作及数据分析、仪器的简单维护及保养。 | 重要 | 否 |