天津大学-竞价公告(CB100562022001478)
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天津大学-竞价公告(CB100562022001478)
申购单号:CB*
申购主题:溅射薄膜趁机系统
采购单位:天津大学
报价要求:
发票类型:增值税专用发票
币种:人民币
预算:
签约时间:发布竞价结果后7天内签约合同
送货时间:合同签订后7天内送达
安装要求:免费上门安装（含材料费）
收货地址: (略) /市辖区/南开区/点击查看>>*
付款方式:国内：合同签订后预付全款或货到验收合格后付全款。
备注说明:22DK*申购明细：
| 序号 | 采购内容 | 数量 | 预算单价 |
| 1 | 溅射薄膜趁机系统 | 1.0 | |
| 品牌 | 沈阳科仪 | ||
| 型号 | PVD-2.3 | ||
| 规格参数 | 国内：人民币含税价品牌：沈阳科仪型号：PVD-2.31、 溅射薄膜控制系统，实现真空镀膜设备的控制。通过控制真空室中的气压及溅射功率,就能获得稳定的沉积速率,通过精确地控制镀膜时间,容易获得均匀的高精度的膜厚,且重复性好，用于制备：Au、Ag、Pt、W、Mo、Ta、Ti、Al、Si、Cu、Fe、Ni、氧化铝、氧化钛、氧化锆、ITO、AZO、氮化钽、氮化钛等。2、 复合真空计1套，测量压力范围：1x105Pa-1x10-5Pa。3、 直流溅射电源2套，输出功率：0-500W。4、 射频溅射电源1套，输出功率：0-500W，输出频率：13.56MHz，全自动匹配。5、 基片台加热电源，加热温度800℃±1℃，基片控制电源，基片自转速度：5～20转/分。6、 气体流量控制器1套，控制气体：氩气：0-200SCCM（准确度：±1.5%F.S）、氧气：0-100SCCM（准确度：±1.5%F.S）7、 分子泵控制器1套。8、 薄膜规显示仪1套，规格13.3pa。9、 磁控靶及样品挡板控制电源1套。 | ||
| 质保及售后服务 | 按行业标准提供服务（提供本地化安装调试及售后服务） | ||
申购单号:CB*
申购主题:溅射薄膜趁机系统
采购单位:天津大学
报价要求:
发票类型:增值税专用发票
币种:人民币
预算:
签约时间:发布竞价结果后7天内签约合同
送货时间:合同签订后7天内送达
安装要求:免费上门安装（含材料费）
收货地址: (略) /市辖区/南开区/点击查看>>*
付款方式:国内：合同签订后预付全款或货到验收合格后付全款。
备注说明:22DK*申购明细：
| 序号 | 采购内容 | 数量 | 预算单价 |
| 1 | 溅射薄膜趁机系统 | 1.0 | |
| 品牌 | 沈阳科仪 | ||
| 型号 | PVD-2.3 | ||
| 规格参数 | 国内：人民币含税价品牌：沈阳科仪型号：PVD-2.31、 溅射薄膜控制系统，实现真空镀膜设备的控制。通过控制真空室中的气压及溅射功率,就能获得稳定的沉积速率,通过精确地控制镀膜时间,容易获得均匀的高精度的膜厚,且重复性好，用于制备：Au、Ag、Pt、W、Mo、Ta、Ti、Al、Si、Cu、Fe、Ni、氧化铝、氧化钛、氧化锆、ITO、AZO、氮化钽、氮化钛等。2、 复合真空计1套，测量压力范围：1x105Pa-1x10-5Pa。3、 直流溅射电源2套，输出功率：0-500W。4、 射频溅射电源1套，输出功率：0-500W，输出频率：13.56MHz，全自动匹配。5、 基片台加热电源，加热温度800℃±1℃，基片控制电源，基片自转速度：5～20转/分。6、 气体流量控制器1套，控制气体：氩气：0-200SCCM（准确度：±1.5%F.S）、氧气：0-100SCCM（准确度：±1.5%F.S）7、 分子泵控制器1套。8、 薄膜规显示仪1套，规格13.3pa。9、 磁控靶及样品挡板控制电源1套。 | ||
| 质保及售后服务 | 按行业标准提供服务（提供本地化安装调试及售后服务） | ||
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