离子溅射仪（高真空版)

内容
 
发送至邮箱

离子溅射仪（高真空版)

基本信息：
申购单主题：离子溅射仪（高真空版)
申购单类型：竞价类
设备类别：仪器设备
使用币种：人民币
小额采购开始时间：2023-03-21 17:56
小额采购结束时间：2023-03-28 14:33 我要报价
申购备注：
申购设备详情：
设备名称数量单位品牌型号是否标配 (免费送货上门安装及调试)售后服务规格配置附件
离子溅射仪（高真空版)1套速普ISC150T+RTSS75是按行业标准提供服务1.采用磁控溅射方式进行常温溅射，以确保工作过程中样品不会发生热损伤；2.采用单片机作为处理器，全自主知识产权3.7英寸触摸式液晶显示屏，分辨率为*，全数字显示；3.1可设定：工作气压，溅射功率，溅射时长，进气流量等参数；3.2可显示：实时真空度，设备运行时间，溅射时间，溅射功率，泵组运转实时温度，实时进气流量等参数；4. 溅射电源：恒功率磁控 DC 溅射电源 1~30W可调，最小步长1W；5.溅射时长：1~600s连续可调，最小步长1s；6.溅射靶材：标配为高纯钨靶，纯度（4N9），规格为φ500.1~2mm；7.真空腔室：采用耐热玻璃腔体，尺寸φ*mm，可选配自动旋转偏转样品台；8.真空泵组：无油干泵+分子泵组；9.泵组抽速：>0.3 m3/h隔膜泵+25 L/S分子泵；10.极限真空：<10E-3 Pa；11.工作气压：0.5-2 Pa；12.抽真空时间：<5 min；13.真空规：皮拉尼真空计，测量范围大气压到10E-3 Pa；14.气体控制：MFC气体质量流量控制器（50 SCCM Ar）；15.磁控溅射源：带手动挡板，支持溅射贵金属Au/Pt等，也可溅射Cr、Ag、W等常规金属（通Ar气），同样支持喷C；16.功耗：<500 W；17.冷却方式：风冷旋转偏转样品台1.全铝材料腔体结构设计，有可视窗2.腔体尺寸 φ*~120mm 3.主要功能：公自转旋转-倾斜可调旋转样品台4.控制方式：旋钮5.转台直径：~75mm6.公转速度：10~60RPM 7.偏转角度：-40°~+40° 无
基本信息：
申购单主题：离子溅射仪（高真空版)
申购单类型：竞价类
设备类别：仪器设备
使用币种：人民币
小额采购开始时间：2023-03-21 17:56
小额采购结束时间：2023-03-28 14:33 我要报价
申购备注：
申购设备详情：
设备名称数量单位品牌型号是否标配 (免费送货上门安装及调试)售后服务规格配置附件
离子溅射仪（高真空版)1套速普ISC150T+RTSS75是按行业标准提供服务1.采用磁控溅射方式进行常温溅射，以确保工作过程中样品不会发生热损伤；2.采用单片机作为处理器，全自主知识产权3.7英寸触摸式液晶显示屏，分辨率为*，全数字显示；3.1可设定：工作气压，溅射功率，溅射时长，进气流量等参数；3.2可显示：实时真空度，设备运行时间，溅射时间，溅射功率，泵组运转实时温度，实时进气流量等参数；4. 溅射电源：恒功率磁控 DC 溅射电源 1~30W可调，最小步长1W；5.溅射时长：1~600s连续可调，最小步长1s；6.溅射靶材：标配为高纯钨靶，纯度（4N9），规格为φ500.1~2mm；7.真空腔室：采用耐热玻璃腔体，尺寸φ*mm，可选配自动旋转偏转样品台；8.真空泵组：无油干泵+分子泵组；9.泵组抽速：>0.3 m3/h隔膜泵+25 L/S分子泵；10.极限真空：<10E-3 Pa；11.工作气压：0.5-2 Pa；12.抽真空时间：<5 min；13.真空规：皮拉尼真空计，测量范围大气压到10E-3 Pa；14.气体控制：MFC气体质量流量控制器（50 SCCM Ar）；15.磁控溅射源：带手动挡板，支持溅射贵金属Au/Pt等，也可溅射Cr、Ag、W等常规金属（通Ar气），同样支持喷C；16.功耗：<500 W；17.冷却方式：风冷旋转偏转样品台1.全铝材料腔体结构设计，有可视窗2.腔体尺寸 φ*~120mm 3.主要功能：公自转旋转-倾斜可调旋转样品台4.控制方式：旋钮5.转台直径：~75mm6.公转速度：10~60RPM 7.偏转角度：-40°~+40° 无
    
查看详情》
相关推荐
 

招投标大数据

查看详情

收藏

首页

搜索

最近搜索

无

热门搜索

无