电子科技大学-竞价公告(CB106142023000016)
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电子科技大学-竞价公告(CB106142023000016)
申购单号:CB*
申购主题:SG*高真空磁控溅射薄膜沉积系统
采购单位:电子科技大学
报价要求:
发票类型:增值税专用发票
币种:人民币
预算:*.0
签约时间:发布竞价结果后7天内签约合同
送货时间:合同签订后120天内送达
安装要求:免费上门安装（含材料费）
收货地址: (略) / (略) /郫都区/点击查看>>*
付款方式:货到验收合格后付款
备注说明:申购明细：
| 序号 | 采购内容 | 数量 | 预算单价 |
| 1 | SG*高真空磁控溅射薄膜沉积系统 | 1.0 | *.0 |
| 品牌 | |||
| 型号 | |||
| 规格参数 | 设备功能：（1）主要应用在冶金、半导体、光伏领域；可以镀制金属、化合物、复合膜、介质膜等；（2）镀膜指标：可实现2英寸样品镀制氮化镓膜5μm，均匀性±5%；金刚石膜1mm，均匀性±3%；且需保证能沉积得到质量较高的氧化物薄膜。设备构造：设备需包括溅射真空室、磁控溅射靶、旋转加热基片台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及 电控系统等部分，且需要有4个溅射靶位，有预真空室，2个直流源，2个射频源，且射频溅射与直流溅射兼容，靶内有水冷，向上溅射成膜；基片本身可加热且最高温度能达到600度，能垂直向斜上溅射，靶与样品距离90～130mm可调，并有调位距离指示；450腔体能实现4靶公溅。极限指标： (1) 溅射室极限真空度：≤6.67X10^(-6) Pa (经烘烤除气后); (2)系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气：溅射室40分钟真空度可达到6.6X10^(-4) Pa； (3)溅射室停泵关机12小时后真空度：≤5Pa； | ||
| 质保及售后服务 | 最终验收合格后一年内由*方负责免费维修设备正常使用出现的故障；非正常使用出现的故障，*方维修需要核收工本费；一年后的终身维修*方核收差旅费和工本费。 | ||
申购单号:CB*
申购主题:SG*高真空磁控溅射薄膜沉积系统
采购单位:电子科技大学
报价要求:
发票类型:增值税专用发票
币种:人民币
预算:*.0
签约时间:发布竞价结果后7天内签约合同
送货时间:合同签订后120天内送达
安装要求:免费上门安装（含材料费）
收货地址: (略) / (略) /郫都区/点击查看>>*
付款方式:货到验收合格后付款
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| 1 | SG*高真空磁控溅射薄膜沉积系统 | 1.0 | *.0 |
| 品牌 | |||
| 型号 | |||
| 规格参数 | 设备功能：（1）主要应用在冶金、半导体、光伏领域；可以镀制金属、化合物、复合膜、介质膜等；（2）镀膜指标：可实现2英寸样品镀制氮化镓膜5μm，均匀性±5%；金刚石膜1mm，均匀性±3%；且需保证能沉积得到质量较高的氧化物薄膜。设备构造：设备需包括溅射真空室、磁控溅射靶、旋转加热基片台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及 电控系统等部分，且需要有4个溅射靶位，有预真空室，2个直流源，2个射频源，且射频溅射与直流溅射兼容，靶内有水冷，向上溅射成膜；基片本身可加热且最高温度能达到600度，能垂直向斜上溅射，靶与样品距离90～130mm可调，并有调位距离指示；450腔体能实现4靶公溅。极限指标： (1) 溅射室极限真空度：≤6.67X10^(-6) Pa (经烘烤除气后); (2)系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气：溅射室40分钟真空度可达到6.6X10^(-4) Pa； (3)溅射室停泵关机12小时后真空度：≤5Pa； | ||
| 质保及售后服务 | 最终验收合格后一年内由*方负责免费维修设备正常使用出现的故障；非正常使用出现的故障，*方维修需要核收工本费；一年后的终身维修*方核收差旅费和工本费。 | ||
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