高真空电阻蒸发镀膜设备采购
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高真空电阻蒸发镀膜设备采购
| 项目名称 | 高真空电阻蒸发镀膜设备 | 项目编号 | GY* |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 2024-06-12 15:04:13 | 公告截止日期 | 2024-06-17 16:00:00 |
| 采购单位 | 化 (略) | 付款方式 | 货到验收合格后付款 |
| 联系人 | 成交后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 成交后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 到货时间要求 | 签订合同后60天 | |
| 预算总价 | ￥ *.00 | ||
| 发票要求 | |||
| 收货地址 | 山东大学 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 高真空电阻蒸发镀膜设备 | 1 | 台 | 电气物理设备 |
| 品牌 | 北京 (略) |
|---|---|
| 型号 | VZZ-400 |
| 预算单价 | ￥ *.00 |
| 技术参数及配置要求 | 1) 真空腔室： Φ400×H500mm； 2) 真空极限：优于 2.5×10-5Pa； 3) 抽速：分子泵完全启动，抽至 4.0×10-4Pa≤15min； 4) 基片台尺寸：最大可镀基片尺寸/面积： 112×112mm，该范围内可装卡 15～25mm 方形 ITO/FTO 玻璃/硅片 16～25 片；样品台配有气动挡板，磁流体密封；样品台旋转：旋转速度 0-25 转/分连续可调，磁流体密封，光控定位，设定在前门中 心位置方便取样；样品掩膜：提供一块掩膜板（掩膜图案客户提供）；样品台水冷： 采用基片台背板通冷却循环水强制水冷； 5) 蒸发源及电源：安装 4 组蒸发源，其中 3 组舟式/挂丝式金属蒸发源， 1 组束源炉式有机蒸发源；金属用蒸发电源： 2.2Kw 1 台；有机源用蒸发电源： 1 组温控型电源，最高加热温度 600℃； 6) 膜厚监控：采用薄膜沉积监控仪在线监测蒸镀速率、自控膜厚； 7) 控制方式： PLC 手自动控制，触摸屏操作； 8) 特别定制：掩膜板一块 |
| 售后服务 | (略) 点:当地;质保期限:2年;响应期限:报修后24小时; |
2024-06-12 15:04:13
| 项目名称 | 高真空电阻蒸发镀膜设备 | 项目编号 | GY* |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 2024-06-12 15:04:13 | 公告截止日期 | 2024-06-17 16:00:00 |
| 采购单位 | 化 (略) | 付款方式 | 货到验收合格后付款 |
| 联系人 | 成交后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 成交后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 到货时间要求 | 签订合同后60天 | |
| 预算总价 | ￥ *.00 | ||
| 发票要求 | |||
| 收货地址 | 山东大学 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 高真空电阻蒸发镀膜设备 | 1 | 台 | 电气物理设备 |
| 品牌 | 北京 (略) |
|---|---|
| 型号 | VZZ-400 |
| 预算单价 | ￥ *.00 |
| 技术参数及配置要求 | 1) 真空腔室： Φ400×H500mm； 2) 真空极限：优于 2.5×10-5Pa； 3) 抽速：分子泵完全启动，抽至 4.0×10-4Pa≤15min； 4) 基片台尺寸：最大可镀基片尺寸/面积： 112×112mm，该范围内可装卡 15～25mm 方形 ITO/FTO 玻璃/硅片 16～25 片；样品台配有气动挡板，磁流体密封；样品台旋转：旋转速度 0-25 转/分连续可调，磁流体密封，光控定位，设定在前门中 心位置方便取样；样品掩膜：提供一块掩膜板（掩膜图案客户提供）；样品台水冷： 采用基片台背板通冷却循环水强制水冷； 5) 蒸发源及电源：安装 4 组蒸发源，其中 3 组舟式/挂丝式金属蒸发源， 1 组束源炉式有机蒸发源；金属用蒸发电源： 2.2Kw 1 台；有机源用蒸发电源： 1 组温控型电源，最高加热温度 600℃； 6) 膜厚监控：采用薄膜沉积监控仪在线监测蒸镀速率、自控膜厚； 7) 控制方式： PLC 手自动控制，触摸屏操作； 8) 特别定制：掩膜板一块 |
| 售后服务 | (略) 点:当地;质保期限:2年;响应期限:报修后24小时; |
2024-06-12 15:04:13
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