高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统采购

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高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统采购


高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统(A-WZBX1016)采购公告
发布时间:2024-08-12 16:46:26阅读量:11

项目名称高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统项目编号A-WZBX1016
公告开始日期2024-08-12 16:46:26公告截止日期2024-08-15 18:00:00
采购单位萨本栋微米纳米科 (略) 付款方式
联系人成交后在我参与的项目中查看联系电话成交后在我参与的项目中查看
签约时间要求到货时间要求签约后30个工作日内
预算总价¥ *.00
发票要求
收货地址厦门大学亦玄馆
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件




采购清单1
采购商品采购数量计量单位所属分类
高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统1

预算单价¥ *.00
技术参数及配置要求极限真空度:≤6.6*10-6Pa(经烘烤除气后)
抽速:从大气开始抽气20分钟可达到 8*10-4Pa
保压性能:系统停泵关机12小时后真空度≤10Pa
真空室:尺寸Ф450mm;石英玻璃窗口:RF63,1块(可透过紫外248nm波段的JGS1石英玻
璃,供激光入射使用)。
旋转靶台:一次可以同时安装4块靶材,靶材最大尺寸Φ60mm;每块靶材可实现自转,转速 5~30 转/分,连续可调,并显示转速;靶位公转换位机构,PLC 控制,编码器控制旋转精度,精度1°,可进行靶摆动,提高靶材利用率;靶材屏蔽罩将4块靶材屏蔽,每次只有一个靶材露出溅射成膜,以避免靶材之间的交叉污染。
基片加热台:可放置一片φ2″基片;加热炉最高温度800℃±1℃,由热电偶闭环反馈控制;基片可连续回转,转速5~20转/分,电机驱动磁耦合机构控制;基片与靶台之间距离30~90mm可调,由腔外手动波纹管调节机构控制。
售后服务商品承诺:送货上门/安装调试/技术培训;本次招标要求投标人承诺对所投设备(货物)至少免费保修两年,本项目质保期自项目验收合格之日起开始计算,所需的费用应包含在投标报价中,并承诺保修期内免费上门维护(包含免费维修及免费更换货物服务)。投标的产品投标人应提售后服务条款说明书,并提供本地化售后服务有关证明文件及名称、地址、联系人、联系电话。;

2024-08-12 16:46:26


高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统(A-WZBX1016)采购公告
发布时间:2024-08-12 16:46:26阅读量:11

项目名称高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统项目编号A-WZBX1016
公告开始日期2024-08-12 16:46:26公告截止日期2024-08-15 18:00:00
采购单位萨本栋微米纳米科 (略) 付款方式
联系人成交后在我参与的项目中查看联系电话成交后在我参与的项目中查看
签约时间要求到货时间要求签约后30个工作日内
预算总价¥ *.00
发票要求
收货地址厦门大学亦玄馆
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件




采购清单1
采购商品采购数量计量单位所属分类
高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统1

预算单价¥ *.00
技术参数及配置要求极限真空度:≤6.6*10-6Pa(经烘烤除气后)
抽速:从大气开始抽气20分钟可达到 8*10-4Pa
保压性能:系统停泵关机12小时后真空度≤10Pa
真空室:尺寸Ф450mm;石英玻璃窗口:RF63,1块(可透过紫外248nm波段的JGS1石英玻
璃,供激光入射使用)。
旋转靶台:一次可以同时安装4块靶材,靶材最大尺寸Φ60mm;每块靶材可实现自转,转速 5~30 转/分,连续可调,并显示转速;靶位公转换位机构,PLC 控制,编码器控制旋转精度,精度1°,可进行靶摆动,提高靶材利用率;靶材屏蔽罩将4块靶材屏蔽,每次只有一个靶材露出溅射成膜,以避免靶材之间的交叉污染。
基片加热台:可放置一片φ2″基片;加热炉最高温度800℃±1℃,由热电偶闭环反馈控制;基片可连续回转,转速5~20转/分,电机驱动磁耦合机构控制;基片与靶台之间距离30~90mm可调,由腔外手动波纹管调节机构控制。
售后服务商品承诺:送货上门/安装调试/技术培训;本次招标要求投标人承诺对所投设备(货物)至少免费保修两年,本项目质保期自项目验收合格之日起开始计算,所需的费用应包含在投标报价中,并承诺保修期内免费上门维护(包含免费维修及免费更换货物服务)。投标的产品投标人应提售后服务条款说明书,并提供本地化售后服务有关证明文件及名称、地址、联系人、联系电话。;

2024-08-12 16:46:26

    
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