多靶磁控溅射镀膜系统采购

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多靶磁控溅射镀膜系统采购


多靶磁控溅射镀膜系统（XF-WSBX-2400434）采购公告
发布时间：2024-09-11 10:56:18阅读量：21 次

项目名称多靶磁控溅射镀膜系统项目编号XF-WSBX-*
公告开始日期2024-09-11 10:56:18公告截止日期2024-09-18 12:00:00
采购单位浙江大学付款方式货到付款，*方在到货验收后15日内向*方一次性支付本项目的总额
联系人成交后在我参与的项目中查看联系电话成交后在我参与的项目中查看
签约时间要求成交后3个工作日内到货时间要求成交后2个工作日内
预算总价￥ *.00
发票要求增值税普通发票
收货地址浙江大学西溪校 (略) 328
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件




采购清单1
采购商品采购数量计量单位所属分类
多靶磁控溅射镀膜系统1台电子工业生产设备

预算单价￥ *.00
技术参数及配置要求1.腔体采用SUS304不锈钢制作，镀膜室内净尺寸: L440×W400×H450；方箱式，前、后开门，前门平开式，后门为侧开式。与手套箱对接，设备设计总尺寸不的超过1200*850*1810mm。
2.采用“复合分子泵+直联旋片泵+高真空阀门”组合的高真空系统；KYKY分子泵 FF200/1300，抽速：1300L/S，北仪优成旋片式机械泵：型号：TRP-36，抽速：9L/S。
3.真空极限：6.0×10-5Pa（空载，经烘烤除气后）；
4.成都睿宝数显复合真空计：两低一高，含两个电阻规，一个电离规，测量范围从1×105Pa到1×10-5Pa；
5.漏率：≤0.8Pa/h；
6.抽速：（空载）从大气抽至8.0×10-4Pa≤30min；
7.基片台尺寸：圆形基片台结构，可承载最大120×120mm 基片，基片台磁流体密封，电机驱动；
8.基片旋转：0～30 转/分钟；
9.基片加热：室温～500±1℃，可控可调；
10.工作方式：各靶可独立/顺次/共同工作，采用磁控靶从下向上溅射镀膜；
11.膜厚不均匀性≤±5%（Φ100mm范围内）；
12.七星华创质量流量控制器：Ar、O2各一个；量程范围Ar为：0～100sccm/O2为：0~20sccm
13.控制方式：PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统；
14.报警及保护：对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施，完善的逻辑程序互锁保护系统。
15.溅射靶：配2只3英寸靶，3英寸永磁共焦磁控溅射靶（溅射靶角度可调），永磁间接水冷式，支持直流、射频电源溅射；靶角度、高度可调，配挡板；靶基距调整范围80～110mm，方便调整掌握最佳镀膜距离。可溅射磁性材料，磁性材料厚度2㎜，非磁性材料厚度5㎜；预留一个磁控溅射靶位
16.直流脉冲溅射电源1kW一台，数字化控制及显示；
17.射频电源 500W一套，含自动匹配器。
18.自动恒压系统，由电动限流阀 Φ200㎜和进口英福康薄膜规组成，有利于工作压力恒定，节约用气，镀膜工艺控制稳定；（含一直薄膜规）
19.配备丹耐斯DNC-2A型循环水机和TYW-II型空气压缩机。
20.机架控制柜：可以整体移动、安装，底下配脚轮，方便移动、定位；
售后服务 (略) 点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:1年;服务时限:报修后48小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品;

浙江大学

2024-09-11 10:56:18


多靶磁控溅射镀膜系统（XF-WSBX-2400434）采购公告
发布时间：2024-09-11 10:56:18阅读量：21 次

项目名称多靶磁控溅射镀膜系统项目编号XF-WSBX-*
公告开始日期2024-09-11 10:56:18公告截止日期2024-09-18 12:00:00
采购单位浙江大学付款方式货到付款，*方在到货验收后15日内向*方一次性支付本项目的总额
联系人成交后在我参与的项目中查看联系电话成交后在我参与的项目中查看
签约时间要求成交后3个工作日内到货时间要求成交后2个工作日内
预算总价￥ *.00
发票要求增值税普通发票
收货地址浙江大学西溪校 (略) 328
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件




采购清单1
采购商品采购数量计量单位所属分类
多靶磁控溅射镀膜系统1台电子工业生产设备

预算单价￥ *.00
技术参数及配置要求1.腔体采用SUS304不锈钢制作，镀膜室内净尺寸: L440×W400×H450；方箱式，前、后开门，前门平开式，后门为侧开式。与手套箱对接，设备设计总尺寸不的超过1200*850*1810mm。
2.采用“复合分子泵+直联旋片泵+高真空阀门”组合的高真空系统；KYKY分子泵 FF200/1300，抽速：1300L/S，北仪优成旋片式机械泵：型号：TRP-36，抽速：9L/S。
3.真空极限：6.0×10-5Pa（空载，经烘烤除气后）；
4.成都睿宝数显复合真空计：两低一高，含两个电阻规，一个电离规，测量范围从1×105Pa到1×10-5Pa；
5.漏率：≤0.8Pa/h；
6.抽速：（空载）从大气抽至8.0×10-4Pa≤30min；
7.基片台尺寸：圆形基片台结构，可承载最大120×120mm 基片，基片台磁流体密封，电机驱动；
8.基片旋转：0～30 转/分钟；
9.基片加热：室温～500±1℃，可控可调；
10.工作方式：各靶可独立/顺次/共同工作，采用磁控靶从下向上溅射镀膜；
11.膜厚不均匀性≤±5%（Φ100mm范围内）；
12.七星华创质量流量控制器：Ar、O2各一个；量程范围Ar为：0～100sccm/O2为：0~20sccm
13.控制方式：PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统；
14.报警及保护：对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施，完善的逻辑程序互锁保护系统。
15.溅射靶：配2只3英寸靶，3英寸永磁共焦磁控溅射靶（溅射靶角度可调），永磁间接水冷式，支持直流、射频电源溅射；靶角度、高度可调，配挡板；靶基距调整范围80～110mm，方便调整掌握最佳镀膜距离。可溅射磁性材料，磁性材料厚度2㎜，非磁性材料厚度5㎜；预留一个磁控溅射靶位
16.直流脉冲溅射电源1kW一台，数字化控制及显示；
17.射频电源 500W一套，含自动匹配器。
18.自动恒压系统，由电动限流阀 Φ200㎜和进口英福康薄膜规组成，有利于工作压力恒定，节约用气，镀膜工艺控制稳定；（含一直薄膜规）
19.配备丹耐斯DNC-2A型循环水机和TYW-II型空气压缩机。
20.机架控制柜：可以整体移动、安装，底下配脚轮，方便移动、定位；
售后服务 (略) 点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:1年;服务时限:报修后48小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品;

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