光刻机用显微模块

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光刻机用显微模块

项目名称 光刻机用显微模块 项目编号 XJD*
公告开始日期 2024-09-14 11:42:56 公告截止日期 2024-09-17 12:00:00
采购单位 西安交通大学 付款方式 货到安装、调试、验收合格后,付全款。
签约时间要求 发布竞价结果后7天内签订合同 到货时间要求 发布竞价结果后7天内送达
预算总价 币种 人民币
收货地址 (略) 秦都区
供应商资质要求
采购清单 1
采购商品 采购数量 计量单位 附件
光刻机用显微模块 1.00
品牌
型号
预算单价
规格参数 曝光参数: 1.光源:390 nm 2.数字掩模板分辨率:1920 × 1080 3.观测镜头:2.6 mm × 1.7 mm 4.光刻镜头1:最小线宽0.8 μm,工作距离9 mm 5.光刻镜头2:最小线宽0.4 μm,工作距离5 mm 6.照明光源:支持显微观测且不会引起光刻胶变性 7.套刻精度:套刻精度5 mm x 5 mm:350 nm套刻精度50 mm x 50 mm:700 nm(全局畸变矫正算法)
售后服务 按行业标准提供服务,质保期12个月。
,陕西, (略) ,秦都区,西安,咸阳
项目名称 光刻机用显微模块 项目编号 XJD*
公告开始日期 2024-09-14 11:42:56 公告截止日期 2024-09-17 12:00:00
采购单位 西安交通大学 付款方式 货到安装、调试、验收合格后,付全款。
签约时间要求 发布竞价结果后7天内签订合同 到货时间要求 发布竞价结果后7天内送达
预算总价 币种 人民币
收货地址 (略) 秦都区
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规格参数 曝光参数: 1.光源:390 nm 2.数字掩模板分辨率:1920 × 1080 3.观测镜头:2.6 mm × 1.7 mm 4.光刻镜头1:最小线宽0.8 μm,工作距离9 mm 5.光刻镜头2:最小线宽0.4 μm,工作距离5 mm 6.照明光源:支持显微观测且不会引起光刻胶变性 7.套刻精度:套刻精度5 mm x 5 mm:350 nm套刻精度50 mm x 50 mm:700 nm(全局畸变矫正算法)
售后服务 按行业标准提供服务,质保期12个月。
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