刻蚀气体供气及尾气处理装置
刻蚀气体供气及尾气处理装置
项目名称 | 刻蚀气体供气及尾气处理装置 | 项目编号 | XJD* |
---|---|---|---|
公告开始日期 | 2024-09-19 16:06:36 | 公告截止日期 | 2024-09-23 12:00:00 |
采购单位 | 西安交通大学 | 付款方式 | 货到安装、调试、验收合格后,付全款。 |
签约时间要求 | 发布竞价结果后7天内签订合同 | 到货时间要求 | 发布竞价结果后7天内送达 |
预算总价 | 币种 | 人民币 | |
收货地址 | (略) 秦都区 | ||
供应商资质要求 | 无 |
采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 附件 |
---|---|---|---|
刻蚀气体供气及尾气处理装置 | 1.00 | 无 |
品牌 | 创世威纳 |
---|---|
型号 | 无 |
预算单价 | |
规格参数 | 1、主要功能 可为反应离子刻蚀机提供安全的工艺气体供气系统以及尾气处理排放。 2、主要技术指标 2.1气瓶柜规格:1200mm 1200mm450mm 2.2可装载气瓶高度1:≥700mm 2.3可装载气瓶直径1:≥400mm 2.4可装载气瓶高度2:≥1500mm 2.5可装载气瓶直径1:≥400mm 2.6可装载气瓶数量:≥3瓶 2.7气体减压阀气压输入:≥25Mpa 2.8气体减压阀气压输出:≥1Mpa 2.9气体减压阀输入接口:G5/8RF 2.10气体减压阀输出接口:1/4卡套 2.11气体纯度:99.999 2.12尾气处理效率:>98.5% 2.13适用气体:HCL,NH3,CL2,BCL3,SICL4,SIH 2CL2,SIHCL3,ETC 3、主要配置 3.1特气气瓶柜,3瓶装,1套 3.2普气气瓶柜,3瓶装,1套 3.3普气减压表:3套 3.4特气减压表:3套 3.5 SF6、CHF3、CF4气体,各1瓶 3.6 O2、Ar、N2气体,各1瓶 3.7尾气处理系统,1套 3.8上 (略) 以及附属配套的安装。 |
售后服务 | 按行业标准提供服务,质保期12个月。 |
项目名称 | 刻蚀气体供气及尾气处理装置 | 项目编号 | XJD* |
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公告开始日期 | 2024-09-19 16:06:36 | 公告截止日期 | 2024-09-23 12:00:00 |
采购单位 | 西安交通大学 | 付款方式 | 货到安装、调试、验收合格后,付全款。 |
签约时间要求 | 发布竞价结果后7天内签订合同 | 到货时间要求 | 发布竞价结果后7天内送达 |
预算总价 | 币种 | 人民币 | |
收货地址 | (略) 秦都区 | ||
供应商资质要求 | 无 |
采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 附件 |
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刻蚀气体供气及尾气处理装置 | 1.00 | 无 |
品牌 | 创世威纳 |
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型号 | 无 |
预算单价 | |
规格参数 | 1、主要功能 可为反应离子刻蚀机提供安全的工艺气体供气系统以及尾气处理排放。 2、主要技术指标 2.1气瓶柜规格:1200mm 1200mm450mm 2.2可装载气瓶高度1:≥700mm 2.3可装载气瓶直径1:≥400mm 2.4可装载气瓶高度2:≥1500mm 2.5可装载气瓶直径1:≥400mm 2.6可装载气瓶数量:≥3瓶 2.7气体减压阀气压输入:≥25Mpa 2.8气体减压阀气压输出:≥1Mpa 2.9气体减压阀输入接口:G5/8RF 2.10气体减压阀输出接口:1/4卡套 2.11气体纯度:99.999 2.12尾气处理效率:>98.5% 2.13适用气体:HCL,NH3,CL2,BCL3,SICL4,SIH 2CL2,SIHCL3,ETC 3、主要配置 3.1特气气瓶柜,3瓶装,1套 3.2普气气瓶柜,3瓶装,1套 3.3普气减压表:3套 3.4特气减压表:3套 3.5 SF6、CHF3、CF4气体,各1瓶 3.6 O2、Ar、N2气体,各1瓶 3.7尾气处理系统,1套 3.8上 (略) 以及附属配套的安装。 |
售后服务 | 按行业标准提供服务,质保期12个月。 |
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