1.真空腔室：SUS304不锈钢，Φ550×H750mm，双层水冷，立式前开门结构；真空室内表面及防污板抛光至镜面，前门采用锻铝材质；2.真空系统：复合分子泵（抽速：2000 L/s）+直联旋片泵（抽速14L/s）；“两低一高”数显复合真空计（测量范围：1×105 Pa～1×10-5Pa）；3.真空极限：优于3.0×10-5Pa；4.抽速：抽至10-4Pa≤30min；5.基片台：标配：平板式基片台；抽屉式结构，基片托尺寸：160×160mm，该范围内可装卡各种规格的样品/基片；基片台配有气动挡板，磁流体密封；基片台旋转：旋转速度0-25转/分连续可调，磁流体密封，光控定位，设定在前门中心位置方便取样；基片掩膜：提供一块掩膜板（掩膜图案客户提供）；6.腔室开孔：根据客户要求开具相应接口，包括但不限于：CF250分子泵抽气口，KF40前级泵抽气口，充气阀接口，放气阀接口，6英寸基片台接口，以及具备升级电子束蒸镀功能的所有接口；7.负责现场安装，以及将客户提供的配件与腔体组装。 

1.真空腔室：SUS304不锈钢，Φ550×H750mm，双层水冷，立式前开门结构；真空室内表面及防污板抛光至镜面，前门采用锻铝材质；2.真空系统：复合分子泵（抽速：2000 L/s）+直联旋片泵（抽速14L/s）；“两低一高”数显复合真空计（测量范围：1×105 Pa～1×10-5Pa）；3.真空极限：优于3.0×10-5Pa；4.抽速：抽至10-4Pa≤30min；5.基片台：标配：平板式基片台；抽屉式结构，基片托尺寸：160×160mm，该范围内可装卡各种规格的样品/基片；基片台配有气动挡板，磁流体密封；基片台旋转：旋转速度0-25转/分连续可调，磁流体密封，光控定位，设定在前门中心位置方便取样；基片掩膜：提供一块掩膜板（掩膜图案客户提供）；6.腔室开孔：根据客户要求开具相应接口，包括但不限于：CF250分子泵抽气口，KF40前级泵抽气口，充气阀接口，放气阀接口，6英寸基片台接口，以及具备升级电子束蒸镀功能的所有接口；7.负责现场安装，以及将客户提供的配件与腔体组装。