高真空磁控溅射镀膜设备
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高真空磁控溅射镀膜设备
| 项目名称 | 高真空磁控溅射镀膜设备 | 项目编号 | XJD# |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 2024-10-11 09:21:55 | 公告截止日期 | 2024-10-14 12:00:00 |
| 采购单位 | 西安交通大学 | 付款方式 | 货到安装、调试、验收合格后，付全款。 |
| 签约时间要求 | 发布竞价结果后7天内签订合同 | 到货时间要求 | 合同签订后30天内送达 |
| 预算总价 | 币种 | 人民币 | |
| 收货地址 | (略) (略) | ||
| 供应商资质要求 | 无 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 附件 |
|---|---|---|---|
| 高真空磁控溅射镀膜设备 | 1.00 | 套 | 无 |
| 品牌 | 微纳真空 |
|---|---|
| 型号 | VJC-300 |
| 预算单价 | |
| 规格参数 | 规格参数信息尽量详细： 1) 真空腔室：304不锈钢，L×W×H：330×330×400mm（精确尺寸以设计为准）；前后双开门，真空室内表面抛光至镜面，配一套防污镜面隔板； 2) 真空系统：复合分子泵（抽速：700L/s）+直联旋片泵（抽速：9L/s）组成的大抽速、准无油真空系统，超高真空电动闸板阀；全量程数显复合真空计； 3) 真空极限：≤5.0×10-5Pa（3.8×10-7Torr）； 4) 抽速：从大气抽至10-4Pa≤20min； 5) 基片台：抽屉式结构，最大可镀4英寸（Φ100mm）1片或者均布其它规格小片；基片台旋转，转速0～25rpm连续可调，光控定位；基片台衬底加热：室温～600℃可调可控；基片台负偏压：-800V； 6) 溅射靶：3只2inch圆形平面靶，可单靶轮流/多靶聚焦共溅射； 7) 溅射电源：1台1000VA直流溅射电源；2台300VA射频电源，频率13.56MHz，自动匹配； 8) 速率和膜厚监控：采用膜厚监控仪，镀膜过程中实时监测溅射速率，监控膜厚； 厚度监测范围1?～9999?，分辨率1?；速率监测范围0.1?～9999.9?/s，分辨率0.1?； 9) 气路系统：三路工艺气体MFC控制，量程范围为0～50SCCM\0～30SCCM\0～30SCCM； 10) 水冷系统：水冷部件有分子泵、溅射靶及旋转密封磁流体；配高精度冷却循环水机1台； 11) 控制方式：采用PLC+触摸屏控制； 12) 报警及保护：对分子泵、溅射靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的程序互锁、完备的防误操作设计及保护。 |
| 售后服务 | 1) 产品质保期为2年；质保期内设备的维修免费（人为损坏因素除外）。 2) 本公司在接到故障通知2小时内给予解答；对于设备故障，公司在接到故障通知后48小时内到达现场。 |
| 项目名称 | 高真空磁控溅射镀膜设备 | 项目编号 | XJD# |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 2024-10-11 09:21:55 | 公告截止日期 | 2024-10-14 12:00:00 |
| 采购单位 | 西安交通大学 | 付款方式 | 货到安装、调试、验收合格后，付全款。 |
| 签约时间要求 | 发布竞价结果后7天内签订合同 | 到货时间要求 | 合同签订后30天内送达 |
| 预算总价 | 币种 | 人民币 | |
| 收货地址 | (略) (略) | ||
| 供应商资质要求 | 无 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 附件 |
|---|---|---|---|
| 高真空磁控溅射镀膜设备 | 1.00 | 套 | 无 |
| 品牌 | 微纳真空 |
|---|---|
| 型号 | VJC-300 |
| 预算单价 | |
| 规格参数 | 规格参数信息尽量详细： 1) 真空腔室：304不锈钢，L×W×H：330×330×400mm（精确尺寸以设计为准）；前后双开门，真空室内表面抛光至镜面，配一套防污镜面隔板； 2) 真空系统：复合分子泵（抽速：700L/s）+直联旋片泵（抽速：9L/s）组成的大抽速、准无油真空系统，超高真空电动闸板阀；全量程数显复合真空计； 3) 真空极限：≤5.0×10-5Pa（3.8×10-7Torr）； 4) 抽速：从大气抽至10-4Pa≤20min； 5) 基片台：抽屉式结构，最大可镀4英寸（Φ100mm）1片或者均布其它规格小片；基片台旋转，转速0～25rpm连续可调，光控定位；基片台衬底加热：室温～600℃可调可控；基片台负偏压：-800V； 6) 溅射靶：3只2inch圆形平面靶，可单靶轮流/多靶聚焦共溅射； 7) 溅射电源：1台1000VA直流溅射电源；2台300VA射频电源，频率13.56MHz，自动匹配； 8) 速率和膜厚监控：采用膜厚监控仪，镀膜过程中实时监测溅射速率，监控膜厚； 厚度监测范围1?～9999?，分辨率1?；速率监测范围0.1?～9999.9?/s，分辨率0.1?； 9) 气路系统：三路工艺气体MFC控制，量程范围为0～50SCCM\0～30SCCM\0～30SCCM； 10) 水冷系统：水冷部件有分子泵、溅射靶及旋转密封磁流体；配高精度冷却循环水机1台； 11) 控制方式：采用PLC+触摸屏控制； 12) 报警及保护：对分子泵、溅射靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的程序互锁、完备的防误操作设计及保护。 |
| 售后服务 | 1) 产品质保期为2年；质保期内设备的维修免费（人为损坏因素除外）。 2) 本公司在接到故障通知2小时内给予解答；对于设备故障，公司在接到故障通知后48小时内到达现场。 |
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