真空热蒸发镀膜机采购

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真空热蒸发镀膜机采购



真空热蒸发镀膜机(XF-WSBX-2400524)采购公告
发布时间:2024-10-23 11:02:29阅读量:15

项目名称真空热蒸发镀膜机项目编号XF-WSBX-(略)
公告开始日期2024-10-23 11:02:29公告截止日期2024-10-30 13:00:00
采购单位浙江大学付款方式货到付款,(略)方在到货验收后15日内向(略)方一次性支付本项目的总额
联系人成交后在我参与的项目中查看联系电话成交后在我参与的项目中查看
签约时间要求成交后7个工作日内到货时间要求签约后60个工作日内
预算总价¥ (略).00
发票要求增值税普通发票
收货地址紫 (略) 和同苑10幢1007
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件




采购清单1
采购商品采购数量计量单位所属分类
真空热蒸发镀膜机1真空应用设备

型号(略)
预算单价¥ (略).00
技术参数及配置要求高真空镀膜系统由底盘结构,基片架装置,蒸发源,控制软件,膜厚控制系统,真空室,真空系统等组成。
一、 底盘结构:
1. 采用型材搭建或焊接式框架,外观要 (略) 理或喷漆,防止生锈;
2. 底部带有轮子,可推动,并带有可调节高度的支脚。
3. 带有机械旋转手臂,有多角度调节操作界面。
4. 电气控制集成到底盘上,与真空腔体一体式。
二、基片架结构
1. *可以固定16片15mmx15mm基片,在线切换一次掩膜板,下方可容纳1片135mm x 135 mm的基片,向下兼容,采用嵌入式结构。
2. 电机驱动实现连续旋转,最大转速可达30转/分钟,通过磁流体与基片托盘连接。
三、蒸发源
1. 8组蒸发源,热阻式,用于材料蒸发,可蒸发常见有机,金属及金属氧化物以及其它材料,源与基片的垂直距离≥350mm。
2. 每个蒸发源电极均采用水冷式结构,以便可以长时间蒸镀。
3. *每组蒸发源的上方同时配有防护板来防止蒸发源的交叉污染,防护板通过气缸驱动。
4. 源与源之间装有隔板,并避免源与源之间材料相互污染。
5. 1台蒸发电源,功率不小于1.5KW,精度0.1A,用于蒸发材料。配合膜厚仪,能够实现自动蒸镀。
四、自动化控制软件
1. *采用工控机控制模式,相关的操作均在工控机界面完成。
2. *控制软件的真空系统分为自动和手动模式,可以随时切换。
3. *带有一键自动蒸镀功能。
五、膜厚控制系统
1. *2个标准晶振传感器,均为水冷式,安放于基底附近。
2. *膜厚速率显示精度在±0.01A/S。
3. 蒸镀速率,可蒸金属: 以àg为标准,蒸镀速率: 速度稳定性:≤±10%(0.1-0.5A/s),≤±5%(0.5-10A/s),≤±4%(>10A/s);单片内膜厚匀性≤5%。
六、真空室
1. 真空室由不锈钢制成,内部尺寸至少为400mm*400mm*560mm,装有基础结构和挡板的固定装置,以及蒸发电极、真空泵、样品盘等装置。
2. *真空腔体配备两个可以完全打开的门,腔体极限真空优于3.5*10-5pa,从常压到5*10-4pa不超过15min(充氮气保护)
3. 带有旁抽系统,可以在不关闭分子泵的条件下,打开腔室,进行样品及材料的更换。
4. 腔体内表面预留安装金属防污挡板接口,后期可安装金属防污挡板。
七、真空系统
1. 前级泵的抽速不低于24m 3/h。
2. 主泵采用抽速≥700l/s的分子泵。
3. 主泵和腔室之间安装有气动插板阀,通径≥160mm。
4. *自动抽气控制,带安全互锁功能。
5. 配 (略) 等相应的硬件。
6. 真空室配真空计,测量范围为大气至10-5pa。
其中带*号的技术指标必须满足。
售后服务 (略) 点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:3年;服务时限:报修后2小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品;

浙江大学

2024-10-23 11:02:29







真空热蒸发镀膜机(XF-WSBX-2400524)采购公告
发布时间:2024-10-23 11:02:29阅读量:15

项目名称真空热蒸发镀膜机项目编号XF-WSBX-(略)
公告开始日期2024-10-23 11:02:29公告截止日期2024-10-30 13:00:00
采购单位浙江大学付款方式货到付款,(略)方在到货验收后15日内向(略)方一次性支付本项目的总额
联系人成交后在我参与的项目中查看联系电话成交后在我参与的项目中查看
签约时间要求成交后7个工作日内到货时间要求签约后60个工作日内
预算总价¥ (略).00
发票要求增值税普通发票
收货地址紫 (略) 和同苑10幢1007
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件




采购清单1
采购商品采购数量计量单位所属分类
真空热蒸发镀膜机1真空应用设备

型号(略)
预算单价¥ (略).00
技术参数及配置要求高真空镀膜系统由底盘结构,基片架装置,蒸发源,控制软件,膜厚控制系统,真空室,真空系统等组成。
一、 底盘结构:
1. 采用型材搭建或焊接式框架,外观要 (略) 理或喷漆,防止生锈;
2. 底部带有轮子,可推动,并带有可调节高度的支脚。
3. 带有机械旋转手臂,有多角度调节操作界面。
4. 电气控制集成到底盘上,与真空腔体一体式。
二、基片架结构
1. *可以固定16片15mmx15mm基片,在线切换一次掩膜板,下方可容纳1片135mm x 135 mm的基片,向下兼容,采用嵌入式结构。
2. 电机驱动实现连续旋转,最大转速可达30转/分钟,通过磁流体与基片托盘连接。
三、蒸发源
1. 8组蒸发源,热阻式,用于材料蒸发,可蒸发常见有机,金属及金属氧化物以及其它材料,源与基片的垂直距离≥350mm。
2. 每个蒸发源电极均采用水冷式结构,以便可以长时间蒸镀。
3. *每组蒸发源的上方同时配有防护板来防止蒸发源的交叉污染,防护板通过气缸驱动。
4. 源与源之间装有隔板,并避免源与源之间材料相互污染。
5. 1台蒸发电源,功率不小于1.5KW,精度0.1A,用于蒸发材料。配合膜厚仪,能够实现自动蒸镀。
四、自动化控制软件
1. *采用工控机控制模式,相关的操作均在工控机界面完成。
2. *控制软件的真空系统分为自动和手动模式,可以随时切换。
3. *带有一键自动蒸镀功能。
五、膜厚控制系统
1. *2个标准晶振传感器,均为水冷式,安放于基底附近。
2. *膜厚速率显示精度在±0.01A/S。
3. 蒸镀速率,可蒸金属: 以àg为标准,蒸镀速率: 速度稳定性:≤±10%(0.1-0.5A/s),≤±5%(0.5-10A/s),≤±4%(>10A/s);单片内膜厚匀性≤5%。
六、真空室
1. 真空室由不锈钢制成,内部尺寸至少为400mm*400mm*560mm,装有基础结构和挡板的固定装置,以及蒸发电极、真空泵、样品盘等装置。
2. *真空腔体配备两个可以完全打开的门,腔体极限真空优于3.5*10-5pa,从常压到5*10-4pa不超过15min(充氮气保护)
3. 带有旁抽系统,可以在不关闭分子泵的条件下,打开腔室,进行样品及材料的更换。
4. 腔体内表面预留安装金属防污挡板接口,后期可安装金属防污挡板。
七、真空系统
1. 前级泵的抽速不低于24m 3/h。
2. 主泵采用抽速≥700l/s的分子泵。
3. 主泵和腔室之间安装有气动插板阀,通径≥160mm。
4. *自动抽气控制,带安全互锁功能。
5. 配 (略) 等相应的硬件。
6. 真空室配真空计,测量范围为大气至10-5pa。
其中带*号的技术指标必须满足。
售后服务 (略) 点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:3年;服务时限:报修后2小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品;

浙江大学

2024-10-23 11:02:29





    
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