真空热蒸发镀膜机采购
真空热蒸发镀膜机采购
项目名称 | 真空热蒸发镀膜机 | 项目编号 | XF-WSBX-(略) |
---|---|---|---|
公告开始日期 | 2024-10-23 11:02:29 | 公告截止日期 | 2024-10-30 13:00:00 |
采购单位 | 浙江大学 | 付款方式 | 货到付款,(略)方在到货验收后15日内向(略)方一次性支付本项目的总额 |
联系人 | 成交后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 成交后在我参与的项目中查看 |
签约时间要求 | 成交后7个工作日内 | 到货时间要求 | 签约后60个工作日内 |
预算总价 | ¥ (略).00 | ||
发票要求 | 增值税普通发票 | ||
收货地址 | 紫 (略) 和同苑10幢1007 | ||
供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
---|---|---|---|
真空热蒸发镀膜机 | 1 | 台 | 真空应用设备 |
型号 | (略) |
---|---|
预算单价 | ¥ (略).00 |
技术参数及配置要求 | 高真空镀膜系统由底盘结构,基片架装置,蒸发源,控制软件,膜厚控制系统,真空室,真空系统等组成。 一、 底盘结构: 1. 采用型材搭建或焊接式框架,外观要 (略) 理或喷漆,防止生锈; 2. 底部带有轮子,可推动,并带有可调节高度的支脚。 3. 带有机械旋转手臂,有多角度调节操作界面。 4. 电气控制集成到底盘上,与真空腔体一体式。 二、基片架结构 1. *可以固定16片15mmx15mm基片,在线切换一次掩膜板,下方可容纳1片135mm x 135 mm的基片,向下兼容,采用嵌入式结构。 2. 电机驱动实现连续旋转,最大转速可达30转/分钟,通过磁流体与基片托盘连接。 三、蒸发源 1. 8组蒸发源,热阻式,用于材料蒸发,可蒸发常见有机,金属及金属氧化物以及其它材料,源与基片的垂直距离≥350mm。 2. 每个蒸发源电极均采用水冷式结构,以便可以长时间蒸镀。 3. *每组蒸发源的上方同时配有防护板来防止蒸发源的交叉污染,防护板通过气缸驱动。 4. 源与源之间装有隔板,并避免源与源之间材料相互污染。 5. 1台蒸发电源,功率不小于1.5KW,精度0.1A,用于蒸发材料。配合膜厚仪,能够实现自动蒸镀。 四、自动化控制软件 1. *采用工控机控制模式,相关的操作均在工控机界面完成。 2. *控制软件的真空系统分为自动和手动模式,可以随时切换。 3. *带有一键自动蒸镀功能。 五、膜厚控制系统 1. *2个标准晶振传感器,均为水冷式,安放于基底附近。 2. *膜厚速率显示精度在±0.01A/S。 3. 蒸镀速率,可蒸金属: 以àg为标准,蒸镀速率: 速度稳定性:≤±10%(0.1-0.5A/s),≤±5%(0.5-10A/s),≤±4%(>10A/s);单片内膜厚匀性≤5%。 六、真空室 1. 真空室由不锈钢制成,内部尺寸至少为400mm*400mm*560mm,装有基础结构和挡板的固定装置,以及蒸发电极、真空泵、样品盘等装置。 2. *真空腔体配备两个可以完全打开的门,腔体极限真空优于3.5*10-5pa,从常压到5*10-4pa不超过15min(充氮气保护) 3. 带有旁抽系统,可以在不关闭分子泵的条件下,打开腔室,进行样品及材料的更换。 4. 腔体内表面预留安装金属防污挡板接口,后期可安装金属防污挡板。 七、真空系统 1. 前级泵的抽速不低于24m 3/h。 2. 主泵采用抽速≥700l/s的分子泵。 3. 主泵和腔室之间安装有气动插板阀,通径≥160mm。 4. *自动抽气控制,带安全互锁功能。 5. 配 (略) 等相应的硬件。 6. 真空室配真空计,测量范围为大气至10-5pa。 其中带*号的技术指标必须满足。 |
售后服务 | (略) 点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:3年;服务时限:报修后2小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品; |
浙江大学
2024-10-23 11:02:29
项目名称 | 真空热蒸发镀膜机 | 项目编号 | XF-WSBX-(略) |
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公告开始日期 | 2024-10-23 11:02:29 | 公告截止日期 | 2024-10-30 13:00:00 |
采购单位 | 浙江大学 | 付款方式 | 货到付款,(略)方在到货验收后15日内向(略)方一次性支付本项目的总额 |
联系人 | 成交后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 成交后在我参与的项目中查看 |
签约时间要求 | 成交后7个工作日内 | 到货时间要求 | 签约后60个工作日内 |
预算总价 | ¥ (略).00 | ||
发票要求 | 增值税普通发票 | ||
收货地址 | 紫 (略) 和同苑10幢1007 | ||
供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
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真空热蒸发镀膜机 | 1 | 台 | 真空应用设备 |
型号 | (略) |
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预算单价 | ¥ (略).00 |
技术参数及配置要求 | 高真空镀膜系统由底盘结构,基片架装置,蒸发源,控制软件,膜厚控制系统,真空室,真空系统等组成。 一、 底盘结构: 1. 采用型材搭建或焊接式框架,外观要 (略) 理或喷漆,防止生锈; 2. 底部带有轮子,可推动,并带有可调节高度的支脚。 3. 带有机械旋转手臂,有多角度调节操作界面。 4. 电气控制集成到底盘上,与真空腔体一体式。 二、基片架结构 1. *可以固定16片15mmx15mm基片,在线切换一次掩膜板,下方可容纳1片135mm x 135 mm的基片,向下兼容,采用嵌入式结构。 2. 电机驱动实现连续旋转,最大转速可达30转/分钟,通过磁流体与基片托盘连接。 三、蒸发源 1. 8组蒸发源,热阻式,用于材料蒸发,可蒸发常见有机,金属及金属氧化物以及其它材料,源与基片的垂直距离≥350mm。 2. 每个蒸发源电极均采用水冷式结构,以便可以长时间蒸镀。 3. *每组蒸发源的上方同时配有防护板来防止蒸发源的交叉污染,防护板通过气缸驱动。 4. 源与源之间装有隔板,并避免源与源之间材料相互污染。 5. 1台蒸发电源,功率不小于1.5KW,精度0.1A,用于蒸发材料。配合膜厚仪,能够实现自动蒸镀。 四、自动化控制软件 1. *采用工控机控制模式,相关的操作均在工控机界面完成。 2. *控制软件的真空系统分为自动和手动模式,可以随时切换。 3. *带有一键自动蒸镀功能。 五、膜厚控制系统 1. *2个标准晶振传感器,均为水冷式,安放于基底附近。 2. *膜厚速率显示精度在±0.01A/S。 3. 蒸镀速率,可蒸金属: 以àg为标准,蒸镀速率: 速度稳定性:≤±10%(0.1-0.5A/s),≤±5%(0.5-10A/s),≤±4%(>10A/s);单片内膜厚匀性≤5%。 六、真空室 1. 真空室由不锈钢制成,内部尺寸至少为400mm*400mm*560mm,装有基础结构和挡板的固定装置,以及蒸发电极、真空泵、样品盘等装置。 2. *真空腔体配备两个可以完全打开的门,腔体极限真空优于3.5*10-5pa,从常压到5*10-4pa不超过15min(充氮气保护) 3. 带有旁抽系统,可以在不关闭分子泵的条件下,打开腔室,进行样品及材料的更换。 4. 腔体内表面预留安装金属防污挡板接口,后期可安装金属防污挡板。 七、真空系统 1. 前级泵的抽速不低于24m 3/h。 2. 主泵采用抽速≥700l/s的分子泵。 3. 主泵和腔室之间安装有气动插板阀,通径≥160mm。 4. *自动抽气控制,带安全互锁功能。 5. 配 (略) 等相应的硬件。 6. 真空室配真空计,测量范围为大气至10-5pa。 其中带*号的技术指标必须满足。 |
售后服务 | (略) 点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:3年;服务时限:报修后2小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品; |
浙江大学
2024-10-23 11:02:29
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