全自动一体式多靶磁控溅射镀膜机采购
全自动一体式多靶磁控溅射镀膜机采购
项目名称 | 全自动一体式多靶磁控溅射镀膜机 | 项目编号 | XF-WSBX-* |
---|---|---|---|
公告开始日期 | 2024-11-11 10:31:45 | 公告截止日期 | 2024-11-18 11:00:00 |
采购单位 | 浙江大学 | 付款方式 | 货到付款,*方在到货验收后15日内向*方一次性支付本项目的总额 |
联系人 | 成交后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 成交后在我参与的项目中查看 |
签约时间要求 | 成交后5个工作日内 | 到货时间要求 | 成交后30个工作日内 |
预算总价 | ¥ *.00 | ||
发票要求 | 增值税普通发票 | ||
收货地址 | (略) (略) (略) 866号浙江大学紫金港开物苑3-317 | ||
供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
---|---|---|---|
全自动一体式磁控溅射镀膜机 | 1 | 台 | 电气物理设备 |
预算单价 | ¥ *.00 |
---|---|
技术参数及配置要求 | 溅射室极限真空度:≤6.6x10-5 Pa;系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S;系统从大气开始抽气:溅射室35分钟可达到6.6x10-4 Pa;系统停泵关机12小时后真空度:≤5Pa;3套60mm高性能永磁共焦磁控溅射靶;最大直径100mm样品;系统配有2台国产数字式500w直流电源和1台500w全自动匹配射频电源国产电源,1台国产数字式-1000V直流脉冲偏压电源;4路国产流量计MFC控制进气系统(Ar、N2、O2、CH4),流量分别为100SCCM、50SCCM、20SCCM、50SCCM;膜厚均匀性(200nm厚±5%);加热温度:室温—600°C;基片公转由调速电机驱动,转动速度0—30转/分连续可调;磁控靶与基片的距离可调,调节距离为:90~130mm |
售后服务 | (略) 点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:3年;服务时限:报修后24小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品; |
浙江大学
2024-11-11 10:31:45
项目名称 | 全自动一体式多靶磁控溅射镀膜机 | 项目编号 | XF-WSBX-* |
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公告开始日期 | 2024-11-11 10:31:45 | 公告截止日期 | 2024-11-18 11:00:00 |
采购单位 | 浙江大学 | 付款方式 | 货到付款,*方在到货验收后15日内向*方一次性支付本项目的总额 |
联系人 | 成交后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 成交后在我参与的项目中查看 |
签约时间要求 | 成交后5个工作日内 | 到货时间要求 | 成交后30个工作日内 |
预算总价 | ¥ *.00 | ||
发票要求 | 增值税普通发票 | ||
收货地址 | (略) (略) (略) 866号浙江大学紫金港开物苑3-317 | ||
供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
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全自动一体式磁控溅射镀膜机 | 1 | 台 | 电气物理设备 |
预算单价 | ¥ *.00 |
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技术参数及配置要求 | 溅射室极限真空度:≤6.6x10-5 Pa;系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S;系统从大气开始抽气:溅射室35分钟可达到6.6x10-4 Pa;系统停泵关机12小时后真空度:≤5Pa;3套60mm高性能永磁共焦磁控溅射靶;最大直径100mm样品;系统配有2台国产数字式500w直流电源和1台500w全自动匹配射频电源国产电源,1台国产数字式-1000V直流脉冲偏压电源;4路国产流量计MFC控制进气系统(Ar、N2、O2、CH4),流量分别为100SCCM、50SCCM、20SCCM、50SCCM;膜厚均匀性(200nm厚±5%);加热温度:室温—600°C;基片公转由调速电机驱动,转动速度0—30转/分连续可调;磁控靶与基片的距离可调,调节距离为:90~130mm |
售后服务 | (略) 点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:3年;服务时限:报修后24小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品; |
浙江大学
2024-11-11 10:31:45
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