西南大学-竞价公告
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西南大学-竞价公告
申购单号:CM#
申购主题:电子束蒸发镀膜机
采购单位:西南大学
报价要求:
发票类型:增值税专用发票
币种:人民币
预算:#.0
签约时间:
送货时间:发布竞价结果后7天内送达
安装要求:免费上门安装（含材料费）
收货地址: (略) / (略) / (略) /点击查看>>*
付款方式:货到验收合格后付款
备注说明:各竞标商须知：1.所有货物要求免费送货上门、免费安装调试、原厂包装，竞标商如不能提供免费送货上门和免费安装调试，必须注明，申购用户认可的，方可成交。2.成交金额在#元以上的，供方应在质量验收合格后，需方支付货款前，成交厂商向需方交纳成交总金额的5%作为质保金。质保金自货物质量验收合格之日起一年内若无遗留问题，需方将其质保金全额无息退还供方。3.开户名称： 西南大学 银行账号： #8877 开户银行： 工行重庆朝阳支行 统一社会信用代码： #33W 银行行号： #；质保金退还事宜联系电话：#；4.如竞标货物为进口的，必须填写品牌、型号、厂家、产地，并在报价说明里面填写报价方式为DDP/DAP等，如不填写报价方式的则默认为DDP报价。5.合同模板请见：http://**请最后成交供应商必须提供增值税专用发票。申购明细：
| 序号 | 采购内容 | 数量 | 预算单价 |
| 1 | 电子束蒸发镀膜机 | 1.0 | 个#.0 |
| 品牌 | 泰科诺 | ||
| 型号 | TEMD600 | ||
| 规格参数 | [{"key":1,"value":"★极限真空：空载优于5.0×10-5Pa（设备空载，抽真空24小时）；","important":true},{"key":2,"value":"▲升压率：设备升压率≤0.8Pa/h（12小时平均值）；设备保压：停泵12小时候后，设备真空度≤10Pa；","important":false},{"key":3,"value":"▲抽速：空载从大气抽至5.0×10-4Pa≤30min；","important":false},{"key":4,"value":"★均匀性：200*200mm的蒸镀面积内薄膜厚度（200nm时）不均匀性≤±5%；","important":false},{"key":5,"value":"▲真空腔室：①结构采用立式方形、前后开门结构，方便取放基片、后门更换蒸发材料以及真空腔室日常维护；可与手套箱连接②材料及尺寸采用SUS304优质不锈钢，Φ600×H750mm真空腔室（以实际设计为准）腔室采用水冷线冷却；镀膜腔室（包括管道、连接法兰等）均进 (略) 理，内表面 (略) 理，以减少“出气”量，有利于真空度的提高及耐腐蚀；所有焊缝连接采用氩弧焊接技术，内表 (略) 理；③主要接口装配位置镀膜室顶板上分布：旋转基片台1套；预留加热器及热电偶接口；底部：底板布置一台电子枪、配挡板；另预留2组电阻蒸发源及2套挡板接口；后部：抽气口；④预留接口：装膜厚仪以及其它用途；⑤Φ100mm观察窗及挡板，位于前门，观察窗玻璃采用铅玻璃，防止射线辐射；⑥腔室防污屏蔽板采用优质不锈钢材质，便于拆卸清理、更换等。","important":false},{"key":6,"value":"★基片台：①基片台：平板型，抽屉式结构，装载210×210mm样片，可从基片架组件中取出，方便用户安装基片；②配有气动基片台挡板；③配备通用夹具，方便用户装卡各种不同规格尺寸的基片；④基片台电机驱动：旋转转速0～20转/分钟，连续可调；主轴磁流体密封；⑤蒸发源与基片台距离500mm（实际设计为准）","important":false},{"key":7,"value":"★电子束蒸发源：①E型电子枪270°偏转电子枪偏转角保证了电子束发射源材料对膜层的无污染；双向、快速的电子束扫描系统 (略) ，避免了靶材的“扎坑”弊病； (略) 设计，保证电子枪温升小，可以长期稳定工作；②电子枪电源：10kW；坩埚工位为6穴；③电子枪挡板：气动；④金属蒸发源：水冷铜电极2组（4个电极）；⑤逆变式蒸发电源：功率3kW；1台","important":false},{"key":8,"value":"真空系统：①真空机组采用“复合分子泵+直联高速旋片式真空泵”组合的真空系统；②分子泵型号：FF250/2000，抽速：2000L/s；③机械泵型号：TRP-48，抽速：14L/s，北仪优成，合资品牌，抽速快，低噪音；④前级/旁路阀：DN40，气动插板阀；⑤真空测量：“两低一高”数显复合真空计；两低一高是指两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空；测量范围从1×105Pa到1×10-5Pa；⑥波纹管材质：SUS304不锈钢；真空密封：常拆卸密封采用氟橡胶圈密封，不常拆卸密封采用金属密封；","important":false},{"key":9,"value":"电气控制系统：①电气控制系统：采用PLC+触摸屏控制系统，可实现自动一键式抽真空，蒸发镀膜电源采用手动控制，以方便用户进行镀膜工艺参数的摸索；②控制内容：分子泵、机械泵、阀门开关；分子泵电源参数显示及开关控制；真空计参数显示及控制；基片台转速显示和控制；③安全保护报警系统：在缺水、水压过低等情况下的报警系统；完善的逻辑程序互锁保护系统。","important":false},{"key":10,"value":"膜厚监测系统：SQM-160/1台+原装探头/1只+晶振片/1盒SQM-160 使用成熟的 INFICON 石英晶体传感器技术在薄膜沉积过程中测量速率和厚度。两个传感器输入为标准输入，另外四个传感器输入为可选输入。两个录像机输出可提供模拟速率和厚度信号。传感器输入可分配给不同的材料，在大型系统中平均分配以实现精确的沉积控制，或者配置为双传感器。速率采样模式可在高速率过程中屏蔽传感器，从而延长传感器的使用寿命。速率显示为 0.1?/s 或 0.01?/s，用户可自行选择。此外，还可以选择频率或质量显示。凭借四个继电器输入，SQM-160 可控制来源或传感器屏蔽、信号时间和厚度设定点以及信号晶体失效。数字输入允许外部信号启动/停止和归零读数","important":false},{"key":11,"value":"手套箱：设备内包含一套可与设备完美连接的定制手套箱1套。","important":false}] | ||
| 质保及售后服务 | 按行业标准提供服务 | ||
| 序号 | 采购内容 | 数量 | 预算单价 |
| 2 | 电子束蒸发镀膜机 | 1.0 | 个#.0 |
| 品牌 | 北京维钠真空 | ||
| 型号 | VZZS-550 | ||
| 规格参数 | [{"key":1,"value":"★极限真空：空载优于5.0×10-5Pa（设备空载，抽真空24小时）；","important":true},{"key":2,"value":"▲升压率：设备升压率≤0.8Pa/h（12小时平均值）；设备保压：停泵12小时候后，设备真空度≤10Pa；","important":false},{"key":3,"value":"▲抽速：空载从大气抽至5.0×10-4Pa≤30min；","important":false},{"key":4,"value":"★均匀性：200*200mm的蒸镀面积内薄膜厚度（200nm时）不均匀性≤±5%；","important":false},{"key":5,"value":"▲真空腔室：①结构采用立式方形、前后开门结构，方便取放基片、后门更换蒸发材料以及真空腔室日常维护；可与手套箱连接②材料及尺寸采用SUS304优质不锈钢，Φ600×H750mm真空腔室（以实际设计为准）腔室采用水冷线冷却；镀膜腔室（包括管道、连接法兰等）均进 (略) 理，内表面 (略) 理，以减少“出气”量，有利于真空度的提高及耐腐蚀；所有焊缝连接采用氩弧焊接技术，内表 (略) 理；③主要接口装配位置镀膜室顶板上分布：旋转基片台1套；预留加热器及热电偶接口；底部：底板布置一台电子枪、配挡板；另预留2组电阻蒸发源及2套挡板接口；后部：抽气口；④预留接口：装膜厚仪以及其它用途；⑤Φ100mm观察窗及挡板，位于前门，观察窗玻璃采用铅玻璃，防止射线辐射；⑥腔室防污屏蔽板采用优质不锈钢材质，便于拆卸清理、更换等。","important":false},{"key":6,"value":"★基片台：①基片台：平板型，抽屉式结构，装载210×210mm样片，可从基片架组件中取出，方便用户安装基片；②配有气动基片台挡板；③配备通用夹具，方便用户装卡各种不同规格尺寸的基片；④基片台电机驱动：旋转转速0～20转/分钟，连续可调；主轴磁流体密封；⑤蒸发源与基片台距离500mm（实际设计为准）","important":false},{"key":7,"value":"★电子束蒸发源：①E型电子枪270°偏转电子枪偏转角保证了电子束发射源材料对膜层的无污染；双向、快速的电子束扫描系统 (略) ，避免了靶材的“扎坑”弊病； (略) 设计，保证电子枪温升小，可以长期稳定工作；②电子枪电源：10kW；坩埚工位为6穴；③电子枪挡板：气动；④金属蒸发源：水冷铜电极2组（4个电极）；⑤逆变式蒸发电源：功率3kW；1台","important":false},{"key":8,"value":"真空系统：①真空机组采用“复合分子泵+直联高速旋片式真空泵”组合的真空系统；②分子泵型号：FF250/2000，抽速：2000L/s；③机械泵型号：TRP-48，抽速：14L/s，北仪优成，合资品牌，抽速快，低噪音；④前级/旁路阀：DN40，气动插板阀；⑤真空测量：“两低一高”数显复合真空计；两低一高是指两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空；测量范围从1×105Pa到1×10-5Pa；⑥波纹管材质：SUS304不锈钢；真空密封：常拆卸密封采用氟橡胶圈密封，不常拆卸密封采用金属密封；","important":false},{"key":9,"value":"电气控制系统：①电气控制系统：采用PLC+触摸屏控制系统，可实现自动一键式抽真空，蒸发镀膜电源采用手动控制，以方便用户进行镀膜工艺参数的摸索；②控制内容：分子泵、机械泵、阀门开关；分子泵电源参数显示及开关控制；真空计参数显示及控制；基片台转速显示和控制；③安全保护报警系统：在缺水、水压过低等情况下的报警系统；完善的逻辑程序互锁保护系统。","important":false},{"key":10,"value":"膜厚监测系统：SQM-160/1台+原装探头/1只+晶振片/1盒SQM-160 使用成熟的 INFICON 石英晶体传感器技术在薄膜沉积过程中测量速率和厚度。两个传感器输入为标准输入，另外四个传感器输入为可选输入。两个录像机输出可提供模拟速率和厚度信号。传感器输入可分配给不同的材料，在大型系统中平均分配以实现精确的沉积控制，或者配置为双传感器。速率采样模式可在高速率过程中屏蔽传感器，从而延长传感器的使用寿命。速率显示为 0.1?/s 或 0.01?/s，用户可自行选择。此外，还可以选择频率或质量显示。凭借四个继电器输入，SQM-160 可控制来源或传感器屏蔽、信号时间和厚度设定点以及信号晶体失效。数字输入允许外部信号启动/停止和归零读数","important":false},{"key":11,"value":"手套箱：设备内包含一套可与设备完美连接的定制手套箱1套。","important":false}] | ||
| 质保及售后服务 | 按行业标准提供服务 | ||
| 序号 | 采购内容 | 数量 | 预算单价 |
| 3 | 电子束蒸发镀膜机 | 1.0 | 个#.0 |
| 品牌 | 武汉普迪 | ||
| 型号 | PD600 | ||
| 规格参数 | [{"key":1,"value":"★极限真空：空载优于5.0×10-5Pa（设备空载，抽真空24小时）；","important":true},{"key":2,"value":"▲升压率：设备升压率≤0.8Pa/h（12小时平均值）；设备保压：停泵12小时候后，设备真空度≤10Pa；","important":false},{"key":3,"value":"▲抽速：空载从大气抽至5.0×10-4Pa≤30min；","important":false},{"key":4,"value":"★均匀性：200*200mm的蒸镀面积内薄膜厚度（200nm时）不均匀性≤±5%；","important":false},{"key":5,"value":"▲真空腔室：①结构采用立式方形、前后开门结构，方便取放基片、后门更换蒸发材料以及真空腔室日常维护；可与手套箱连接②材料及尺寸采用SUS304优质不锈钢，Φ600×H750mm真空腔室（以实际设计为准）腔室采用水冷线冷却；镀膜腔室（包括管道、连接法兰等）均进 (略) 理，内表面 (略) 理，以减少“出气”量，有利于真空度的提高及耐腐蚀；所有焊缝连接采用氩弧焊接技术，内表 (略) 理；③主要接口装配位置镀膜室顶板上分布：旋转基片台1套；预留加热器及热电偶接口；底部：底板布置一台电子枪、配挡板；另预留2组电阻蒸发源及2套挡板接口；后部：抽气口；④预留接口：装膜厚仪以及其它用途；⑤Φ100mm观察窗及挡板，位于前门，观察窗玻璃采用铅玻璃，防止射线辐射；⑥腔室防污屏蔽板采用优质不锈钢材质，便于拆卸清理、更换等。","important":false},{"key":6,"value":"★基片台：①基片台：平板型，抽屉式结构，装载210×210mm样片，可从基片架组件中取出，方便用户安装基片；②配有气动基片台挡板；③配备通用夹具，方便用户装卡各种不同规格尺寸的基片；④基片台电机驱动：旋转转速0～20转/分钟，连续可调；主轴磁流体密封；⑤蒸发源与基片台距离500mm（实际设计为准）","important":false},{"key":7,"value":"★电子束蒸发源：①E型电子枪270°偏转电子枪偏转角保证了电子束发射源材料对膜层的无污染；双向、快速的电子束扫描系统 (略) ，避免了靶材的“扎坑”弊病； (略) 设计，保证电子枪温升小，可以长期稳定工作；②电子枪电源：10kW；坩埚工位为6穴；③电子枪挡板：气动；④金属蒸发源：水冷铜电极2组（4个电极）；⑤逆变式蒸发电源：功率3kW；1台","important":false},{"key":8,"value":"真空系统：①真空机组采用“复合分子泵+直联高速旋片式真空泵”组合的真空系统；②分子泵型号：FF250/2000，抽速：2000L/s；③机械泵型号：TRP-48，抽速：14L/s，北仪优成，合资品牌，抽速快，低噪音；④前级/旁路阀：DN40，气动插板阀；⑤真空测量：“两低一高”数显复合真空计；两低一高是指两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空；测量范围从1×105Pa到1×10-5Pa；⑥波纹管材质：SUS304不锈钢；真空密封：常拆卸密封采用氟橡胶圈密封，不常拆卸密封采用金属密封；","important":false},{"key":9,"value":"电气控制系统：①电气控制系统：采用PLC+触摸屏控制系统，可实现自动一键式抽真空，蒸发镀膜电源采用手动控制，以方便用户进行镀膜工艺参数的摸索；②控制内容：分子泵、机械泵、阀门开关；分子泵电源参数显示及开关控制；真空计参数显示及控制；基片台转速显示和控制；③安全保护报警系统：在缺水、水压过低等情况下的报警系统；完善的逻辑程序互锁保护系统。","important":false},{"key":10,"value":"膜厚监测系统：SQM-160/1台+原装探头/1只+晶振片/1盒SQM-160 使用成熟的 INFICON 石英晶体传感器技术在薄膜沉积过程中测量速率和厚度。两个传感器输入为标准输入，另外四个传感器输入为可选输入。两个录像机输出可提供模拟速率和厚度信号。传感器输入可分配给不同的材料，在大型系统中平均分配以实现精确的沉积控制，或者配置为双传感器。速率采样模式可在高速率过程中屏蔽传感器，从而延长传感器的使用寿命。速率显示为 0.1?/s 或 0.01?/s，用户可自行选择。此外，还可以选择频率或质量显示。凭借四个继电器输入，SQM-160 可控制来源或传感器屏蔽、信号时间和厚度设定点以及信号晶体失效。数字输入允许外部信号启动/停止和归零读数","important":false},{"key":11,"value":"手套箱：设备内包含一套可与设备完美连接的定制手套箱1套。","important":false}] | ||
| 质保及售后服务 | 按行业标准提供服务 | ||
申购单号:CM#
申购主题:电子束蒸发镀膜机
采购单位:西南大学
报价要求:
发票类型:增值税专用发票
币种:人民币
预算:#.0
签约时间:
送货时间:发布竞价结果后7天内送达
安装要求:免费上门安装（含材料费）
收货地址: (略) / (略) / (略) /点击查看>>*
付款方式:货到验收合格后付款
备注说明:各竞标商须知：1.所有货物要求免费送货上门、免费安装调试、原厂包装，竞标商如不能提供免费送货上门和免费安装调试，必须注明，申购用户认可的，方可成交。2.成交金额在#元以上的，供方应在质量验收合格后，需方支付货款前，成交厂商向需方交纳成交总金额的5%作为质保金。质保金自货物质量验收合格之日起一年内若无遗留问题，需方将其质保金全额无息退还供方。3.开户名称： 西南大学 银行账号： #8877 开户银行： 工行重庆朝阳支行 统一社会信用代码： #33W 银行行号： #；质保金退还事宜联系电话：#；4.如竞标货物为进口的，必须填写品牌、型号、厂家、产地，并在报价说明里面填写报价方式为DDP/DAP等，如不填写报价方式的则默认为DDP报价。5.合同模板请见：http://**请最后成交供应商必须提供增值税专用发票。申购明细：
| 序号 | 采购内容 | 数量 | 预算单价 |
| 1 | 电子束蒸发镀膜机 | 1.0 | 个#.0 |
| 品牌 | 泰科诺 | ||
| 型号 | TEMD600 | ||
| 规格参数 | [{"key":1,"value":"★极限真空：空载优于5.0×10-5Pa（设备空载，抽真空24小时）；","important":true},{"key":2,"value":"▲升压率：设备升压率≤0.8Pa/h（12小时平均值）；设备保压：停泵12小时候后，设备真空度≤10Pa；","important":false},{"key":3,"value":"▲抽速：空载从大气抽至5.0×10-4Pa≤30min；","important":false},{"key":4,"value":"★均匀性：200*200mm的蒸镀面积内薄膜厚度（200nm时）不均匀性≤±5%；","important":false},{"key":5,"value":"▲真空腔室：①结构采用立式方形、前后开门结构，方便取放基片、后门更换蒸发材料以及真空腔室日常维护；可与手套箱连接②材料及尺寸采用SUS304优质不锈钢，Φ600×H750mm真空腔室（以实际设计为准）腔室采用水冷线冷却；镀膜腔室（包括管道、连接法兰等）均进 (略) 理，内表面 (略) 理，以减少“出气”量，有利于真空度的提高及耐腐蚀；所有焊缝连接采用氩弧焊接技术，内表 (略) 理；③主要接口装配位置镀膜室顶板上分布：旋转基片台1套；预留加热器及热电偶接口；底部：底板布置一台电子枪、配挡板；另预留2组电阻蒸发源及2套挡板接口；后部：抽气口；④预留接口：装膜厚仪以及其它用途；⑤Φ100mm观察窗及挡板，位于前门，观察窗玻璃采用铅玻璃，防止射线辐射；⑥腔室防污屏蔽板采用优质不锈钢材质，便于拆卸清理、更换等。","important":false},{"key":6,"value":"★基片台：①基片台：平板型，抽屉式结构，装载210×210mm样片，可从基片架组件中取出，方便用户安装基片；②配有气动基片台挡板；③配备通用夹具，方便用户装卡各种不同规格尺寸的基片；④基片台电机驱动：旋转转速0～20转/分钟，连续可调；主轴磁流体密封；⑤蒸发源与基片台距离500mm（实际设计为准）","important":false},{"key":7,"value":"★电子束蒸发源：①E型电子枪270°偏转电子枪偏转角保证了电子束发射源材料对膜层的无污染；双向、快速的电子束扫描系统 (略) ，避免了靶材的“扎坑”弊病； (略) 设计，保证电子枪温升小，可以长期稳定工作；②电子枪电源：10kW；坩埚工位为6穴；③电子枪挡板：气动；④金属蒸发源：水冷铜电极2组（4个电极）；⑤逆变式蒸发电源：功率3kW；1台","important":false},{"key":8,"value":"真空系统：①真空机组采用“复合分子泵+直联高速旋片式真空泵”组合的真空系统；②分子泵型号：FF250/2000，抽速：2000L/s；③机械泵型号：TRP-48，抽速：14L/s，北仪优成，合资品牌，抽速快，低噪音；④前级/旁路阀：DN40，气动插板阀；⑤真空测量：“两低一高”数显复合真空计；两低一高是指两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空；测量范围从1×105Pa到1×10-5Pa；⑥波纹管材质：SUS304不锈钢；真空密封：常拆卸密封采用氟橡胶圈密封，不常拆卸密封采用金属密封；","important":false},{"key":9,"value":"电气控制系统：①电气控制系统：采用PLC+触摸屏控制系统，可实现自动一键式抽真空，蒸发镀膜电源采用手动控制，以方便用户进行镀膜工艺参数的摸索；②控制内容：分子泵、机械泵、阀门开关；分子泵电源参数显示及开关控制；真空计参数显示及控制；基片台转速显示和控制；③安全保护报警系统：在缺水、水压过低等情况下的报警系统；完善的逻辑程序互锁保护系统。","important":false},{"key":10,"value":"膜厚监测系统：SQM-160/1台+原装探头/1只+晶振片/1盒SQM-160 使用成熟的 INFICON 石英晶体传感器技术在薄膜沉积过程中测量速率和厚度。两个传感器输入为标准输入，另外四个传感器输入为可选输入。两个录像机输出可提供模拟速率和厚度信号。传感器输入可分配给不同的材料，在大型系统中平均分配以实现精确的沉积控制，或者配置为双传感器。速率采样模式可在高速率过程中屏蔽传感器，从而延长传感器的使用寿命。速率显示为 0.1?/s 或 0.01?/s，用户可自行选择。此外，还可以选择频率或质量显示。凭借四个继电器输入，SQM-160 可控制来源或传感器屏蔽、信号时间和厚度设定点以及信号晶体失效。数字输入允许外部信号启动/停止和归零读数","important":false},{"key":11,"value":"手套箱：设备内包含一套可与设备完美连接的定制手套箱1套。","important":false}] | ||
| 质保及售后服务 | 按行业标准提供服务 | ||
| 序号 | 采购内容 | 数量 | 预算单价 |
| 2 | 电子束蒸发镀膜机 | 1.0 | 个#.0 |
| 品牌 | 北京维钠真空 | ||
| 型号 | VZZS-550 | ||
| 规格参数 | [{"key":1,"value":"★极限真空：空载优于5.0×10-5Pa（设备空载，抽真空24小时）；","important":true},{"key":2,"value":"▲升压率：设备升压率≤0.8Pa/h（12小时平均值）；设备保压：停泵12小时候后，设备真空度≤10Pa；","important":false},{"key":3,"value":"▲抽速：空载从大气抽至5.0×10-4Pa≤30min；","important":false},{"key":4,"value":"★均匀性：200*200mm的蒸镀面积内薄膜厚度（200nm时）不均匀性≤±5%；","important":false},{"key":5,"value":"▲真空腔室：①结构采用立式方形、前后开门结构，方便取放基片、后门更换蒸发材料以及真空腔室日常维护；可与手套箱连接②材料及尺寸采用SUS304优质不锈钢，Φ600×H750mm真空腔室（以实际设计为准）腔室采用水冷线冷却；镀膜腔室（包括管道、连接法兰等）均进 (略) 理，内表面 (略) 理，以减少“出气”量，有利于真空度的提高及耐腐蚀；所有焊缝连接采用氩弧焊接技术，内表 (略) 理；③主要接口装配位置镀膜室顶板上分布：旋转基片台1套；预留加热器及热电偶接口；底部：底板布置一台电子枪、配挡板；另预留2组电阻蒸发源及2套挡板接口；后部：抽气口；④预留接口：装膜厚仪以及其它用途；⑤Φ100mm观察窗及挡板，位于前门，观察窗玻璃采用铅玻璃，防止射线辐射；⑥腔室防污屏蔽板采用优质不锈钢材质，便于拆卸清理、更换等。","important":false},{"key":6,"value":"★基片台：①基片台：平板型，抽屉式结构，装载210×210mm样片，可从基片架组件中取出，方便用户安装基片；②配有气动基片台挡板；③配备通用夹具，方便用户装卡各种不同规格尺寸的基片；④基片台电机驱动：旋转转速0～20转/分钟，连续可调；主轴磁流体密封；⑤蒸发源与基片台距离500mm（实际设计为准）","important":false},{"key":7,"value":"★电子束蒸发源：①E型电子枪270°偏转电子枪偏转角保证了电子束发射源材料对膜层的无污染；双向、快速的电子束扫描系统 (略) ，避免了靶材的“扎坑”弊病； (略) 设计，保证电子枪温升小，可以长期稳定工作；②电子枪电源：10kW；坩埚工位为6穴；③电子枪挡板：气动；④金属蒸发源：水冷铜电极2组（4个电极）；⑤逆变式蒸发电源：功率3kW；1台","important":false},{"key":8,"value":"真空系统：①真空机组采用“复合分子泵+直联高速旋片式真空泵”组合的真空系统；②分子泵型号：FF250/2000，抽速：2000L/s；③机械泵型号：TRP-48，抽速：14L/s，北仪优成，合资品牌，抽速快，低噪音；④前级/旁路阀：DN40，气动插板阀；⑤真空测量：“两低一高”数显复合真空计；两低一高是指两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空；测量范围从1×105Pa到1×10-5Pa；⑥波纹管材质：SUS304不锈钢；真空密封：常拆卸密封采用氟橡胶圈密封，不常拆卸密封采用金属密封；","important":false},{"key":9,"value":"电气控制系统：①电气控制系统：采用PLC+触摸屏控制系统，可实现自动一键式抽真空，蒸发镀膜电源采用手动控制，以方便用户进行镀膜工艺参数的摸索；②控制内容：分子泵、机械泵、阀门开关；分子泵电源参数显示及开关控制；真空计参数显示及控制；基片台转速显示和控制；③安全保护报警系统：在缺水、水压过低等情况下的报警系统；完善的逻辑程序互锁保护系统。","important":false},{"key":10,"value":"膜厚监测系统：SQM-160/1台+原装探头/1只+晶振片/1盒SQM-160 使用成熟的 INFICON 石英晶体传感器技术在薄膜沉积过程中测量速率和厚度。两个传感器输入为标准输入，另外四个传感器输入为可选输入。两个录像机输出可提供模拟速率和厚度信号。传感器输入可分配给不同的材料，在大型系统中平均分配以实现精确的沉积控制，或者配置为双传感器。速率采样模式可在高速率过程中屏蔽传感器，从而延长传感器的使用寿命。速率显示为 0.1?/s 或 0.01?/s，用户可自行选择。此外，还可以选择频率或质量显示。凭借四个继电器输入，SQM-160 可控制来源或传感器屏蔽、信号时间和厚度设定点以及信号晶体失效。数字输入允许外部信号启动/停止和归零读数","important":false},{"key":11,"value":"手套箱：设备内包含一套可与设备完美连接的定制手套箱1套。","important":false}] | ||
| 质保及售后服务 | 按行业标准提供服务 | ||
| 序号 | 采购内容 | 数量 | 预算单价 |
| 3 | 电子束蒸发镀膜机 | 1.0 | 个#.0 |
| 品牌 | 武汉普迪 | ||
| 型号 | PD600 | ||
| 规格参数 | [{"key":1,"value":"★极限真空：空载优于5.0×10-5Pa（设备空载，抽真空24小时）；","important":true},{"key":2,"value":"▲升压率：设备升压率≤0.8Pa/h（12小时平均值）；设备保压：停泵12小时候后，设备真空度≤10Pa；","important":false},{"key":3,"value":"▲抽速：空载从大气抽至5.0×10-4Pa≤30min；","important":false},{"key":4,"value":"★均匀性：200*200mm的蒸镀面积内薄膜厚度（200nm时）不均匀性≤±5%；","important":false},{"key":5,"value":"▲真空腔室：①结构采用立式方形、前后开门结构，方便取放基片、后门更换蒸发材料以及真空腔室日常维护；可与手套箱连接②材料及尺寸采用SUS304优质不锈钢，Φ600×H750mm真空腔室（以实际设计为准）腔室采用水冷线冷却；镀膜腔室（包括管道、连接法兰等）均进 (略) 理，内表面 (略) 理，以减少“出气”量，有利于真空度的提高及耐腐蚀；所有焊缝连接采用氩弧焊接技术，内表 (略) 理；③主要接口装配位置镀膜室顶板上分布：旋转基片台1套；预留加热器及热电偶接口；底部：底板布置一台电子枪、配挡板；另预留2组电阻蒸发源及2套挡板接口；后部：抽气口；④预留接口：装膜厚仪以及其它用途；⑤Φ100mm观察窗及挡板，位于前门，观察窗玻璃采用铅玻璃，防止射线辐射；⑥腔室防污屏蔽板采用优质不锈钢材质，便于拆卸清理、更换等。","important":false},{"key":6,"value":"★基片台：①基片台：平板型，抽屉式结构，装载210×210mm样片，可从基片架组件中取出，方便用户安装基片；②配有气动基片台挡板；③配备通用夹具，方便用户装卡各种不同规格尺寸的基片；④基片台电机驱动：旋转转速0～20转/分钟，连续可调；主轴磁流体密封；⑤蒸发源与基片台距离500mm（实际设计为准）","important":false},{"key":7,"value":"★电子束蒸发源：①E型电子枪270°偏转电子枪偏转角保证了电子束发射源材料对膜层的无污染；双向、快速的电子束扫描系统 (略) ，避免了靶材的“扎坑”弊病； (略) 设计，保证电子枪温升小，可以长期稳定工作；②电子枪电源：10kW；坩埚工位为6穴；③电子枪挡板：气动；④金属蒸发源：水冷铜电极2组（4个电极）；⑤逆变式蒸发电源：功率3kW；1台","important":false},{"key":8,"value":"真空系统：①真空机组采用“复合分子泵+直联高速旋片式真空泵”组合的真空系统；②分子泵型号：FF250/2000，抽速：2000L/s；③机械泵型号：TRP-48，抽速：14L/s，北仪优成，合资品牌，抽速快，低噪音；④前级/旁路阀：DN40，气动插板阀；⑤真空测量：“两低一高”数显复合真空计；两低一高是指两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空；测量范围从1×105Pa到1×10-5Pa；⑥波纹管材质：SUS304不锈钢；真空密封：常拆卸密封采用氟橡胶圈密封，不常拆卸密封采用金属密封；","important":false},{"key":9,"value":"电气控制系统：①电气控制系统：采用PLC+触摸屏控制系统，可实现自动一键式抽真空，蒸发镀膜电源采用手动控制，以方便用户进行镀膜工艺参数的摸索；②控制内容：分子泵、机械泵、阀门开关；分子泵电源参数显示及开关控制；真空计参数显示及控制；基片台转速显示和控制；③安全保护报警系统：在缺水、水压过低等情况下的报警系统；完善的逻辑程序互锁保护系统。","important":false},{"key":10,"value":"膜厚监测系统：SQM-160/1台+原装探头/1只+晶振片/1盒SQM-160 使用成熟的 INFICON 石英晶体传感器技术在薄膜沉积过程中测量速率和厚度。两个传感器输入为标准输入，另外四个传感器输入为可选输入。两个录像机输出可提供模拟速率和厚度信号。传感器输入可分配给不同的材料，在大型系统中平均分配以实现精确的沉积控制，或者配置为双传感器。速率采样模式可在高速率过程中屏蔽传感器，从而延长传感器的使用寿命。速率显示为 0.1?/s 或 0.01?/s，用户可自行选择。此外，还可以选择频率或质量显示。凭借四个继电器输入，SQM-160 可控制来源或传感器屏蔽、信号时间和厚度设定点以及信号晶体失效。数字输入允许外部信号启动/停止和归零读数","important":false},{"key":11,"value":"手套箱：设备内包含一套可与设备完美连接的定制手套箱1套。","important":false}] | ||
| 质保及售后服务 | 按行业标准提供服务 | ||
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