高真空多靶磁控溅射镀膜系统采购
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高真空多靶磁控溅射镀膜系统采购
| 基本信息： | |
| 申购单主题： | 高真空多靶磁控溅射镀膜系统 |
| 申购单类型： | 竞价类 |
| 设备类别： | 仪器仪表 |
| 使用币种： | 人民币 |
| 竞价开始时间： | 点击查看>> * : * |
| 竞价结束时间： | 点击查看>> * : * 我要报价 |
| 申购备注： | 1.投标人须为境内合法注册登记的法人，中标后不允许分包、转包。投标人必须按要求在报价说明 * (略) (略) 商（全称）和产地信息，如不提供，视为无效投标 。2.拒绝进口设备投标。3.项目预算 点击查看>> 元，签订合同后3周内， (略) 要求提前天通知送货；质保期：1年； (略) 有货物完好无损地送到 * 方指定地点且负责安装、调试、 (略) ，并经 * 方验收合格后，十个工作日付 * ％货款。4.规 (略) 有要求均必须满足。 |
| 申购设备详情： |
| 设备名称 | 数量 | 单位 | 品牌 | 型号 | 是否标配 | 售后服务 | 规格配置 | 附件 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 高真空多靶磁控溅射镀膜系统 | 1 | 台 | (略) 泰科诺 | JCP * | 是 | 按行业标准提供服务 | * 、总体要求：*高真空多靶磁控溅射镀膜系统为 * 体化设计，PLC触摸屏控制，操控方便，结构紧凑，占地小；可单靶独立、多靶轮流和组合向心共溅射；各溅射靶及基片台均配独立挡板，保证镀膜的工艺稳定性、防止交叉污染和干扰等； (略) 家必须是 (略) 技术企业，有良好履约能力及 * 个以上的同类产品业绩证明，具有完善的售后服务体系保障及用户服务好评。*交货期： * 周 * 、设备具体要求：*1.真空腔室：不小于φ * ×H * mm， * 优质不锈钢真空腔室；电气动上开盖结构；*2.真空系统：复合分子泵（FF- 点击查看>> ，抽速： * L/S）直联旋片泵（北仪优成TRP- * ，抽速6L/s）+高真空气/电动阀门，及配套不锈钢管路；数显复合真空计 全量程 * 套*3.真空极限：极限真空优于6.6× * -5Pa（设备空载抽真空 * 小时）；4.漏率：设备升压率≤0.8Pa/h；设备保压：停泵 * 小时候后，真空≤ * Pa；*5.抽速：（空载）从大气抽至5.0× * -3Pa≤ * min；6.基片台尺寸：Φ * mm范围内可装卡各种规格基片；7.基片台旋转与加热基片旋转：0～ * 转/分钟；加热:室温～ * ±1℃，可控可调，日本岛电PID智能温控闭环控温；*8.溅射靶及电源：3只2英寸磁控靶，共焦溅射；兼容直流/射频电源溅射；各靶角度高度可调；每只靶配有气动挡板结构；1台直流脉冲溅射电源：功率1kw；数字化控制及显示 恒流、恒压，恒功率模式可选，带 * 通讯（标准Modbus协议）接口可选；1台射频溅射电源 功率 * W自动匹配器 恒功率模式，带 * 通讯（标准Modbus协议）频率稳定度：≤± 0. * ％功率稳定度：≤±0.5％承受驻波比：VSWR ≤2.0谐波输出： * 次谐波低于- * dBc， * 次及更高次谐波低于- * dBc*9. 膜厚不均匀性：≤±5％（基片台Φ * mm范围内）；（需提供验证报告）* * .膜厚监控仪：膜厚监控仪 双通道 水冷单探头 * 套 振荡频率6Mhz,膜厚仪速率分辨率0.1A,膜厚精度1A* * .控制方式：PLC+触摸屏人机界面自动控制系统； * .报警及保护：对泵、电极等缺水、过流过压、断路等 (略) (略) 相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统；* * .进气：2路MFC 气体控制及管路 Ar、N2；量程范围0～ * / * sccm；触摸屏控制； * ． * 体化设计，及铝合金框架机架，设计合理紧凑。 | 无 |
| 基本信息： | |
| 申购单主题： | 高真空多靶磁控溅射镀膜系统 |
| 申购单类型： | 竞价类 |
| 设备类别： | 仪器仪表 |
| 使用币种： | 人民币 |
| 竞价开始时间： | 点击查看>> * : * |
| 竞价结束时间： | 点击查看>> * : * 我要报价 |
| 申购备注： | 1.投标人须为境内合法注册登记的法人，中标后不允许分包、转包。投标人必须按要求在报价说明 * (略) (略) 商（全称）和产地信息，如不提供，视为无效投标 。2.拒绝进口设备投标。3.项目预算 点击查看>> 元，签订合同后3周内， (略) 要求提前天通知送货；质保期：1年； (略) 有货物完好无损地送到 * 方指定地点且负责安装、调试、 (略) ，并经 * 方验收合格后，十个工作日付 * ％货款。4.规 (略) 有要求均必须满足。 |
| 申购设备详情： |
| 设备名称 | 数量 | 单位 | 品牌 | 型号 | 是否标配 | 售后服务 | 规格配置 | 附件 |
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| 高真空多靶磁控溅射镀膜系统 | 1 | 台 | (略) 泰科诺 | JCP * | 是 | 按行业标准提供服务 | * 、总体要求：*高真空多靶磁控溅射镀膜系统为 * 体化设计，PLC触摸屏控制，操控方便，结构紧凑，占地小；可单靶独立、多靶轮流和组合向心共溅射；各溅射靶及基片台均配独立挡板，保证镀膜的工艺稳定性、防止交叉污染和干扰等； (略) 家必须是 (略) 技术企业，有良好履约能力及 * 个以上的同类产品业绩证明，具有完善的售后服务体系保障及用户服务好评。*交货期： * 周 * 、设备具体要求：*1.真空腔室：不小于φ * ×H * mm， * 优质不锈钢真空腔室；电气动上开盖结构；*2.真空系统：复合分子泵（FF- 点击查看>> ，抽速： * L/S）直联旋片泵（北仪优成TRP- * ，抽速6L/s）+高真空气/电动阀门，及配套不锈钢管路；数显复合真空计 全量程 * 套*3.真空极限：极限真空优于6.6× * -5Pa（设备空载抽真空 * 小时）；4.漏率：设备升压率≤0.8Pa/h；设备保压：停泵 * 小时候后，真空≤ * Pa；*5.抽速：（空载）从大气抽至5.0× * -3Pa≤ * min；6.基片台尺寸：Φ * mm范围内可装卡各种规格基片；7.基片台旋转与加热基片旋转：0～ * 转/分钟；加热:室温～ * ±1℃，可控可调，日本岛电PID智能温控闭环控温；*8.溅射靶及电源：3只2英寸磁控靶，共焦溅射；兼容直流/射频电源溅射；各靶角度高度可调；每只靶配有气动挡板结构；1台直流脉冲溅射电源：功率1kw；数字化控制及显示 恒流、恒压，恒功率模式可选，带 * 通讯（标准Modbus协议）接口可选；1台射频溅射电源 功率 * W自动匹配器 恒功率模式，带 * 通讯（标准Modbus协议）频率稳定度：≤± 0. * ％功率稳定度：≤±0.5％承受驻波比：VSWR ≤2.0谐波输出： * 次谐波低于- * dBc， * 次及更高次谐波低于- * dBc*9. 膜厚不均匀性：≤±5％（基片台Φ * mm范围内）；（需提供验证报告）* * .膜厚监控仪：膜厚监控仪 双通道 水冷单探头 * 套 振荡频率6Mhz,膜厚仪速率分辨率0.1A,膜厚精度1A* * .控制方式：PLC+触摸屏人机界面自动控制系统； * .报警及保护：对泵、电极等缺水、过流过压、断路等 (略) (略) 相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统；* * .进气：2路MFC 气体控制及管路 Ar、N2；量程范围0～ * / * sccm；触摸屏控制； * ． * 体化设计，及铝合金框架机架，设计合理紧凑。 | 无 |
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