光刻机采购

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光刻机采购



(略) - 竞价公告 (CB 点击查看>> )
发布时间: 点击查看>> * : * : * 截止时间: 点击查看>> * : * : *
基本信息:
申购单号:CB 点击查看>> 申购主题:光刻机 采购单位: (略) 报价要求:国产含税 发票类型:增值税普通发票 币种:人民币 预算:点击查看>>点击查看>>
签约时间:发布竞价结果后7天内签约合同 送货时间:合同签订后7天内送达 安装要求:免费上门安装(含材料费) 收货地址: (略) 省/ (略) 市/ (略) 区/点击查看>>* 我要报价
付款方式:1.货到安装、调试、验收合格后,付全款。 备注说明:
刘明: 点击查看>> 不指定本地供应商
申购明细:
序号
1
采购内容
光刻机
数量
1
预算单价
品牌 SVC、IOE
型号 H * - * C/URE- 点击查看>>
规格参数 H * - * C型技术指标: ? 曝光类型:单面; ? 曝光面积: * × * mm; ? 曝光照度不均匀性:≤3%; ? 曝光强度:≥ * mw/cm2可调; ? 紫外光束角:≤3?; ? (略) 波长: * nm; ? 紫外光源寿命:≥2万小时; ? 曝光分辨率:1μm; ? 曝光模式:可选择 * 次曝光或套刻曝光; ? 显微镜扫描范围:X:± * mm Y:± * mm; ? 对准范围:X、Y粗调±3mm,细调±0.3mm;Q粗调± * °,细调±3°; ? 套刻精度:1μm; ? 分离量;0~ * μm可调; ? 接触-分离漂移:≤1μm; ? 曝光方式:密着曝光,可实现硬接触、软接触和微力接触曝光; ? 找平方式: * 点式自动找平; ? 显微系统: (略) CCD系统,显微镜 * X~ * X连续变倍(物镜0. * X~5X连续变倍),双物镜距离可调范围 * mm~ * mm, (略) 理系统, * ″液晶监视器; ? 掩模版尺寸:3″×3″、4″×4″、5″×5″; ? 基片尺寸:φ2、φ3、φ4、“碎片”; ? 基片厚度:≤5 mm; ? 曝光定时:0~ * .9秒可调; ? 对准方式:切斯曼对准机构。 ? 曝光头转位:气动; ? 电源:单相AC * V * HZ ,功耗≤1KW; ? 洁净空气压力:≥0.4MPa; 保修期: * 年。 URE- 点击查看>> 型技术指标: ? 曝光面积:4英寸 ? 曝光波长: * nm ? 分辨力:0.8mm-1mm(胶厚≤1mm的正胶) ? 对准精度:±0. 8mm ? 掩模样片整体运动范围:X:优于 * mm;Y: 优于 * mm ? 掩模尺寸:2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸 ? 样片尺寸:直径f * mm-- f * mm(各种不规则片),厚度可适应0.1mm--5mm(最大可扩展为 * mm) ? 曝光方式:定时(倒计时方式)或定剂量 ? 具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光,以及接近式曝光 * 种功能 ? 照明不均匀性: 3%(f * mm 范围) ? (略) 对准显微镜:既可通过目镜目视对准,也可通过CCD+显示器对准,光学合像,光学最大倍数 * 倍,光学+电子放大 * 倍,物镜 * 对:4倍、 * 倍、 * 倍,目镜 * 对: * 倍、 * 倍、 * 倍 ? 调平接触压力通过传感器保证重复 ? 数字设定对准间隙和曝光间隙 ? 具备压印模块接口,也具备接近模块接口 ? 掩模相对 (略) 程: ? X: 优于±5mm; Y: 优于±5mm; q:优于±6o ? 最大焦厚: * mm(SU8胶,用户提供检测条件) ? (略) 性:≤3o ? 曝光能量密度:> * mW/cm2,照明面温度< * o ? 单层曝光 * 键完成 ? 采用球气浮自动找平 ? LED光源 ? 保修期 * 年
质保及售后服务 按行业标准提供服务,质保期 * 个月。



(略) - 竞价公告 (CB 点击查看>> )
发布时间: 点击查看>> * : * : * 截止时间: 点击查看>> * : * : *
基本信息:
申购单号:CB 点击查看>> 申购主题:光刻机 采购单位: (略) 报价要求:国产含税 发票类型:增值税普通发票 币种:人民币 预算:点击查看>>点击查看>>
签约时间:发布竞价结果后7天内签约合同 送货时间:合同签订后7天内送达 安装要求:免费上门安装(含材料费) 收货地址: (略) 省/ (略) 市/ (略) 区/点击查看>>* 我要报价
付款方式:1.货到安装、调试、验收合格后,付全款。 备注说明:
刘明: 点击查看>> 不指定本地供应商
申购明细:
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采购内容
光刻机
数量
1
预算单价
品牌 SVC、IOE
型号 H * - * C/URE- 点击查看>>
规格参数 H * - * C型技术指标: ? 曝光类型:单面; ? 曝光面积: * × * mm; ? 曝光照度不均匀性:≤3%; ? 曝光强度:≥ * mw/cm2可调; ? 紫外光束角:≤3?; ? (略) 波长: * nm; ? 紫外光源寿命:≥2万小时; ? 曝光分辨率:1μm; ? 曝光模式:可选择 * 次曝光或套刻曝光; ? 显微镜扫描范围:X:± * mm Y:± * mm; ? 对准范围:X、Y粗调±3mm,细调±0.3mm;Q粗调± * °,细调±3°; ? 套刻精度:1μm; ? 分离量;0~ * μm可调; ? 接触-分离漂移:≤1μm; ? 曝光方式:密着曝光,可实现硬接触、软接触和微力接触曝光; ? 找平方式: * 点式自动找平; ? 显微系统: (略) CCD系统,显微镜 * X~ * X连续变倍(物镜0. * X~5X连续变倍),双物镜距离可调范围 * mm~ * mm, (略) 理系统, * ″液晶监视器; ? 掩模版尺寸:3″×3″、4″×4″、5″×5″; ? 基片尺寸:φ2、φ3、φ4、“碎片”; ? 基片厚度:≤5 mm; ? 曝光定时:0~ * .9秒可调; ? 对准方式:切斯曼对准机构。 ? 曝光头转位:气动; ? 电源:单相AC * V * HZ ,功耗≤1KW; ? 洁净空气压力:≥0.4MPa; 保修期: * 年。 URE- 点击查看>> 型技术指标: ? 曝光面积:4英寸 ? 曝光波长: * nm ? 分辨力:0.8mm-1mm(胶厚≤1mm的正胶) ? 对准精度:±0. 8mm ? 掩模样片整体运动范围:X:优于 * mm;Y: 优于 * mm ? 掩模尺寸:2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸 ? 样片尺寸:直径f * mm-- f * mm(各种不规则片),厚度可适应0.1mm--5mm(最大可扩展为 * mm) ? 曝光方式:定时(倒计时方式)或定剂量 ? 具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光,以及接近式曝光 * 种功能 ? 照明不均匀性: 3%(f * mm 范围) ? (略) 对准显微镜:既可通过目镜目视对准,也可通过CCD+显示器对准,光学合像,光学最大倍数 * 倍,光学+电子放大 * 倍,物镜 * 对:4倍、 * 倍、 * 倍,目镜 * 对: * 倍、 * 倍、 * 倍 ? 调平接触压力通过传感器保证重复 ? 数字设定对准间隙和曝光间隙 ? 具备压印模块接口,也具备接近模块接口 ? 掩模相对 (略) 程: ? X: 优于±5mm; Y: 优于±5mm; q:优于±6o ? 最大焦厚: * mm(SU8胶,用户提供检测条件) ? (略) 性:≤3o ? 曝光能量密度:> * mW/cm2,照明面温度< * o ? 单层曝光 * 键完成 ? 采用球气浮自动找平 ? LED光源 ? 保修期 * 年
质保及售后服务 按行业标准提供服务,质保期 * 个月。

    
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