长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目（第40批）国际招标澄清或变更公告(3)0668-2040H0100014/48
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长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目（第40批）国际招标澄清或变更公告(3)0668-2040H0100014/48
澄清或变更简要说明：开标时间延期至 * 日9: * （ (略) 时间）
(略) (略) ，于 点击查看>> - (略) 。 (略) 方式，现邀请合格投标人参加投标。
1、招标条件
项目概况:长江 (略) 国际设备采购
资金到位或资金来源落实情况:已落实
(略) 条件的说明:已具备
2、招标内容
招标项目编号: 点击查看>> H 点击查看>>
招标项目名称:长江 (略) 国际设备采购项目（第 * 批）
项目实施地点:中国 (略) 省
招标产品列表(主要设备):
| 序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
| 1 | 高温 (略) 度氧化硅原子层化学气相沉积设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| 2 | 后端等离子体增强方式以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅薄膜化学气相沉积设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| 3 | 后端等离子体增强方式以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅薄膜化学气相沉积设备2 | 1 | 详见招标文件 | |
| 4 | 前端等离子体增强方式以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅薄膜化学气相沉积设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| 5 | 前端等离子体增强方式以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅薄膜化学气相沉积设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| 6 | 立式高温退火设备 | * | 详见招标文件 | |
| 7 | 立式高温退火设备 | * | 详见招标文件 | |
| 8 | 钽阻挡层-铜种籽层物理气相沉积机台 | 1 | 详见招标文件 | |
| 9 | 钽阻挡层-铜种籽层物理气相沉积机台 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 铝垫物理气相沉积机台 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 后端等离子体增强方式氮氧化硅薄膜化学气相沉积设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 铝刻蚀设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 铝刻蚀设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 硅槽刻蚀设备（Silicon etch） | 4 | 详见招标文件 | |
| * | 硅槽刻蚀设备（Silicon etch） | 3 | 详见招标文件 | |
| * | 金属退火设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 立式合金炉管设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 立式合金炉管设备-2 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 层间介质层化学机械抛光机 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 层间介质层化学机械抛光机-2 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 氧化硅化学机械抛光机 | 3 | 详见招标文件 | |
| * | 晶圆硅面化学机械抛光机 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 晶圆硅面化学机械抛光机-2 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 晶圆修边机 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 晶圆修边机-2 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 氧化硅化学机械抛光机(Bond Oxide) | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 氧化硅化学机械抛光机（Bond Oxide）-2 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 氮化硅立式低压化学气相沉积设备 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 非晶硅低压化学气相沉积设备 | 4 | 详见招标文件 | |
| * | 非晶硅掩膜低压化学气相沉积设备 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 高介电常数氧化铝原子层沉积设备 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 聚酰亚胺固化设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 立式低压多晶硅沉积设备 | 3 | 详见招标文件 | |
| * | 立式低压氯气/氯化氢刻蚀设备 | 3 | 详见招标文件 | |
| * | 立式高温低压SIN淀积设备 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 立式高温低压OX淀积设备 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 立式合金化设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 立式栅极氧化硅生长设备(W) | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 立式栅极氧化硅生长设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 后端等离子体增强方式以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅薄膜化学气相沉积设备3 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 后端等离子体增强方式以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅薄膜化学气相沉积设备4 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | * 寸晶圆单片式晶边清洗机 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 单片式重聚合物化学清洗机 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 批次式栅极线氮化硅蚀刻机 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 立式超高温退火设备 | 5 | 详见招标文件 | |
| * | 立式高温退火设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 铜退火设备 | 4 | 详见招标文件 | |
| * | 全自动晶圆允收探针机 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 全自动晶圆允收测试机 | 1 | 详见招标文件 |
3、投标人资格要求
投标人应具备的资格或业绩:投标 (略) 商须具有同类设备的设计与制造的经验，所投设备为非试制品。 如由代理投标，须取得生产商唯 * 有效的授权书。投标人拟投设备应技术成熟，投标设备或同 (略) 业应有类似销售业绩，并提供用户清单。在经营过程中信誉良好，无违法经营和无 (略) 为。 以上资质文件应在规定的期限内真实有效， (略) 文件而予以否决。 (略) 文件而予以否决。 (略) 网上注册，网址：http:/ 点击查看>>
是否接受联合体投标:不接受
未领购招标文件是否可以参加投标:不可以
4、招标文件的获取
招标文件领购开始时间: 点击查看>>
招标文件领购结束时间: 点击查看>>
是否在线售卖标书:否
获取招标文件方式:现场领购
招标文件领购地点： (略) (略) 驻长江 (略) 办公室
招标文件售价:￥ * /$ *
其他说明: * onaland. (略) (略) 联系
5、投标文件的递交
投标截止时间（开标时间）: 点击查看>> * : *
投标文件送达地点: (略) (略) * 号会议室
开标地点: (略) (略) * 号会议室
6、投标人在投标 (略) （https:/ 点击查看>> ） (略) 投标电子交易平台（https:/ 点击查看>> ）完成注册及信息核验。 (略) 网公示。
7、联系方式
招标人:长江 (略)
地址: (略) 省 (略) 市 (略) 新技术开发区未来 * 路 * 号
联系人:单泽海、张晓培、刘利芳
联系方式: 点击查看>>
招标代理机构: (略) (略)
地址: (略) 市 (略) 区 (略) 西路特2号
联系人:钱佩、李鑫
联系方式: 点击查看>> 点击查看>> 6、 *
8、汇款方式:
招标代理 (略) (人民币): (略) 武 (略)
招标代理 (略) (美元): (略) 武 (略)
账号(人民币): 点击查看>>
账号(美元): 点击查看>>
澄清或变更简要说明：开标时间延期至 * 日9: * （ (略) 时间）
(略) (略) ，于 点击查看>> - (略) 。 (略) 方式，现邀请合格投标人参加投标。
1、招标条件
项目概况:长江 (略) 国际设备采购
资金到位或资金来源落实情况:已落实
(略) 条件的说明:已具备
2、招标内容
招标项目编号: 点击查看>> H 点击查看>>
招标项目名称:长江 (略) 国际设备采购项目（第 * 批）
项目实施地点:中国 (略) 省
招标产品列表(主要设备):
| 序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
| 1 | 高温 (略) 度氧化硅原子层化学气相沉积设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| 2 | 后端等离子体增强方式以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅薄膜化学气相沉积设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| 3 | 后端等离子体增强方式以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅薄膜化学气相沉积设备2 | 1 | 详见招标文件 | |
| 4 | 前端等离子体增强方式以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅薄膜化学气相沉积设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| 5 | 前端等离子体增强方式以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅薄膜化学气相沉积设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| 6 | 立式高温退火设备 | * | 详见招标文件 | |
| 7 | 立式高温退火设备 | * | 详见招标文件 | |
| 8 | 钽阻挡层-铜种籽层物理气相沉积机台 | 1 | 详见招标文件 | |
| 9 | 钽阻挡层-铜种籽层物理气相沉积机台 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 铝垫物理气相沉积机台 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 后端等离子体增强方式氮氧化硅薄膜化学气相沉积设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 铝刻蚀设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 铝刻蚀设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 硅槽刻蚀设备（Silicon etch） | 4 | 详见招标文件 | |
| * | 硅槽刻蚀设备（Silicon etch） | 3 | 详见招标文件 | |
| * | 金属退火设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 立式合金炉管设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 立式合金炉管设备-2 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 层间介质层化学机械抛光机 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 层间介质层化学机械抛光机-2 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 氧化硅化学机械抛光机 | 3 | 详见招标文件 | |
| * | 晶圆硅面化学机械抛光机 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 晶圆硅面化学机械抛光机-2 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 晶圆修边机 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 晶圆修边机-2 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 氧化硅化学机械抛光机(Bond Oxide) | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 氧化硅化学机械抛光机（Bond Oxide）-2 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 氮化硅立式低压化学气相沉积设备 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 非晶硅低压化学气相沉积设备 | 4 | 详见招标文件 | |
| * | 非晶硅掩膜低压化学气相沉积设备 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 高介电常数氧化铝原子层沉积设备 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 聚酰亚胺固化设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 立式低压多晶硅沉积设备 | 3 | 详见招标文件 | |
| * | 立式低压氯气/氯化氢刻蚀设备 | 3 | 详见招标文件 | |
| * | 立式高温低压SIN淀积设备 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 立式高温低压OX淀积设备 | 2 | 详见招标文件 | |
| * | 立式合金化设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 立式栅极氧化硅生长设备(W) | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 立式栅极氧化硅生长设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 后端等离子体增强方式以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅薄膜化学气相沉积设备3 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 后端等离子体增强方式以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅薄膜化学气相沉积设备4 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | * 寸晶圆单片式晶边清洗机 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 单片式重聚合物化学清洗机 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 批次式栅极线氮化硅蚀刻机 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 立式超高温退火设备 | 5 | 详见招标文件 | |
| * | 立式高温退火设备 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 铜退火设备 | 4 | 详见招标文件 | |
| * | 全自动晶圆允收探针机 | 1 | 详见招标文件 | |
| * | 全自动晶圆允收测试机 | 1 | 详见招标文件 |
3、投标人资格要求
投标人应具备的资格或业绩:投标 (略) 商须具有同类设备的设计与制造的经验，所投设备为非试制品。 如由代理投标，须取得生产商唯 * 有效的授权书。投标人拟投设备应技术成熟，投标设备或同 (略) 业应有类似销售业绩，并提供用户清单。在经营过程中信誉良好，无违法经营和无 (略) 为。 以上资质文件应在规定的期限内真实有效， (略) 文件而予以否决。 (略) 文件而予以否决。 (略) 网上注册，网址：http:/ 点击查看>>
是否接受联合体投标:不接受
未领购招标文件是否可以参加投标:不可以
4、招标文件的获取
招标文件领购开始时间: 点击查看>>
招标文件领购结束时间: 点击查看>>
是否在线售卖标书:否
获取招标文件方式:现场领购
招标文件领购地点： (略) (略) 驻长江 (略) 办公室
招标文件售价:￥ * /$ *
其他说明: * onaland. (略) (略) 联系
5、投标文件的递交
投标截止时间（开标时间）: 点击查看>> * : *
投标文件送达地点: (略) (略) * 号会议室
开标地点: (略) (略) * 号会议室
6、投标人在投标 (略) （https:/ 点击查看>> ） (略) 投标电子交易平台（https:/ 点击查看>> ）完成注册及信息核验。 (略) 网公示。
7、联系方式
招标人:长江 (略)
地址: (略) 省 (略) 市 (略) 新技术开发区未来 * 路 * 号
联系人:单泽海、张晓培、刘利芳
联系方式: 点击查看>>
招标代理机构: (略) (略)
地址: (略) 市 (略) 区 (略) 西路特2号
联系人:钱佩、李鑫
联系方式: 点击查看>> 点击查看>> 6、 *
8、汇款方式:
招标代理 (略) (人民币): (略) 武 (略)
招标代理 (略) (美元): (略) 武 (略)
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