招标项目编号： 点击查看>>
项目名称：等离子体增强方式化学气相薄膜沉积设备（低介电常数阻挡层）、（后段 * 氧化硅)、（后段氮化硅）、（后段以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅）
项目名称(英文)：PE CVD Equipment(Low K Block)\(PEOX(Cu))\SIN(Cu)\PETEOS(Cu)
招标人：华虹半导体（ (略) ）有限公司
招标机构： (略) 有限公司
招标机构代码： *
招标方式：公开招标
投标报价方式：线下投标
招标结果：重新招标

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项目名称：等离子体增强方式化学气相薄膜沉积设备（低介电常数阻挡层）、（后段 * 氧化硅)、（后段氮化硅）、（后段以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅）
项目名称(英文)：PE CVD Equipment(Low K Block)\(PEOX(Cu))\SIN(Cu)\PETEOS(Cu)
招标人：华虹半导体（ (略) ）有限公司
招标机构： (略) 有限公司
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