等离子体增强方式化学气相薄膜沉积设备（后段以硅烷作反应物的二氧化硅）、等离子体增强方式化学气相薄膜沉积设备（后段氮化硅）重新招标澄清或变更公告(1)
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等离子体增强方式化学气相薄膜沉积设备（后段以硅烷作反应物的二氧化硅）、等离子体增强方式化学气相薄膜沉积设备（后段氮化硅）重新招标澄清或变更公告(1)
招标项目编号： 点击查看>>
项目名称：等离子体增强方式化学气相薄膜沉积设备（后段以硅烷作反应物的 * 氧化硅）、等离子体增强方式化学气相薄膜沉积设备（后段氮化硅）
项目名称(英文)：PECVD OX(Cu)\PE CVD Equipment PESIN(Cu)
招标人：华虹半导体（ (略) ）有限公司
招标机构： (略) 有限公司
招标机构代码： *
招标方式：公开招标
投标报价方式：线下投标
招标结果：重新招标
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项目名称：等离子体增强方式化学气相薄膜沉积设备（后段以硅烷作反应物的 * 氧化硅）、等离子体增强方式化学气相薄膜沉积设备（后段氮化硅）
项目名称(英文)：PECVD OX(Cu)\PE CVD Equipment PESIN(Cu)
招标人：华虹半导体（ (略) ）有限公司
招标机构： (略) 有限公司
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