等离子增强化学气相沉积设备制程腔国际招标澄清或变更公告(2)
等离子增强化学气相沉积设备制程腔国际招标澄清或变更公告(2)
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 等离子增强化学气相沉积设备制程腔 | 4台 | (1)所购 PECVD系统主要用于OLED的薄膜封装。(2)满足薄膜封装装置配套(3)膜层成膜温度:SiNx、SiON、SiOx、成膜温度 * ℃~ * ℃ | 点击查看>> |
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 等离子增强化学气相沉积设备制程腔 | 4台 | (1)所购 PECVD系统主要用于OLED的薄膜封装。(2)满足薄膜封装装置配套(3)膜层成膜温度:SiNx、SiON、SiOx、成膜温度 * ℃~ * ℃ | 点击查看>> |
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