等离子体增强方式以硅酸四乙酯作反应物的二氧化硅薄膜化学气相沉积设备国际招标澄清或变更公告(2)-0705-214020603470
等离子体增强方式以硅酸四乙酯作反应物的二氧化硅薄膜化学气相沉积设备国际招标澄清或变更公告(2)-0705-214020603470
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 等离子体增强方式以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅薄膜化学气相沉积设备 | 1套 | 用于 * 英寸集成电路生产企业的等离子体增强方式以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅薄膜化学气相沉积设备/PESIN(Cu)/PEOX(Cu)/NDARC,满足 * nm或 * nm以下产品量产及研发需求。 |
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 等离子体增强方式以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅薄膜化学气相沉积设备 | 1套 | 用于 * 英寸集成电路生产企业的等离子体增强方式以硅酸 * * 酯作反应物的 * 氧化硅薄膜化学气相沉积设备/PESIN(Cu)/PEOX(Cu)/NDARC,满足 * nm或 * nm以下产品量产及研发需求。 |
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