上海积塔半导体有限公司特色工艺生产线建设项目国际招标澄清或变更公告(3)-4197-2140SHJT0001/303
上海积塔半导体有限公司特色工艺生产线建设项目国际招标澄清或变更公告(3)-4197-2140SHJT0001/303
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
4197-2140SHJT0001/302 | 栅氧化硅沉积立式炉管;非掺杂多晶硅沉积立式炉管;高温退火工艺立式炉管;氮化硅沉积立式炉管;高温氧化硅沉积立式炉管;侧墙氧化硅沉积立式炉管 | 1;1;1;1;1;1 | 要求设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质,在操作过程中操作者的视线要好。所选控制系统执行组件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | |
4197-2140SHJT0001/303 | PCM 探针台;CP Taiko探针台 | 1;1 | 要求设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质,在操作过程中操作者的视线要好。所选控制系统执行组件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | |
4197-2140SHJT0001/304 | ArF 匀胶显影机;KrF 匀胶显影机 | 1;1 | 要求设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质,在操作过程中操作者的视线要好。所选控制系统执行组件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | |
4197-2140SHJT0001/305 | 湿法去胶清洗(掺杂)槽;炉管前清洗槽;通孔刻蚀机 | 1;2;1 | 要求设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质,在操作过程中操作者的视线要好。所选控制系统执行组件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | |
4197-2140SHJT0001/306 | NiPt去除湿法槽 | 1 | 要求设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质,在操作过程中操作者的视线要好。所选控制系统执行组件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 |
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
4197-2140SHJT0001/302 | 栅氧化硅沉积立式炉管;非掺杂多晶硅沉积立式炉管;高温退火工艺立式炉管;氮化硅沉积立式炉管;高温氧化硅沉积立式炉管;侧墙氧化硅沉积立式炉管 | 1;1;1;1;1;1 | 要求设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质,在操作过程中操作者的视线要好。所选控制系统执行组件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | |
4197-2140SHJT0001/303 | PCM 探针台;CP Taiko探针台 | 1;1 | 要求设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质,在操作过程中操作者的视线要好。所选控制系统执行组件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | |
4197-2140SHJT0001/304 | ArF 匀胶显影机;KrF 匀胶显影机 | 1;1 | 要求设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质,在操作过程中操作者的视线要好。所选控制系统执行组件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | |
4197-2140SHJT0001/305 | 湿法去胶清洗(掺杂)槽;炉管前清洗槽;通孔刻蚀机 | 1;2;1 | 要求设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质,在操作过程中操作者的视线要好。所选控制系统执行组件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 | |
4197-2140SHJT0001/306 | NiPt去除湿法槽 | 1 | 要求设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质,在操作过程中操作者的视线要好。所选控制系统执行组件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。 |
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