真空镀膜机(XF-WSBX-2200380)废标公告

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真空镀膜机(XF-WSBX-2200380)废标公告

项目名称真空镀膜机项目编号XF-WSBX-*
公告开始日期*公告截止日期*
采购单位浙江大学付款方式货到付款。境内供货的,*方在到货验收后15日内向*方一次性支付本项目的总款项。 境外供货需要由*方办理进口减免税业务的,也必须以人民币报价,且包含货送到用户指定实验室前的所有费用。* (略) 在*方到货验收后15日内 (略) 一次性支付款项。支付方式在《技术参数及配置要求》栏内另有约定的,从其约定。
联系人中标后在我参与的项目中查看联系电话中标后在我参与的项目中查看
签约时间要求到货时间要求成交后60天
预 算*.0
收货地址浙江大学三门OLED产业研究中心- (略) 金色西溪1号楼1208
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购商品采购数量计量单位所属分类
真空镀膜机1机电设备
品牌
型号
品牌2
型号
品牌3
型号
预算*.0
技术参数及配置要求真空室真空室尺寸大致为500mm×600mm×650mm。真空室应装有两个可以完全打开的门,前门为快开门,打开后可以对腔体内部进行维护;后面是推拉门,可以与手套箱连接。腔体的极限真空要达到2x10-5Pa,在氮气保护下开门装卸基片和更换镀料后,重新抽真空需在10分钟内达到5x10-4Pa的真空度。基片装置四个磁力传动的旋转基片,最大尺寸为32*32mm,可自动识别的基片位置。基片架转速为0-60转/分(转速可调)。蒸镀均匀度应优于±3%。基片总挡板,气动控制,可通过触摸屏操作。蒸发源要求有14个蒸发源,其中束源炉式有机蒸发源12套,电极式金属蒸发源2套。蒸发源都应配有独立的电动挡板,可单独打开或关闭,操作在触摸屏上完成。每个源应有独立防污罩,防止源与源之间的污染。有机源加热温度均匀,寿命要超过1000小时,温度最高要能达到800℃。多源间不应有温度干扰。金属源要采用水冷电极,蒸发舟尺寸为90mm。有机蒸发电源控温精度应达到±1℃,温度调节需在触摸屏上完成。金属蒸发电源应采用百分比功率控制,操作及切换需在触摸屏上完成。膜厚测量四通道膜厚仪,应达到以下要求:QCM 输入4测量频率范围Adjustable: 1.0 MHz minimum,6.5 MHz maximum频率分辨率± 0.012 Hz频率稳定性± 2 ppm total, 0 to 50C厚度和速率分辨率/测量 ±0.015 ?测量周期0.10 to 1.0 s (adjustable)存储100 processes, 1000 layers, 50 films数字输入5 VDC non-isolated输出信号± 0 to 10 VDC, 15 bits控制输出4四个水冷膜厚探头应安装在蒸发源上方。真空系统真空分子泵应达到以下参数:抽气速(L/S)1300压缩比N2>10E9,H2>1×10E4极限压强(Pa)<5×10E-7电机转数(rpm)*振动值≤0.1μm启动时间(min)<5冷却方式水冷水冷冷却水温度(℃)≤20机械泵 BRV16应达到以下参数:抽气速率 m3/h14.4极限压力(Pa)<5×10E-1电机功率(kw)1.5电压(三项)380所需油量(L)1.5进气接口KF25出去接口KF25重量(KG)27复合真空计,应达到大气---1x10E-5Pa的测量范围。控制系统应采用触摸屏控制,要求设备的所有操作均可在触摸屏上完成。控制内容包括:机械泵、分子泵、阀的启、停;在缺水、过流、短路、漏电、误操作、断电等情况下的报警及保护系统;基片台的旋转,基片的选择,基片总挡板的开关;蒸发源的控制,蒸发源挡板的开关。独立可更换衬板真空室应配有衬板系统,便于清洗及更换,减小真空室的污染。
售后服务 (略) 点:当地;电话支持:7x8小时;服务年限:1;服务时限:报修后24小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品;

信息来源:http://**
项目名称真空镀膜机项目编号XF-WSBX-*
公告开始日期*公告截止日期*
采购单位浙江大学付款方式货到付款。境内供货的,*方在到货验收后15日内向*方一次性支付本项目的总款项。 境外供货需要由*方办理进口减免税业务的,也必须以人民币报价,且包含货送到用户指定实验室前的所有费用。* (略) 在*方到货验收后15日内 (略) 一次性支付款项。支付方式在《技术参数及配置要求》栏内另有约定的,从其约定。
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技术参数及配置要求真空室真空室尺寸大致为500mm×600mm×650mm。真空室应装有两个可以完全打开的门,前门为快开门,打开后可以对腔体内部进行维护;后面是推拉门,可以与手套箱连接。腔体的极限真空要达到2x10-5Pa,在氮气保护下开门装卸基片和更换镀料后,重新抽真空需在10分钟内达到5x10-4Pa的真空度。基片装置四个磁力传动的旋转基片,最大尺寸为32*32mm,可自动识别的基片位置。基片架转速为0-60转/分(转速可调)。蒸镀均匀度应优于±3%。基片总挡板,气动控制,可通过触摸屏操作。蒸发源要求有14个蒸发源,其中束源炉式有机蒸发源12套,电极式金属蒸发源2套。蒸发源都应配有独立的电动挡板,可单独打开或关闭,操作在触摸屏上完成。每个源应有独立防污罩,防止源与源之间的污染。有机源加热温度均匀,寿命要超过1000小时,温度最高要能达到800℃。多源间不应有温度干扰。金属源要采用水冷电极,蒸发舟尺寸为90mm。有机蒸发电源控温精度应达到±1℃,温度调节需在触摸屏上完成。金属蒸发电源应采用百分比功率控制,操作及切换需在触摸屏上完成。膜厚测量四通道膜厚仪,应达到以下要求:QCM 输入4测量频率范围Adjustable: 1.0 MHz minimum,6.5 MHz maximum频率分辨率± 0.012 Hz频率稳定性± 2 ppm total, 0 to 50C厚度和速率分辨率/测量 ±0.015 ?测量周期0.10 to 1.0 s (adjustable)存储100 processes, 1000 layers, 50 films数字输入5 VDC non-isolated输出信号± 0 to 10 VDC, 15 bits控制输出4四个水冷膜厚探头应安装在蒸发源上方。真空系统真空分子泵应达到以下参数:抽气速(L/S)1300压缩比N2>10E9,H2>1×10E4极限压强(Pa)<5×10E-7电机转数(rpm)*振动值≤0.1μm启动时间(min)<5冷却方式水冷水冷冷却水温度(℃)≤20机械泵 BRV16应达到以下参数:抽气速率 m3/h14.4极限压力(Pa)<5×10E-1电机功率(kw)1.5电压(三项)380所需油量(L)1.5进气接口KF25出去接口KF25重量(KG)27复合真空计,应达到大气---1x10E-5Pa的测量范围。控制系统应采用触摸屏控制,要求设备的所有操作均可在触摸屏上完成。控制内容包括:机械泵、分子泵、阀的启、停;在缺水、过流、短路、漏电、误操作、断电等情况下的报警及保护系统;基片台的旋转,基片的选择,基片总挡板的开关;蒸发源的控制,蒸发源挡板的开关。独立可更换衬板真空室应配有衬板系统,便于清洗及更换,减小真空室的污染。
售后服务 (略) 点:当地;电话支持:7x8小时;服务年限:1;服务时限:报修后24小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品;

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