中试聚合物纯化系统(A-WZBX0624)延期公告
中试聚合物纯化系统(A-WZBX0624)延期公告
项目名称 | 中试聚合物纯化系统 | 项目编号 | A-WZBX0624 |
---|---|---|---|
公告开始日期 | * | 公告截止日期 | * |
采购单位 | 厦门大学 | 付款方式 | 无 |
联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
签约时间要求 | 无 | 到货时间要求 | 无 |
预 算 | *.0 | ||
收货地址 | 厦大翔安校区工程房 | ||
供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
---|---|---|---|
中试聚合物纯化系统 | 1 | 台 | 无 |
品牌 | 无 |
---|---|
型号 | 无 |
品牌2 | 无 |
型号 | 无 |
品牌3 | 无 |
型号 | 无 |
预算 | *.0 |
技术参数及配置要求 | 1. 自主设计专利符合聚合物的纯化10kg每个月2. 委托厂商制造组装自动化生产设计进出料每个月可以纯化产出10kg。3. 符合项目纯化规格反应器内部设计包含材质功用使用业界低稀出的PFA材质&外部系统设计包含过滤与循环管道可以过滤ppb以下级别产品,符合高端电子化学品产品要求。4.包含1个聚合物纯化系统、一个附件系统,可生产测试中试10kg用量。 |
售后服务 | 中试聚合物纯化系统可以用于高端电子级光刻胶配方生产,作为半导体芯片产业链中的关键特殊化学材料,应用于深紫外光193nm光刻制程之抗反射涂层。可以抗来自光刻胶溶剂的溶解能力、涂布机旋涂腔兼容性、有机组分释气等材料特性测试方法 涉及到多个科学交叉,包括光学,有机化学,电子化学品等学科。利用开反应釜开发高端电子化品配方型产品等,这对于高端电子化学品开发具有重要的意义。 |
项目名称 | 中试聚合物纯化系统 | 项目编号 | A-WZBX0624 |
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公告开始日期 | * | 公告截止日期 | * |
采购单位 | 厦门大学 | 付款方式 | 无 |
联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
签约时间要求 | 无 | 到货时间要求 | 无 |
预 算 | *.0 | ||
收货地址 | 厦大翔安校区工程房 | ||
供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
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中试聚合物纯化系统 | 1 | 台 | 无 |
品牌 | 无 |
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型号 | 无 |
品牌2 | 无 |
型号 | 无 |
品牌3 | 无 |
型号 | 无 |
预算 | *.0 |
技术参数及配置要求 | 1. 自主设计专利符合聚合物的纯化10kg每个月2. 委托厂商制造组装自动化生产设计进出料每个月可以纯化产出10kg。3. 符合项目纯化规格反应器内部设计包含材质功用使用业界低稀出的PFA材质&外部系统设计包含过滤与循环管道可以过滤ppb以下级别产品,符合高端电子化学品产品要求。4.包含1个聚合物纯化系统、一个附件系统,可生产测试中试10kg用量。 |
售后服务 | 中试聚合物纯化系统可以用于高端电子级光刻胶配方生产,作为半导体芯片产业链中的关键特殊化学材料,应用于深紫外光193nm光刻制程之抗反射涂层。可以抗来自光刻胶溶剂的溶解能力、涂布机旋涂腔兼容性、有机组分释气等材料特性测试方法 涉及到多个科学交叉,包括光学,有机化学,电子化学品等学科。利用开反应釜开发高端电子化品配方型产品等,这对于高端电子化学品开发具有重要的意义。 |
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