准分子激光晶化设备国际招标澄清或变更公告(2)-0730-224011020007/109
准分子激光晶化设备国际招标澄清或变更公告(2)-0730-224011020007/109
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 准分子激光晶化设备 | 1台 | (1)准分子激光晶化设备主要用于将已去氢处理和清洗后的非晶硅膜层(a-Si)进行结晶化处理,并最终转变为多晶硅膜层(p-Si)。(2)类型:Twin VYPER 1.3。(3)激光之间的能量差异:≤*@*elivery (Up To 500M pulses)。 | 0730-*/109 |
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 准分子激光晶化设备 | 1台 | (1)准分子激光晶化设备主要用于将已去氢处理和清洗后的非晶硅膜层(a-Si)进行结晶化处理,并最终转变为多晶硅膜层(p-Si)。(2)类型:Twin VYPER 1.3。(3)激光之间的能量差异:≤*@*elivery (Up To 500M pulses)。 | 0730-*/109 |
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