序号

原采购公告、采购文件内容

更正后的采购公告、采购文件内容

1

采购公告及第一章磋商邀请四、响应文件提交截止时间：

2023年03月20日 09:00:00（北京时间）

采购公告及第一章磋商邀请四、响应文件提交截止时间：

2023年03月27日 09:00:00（北京时间）

2

采购公告及第一章磋商邀请五、开启时间：

2023年03月20日 09:00:00（北京时间）

采购公告及第一章磋商邀请五、开启时间：

2023年03月27日 09:00:00（北京时间）

3

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求.（4.1.3）条及第七章合同草案条款第七项第4.（4.1.3）条：

4.1.3 *方代表参与交货前检验及签署交货前检验记录的行为，不视为对合同货物质量的确认，不影响*方交货后*方依照合同约定对合同货物提出质量异议和（或）退货的权利，也不免除*方依照合同约定对合同货物所应承担的任何义务或责任。

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求.（4.1.3）条及第七章合同草案条款第七项第4.（4.1.3）条：

4.1.3预验收阶段，*方需要在*方的见证下对设备H+离子注入能力进行验证，验证方法为：首先检查气路是否配备了H₂气源，然后引出H+离子，确定H+粒子的质量数。记录束流大小 mA以及H+粒子质量数，并出具相应验证报告，验证报告作为终验收报告的组成部分。

4

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

设备可注入H、He离子

测试方法：使首先检查工艺气路是否配备了H₂、He、BF3、Ar气体源，然后分别引出这些元素离子，确定各种粒子的质量数；

测试结果：B+ 束流为mA，质量数:

H+束流为mA，质量数:

He+束流为mA，质量数:

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

设备可注入He离子

测试方法：使首先检查工艺气路是否配备了He气体源，然后引出He元素离子，确定He+粒子的质量数；

测试结果：

He+束流为mA，质量数:

5

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

能量＞400keV

能量为＞400keV，引出的H+束流进行试验，稳定工作30分钟，试验过程中出现的打火故障以不中断引束流为准；

测试结果：。

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

能量＞400keV

能量为＞400keV，引出的He+束流进行试验，稳定工作30分钟，试验过程中出现的打火故障以不中断引束流为准；

测试结果：。

6

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

注入均匀性优于1%

测试方法：6＂圆片、N型，111晶向，氧化层200?，硅片电阻率≥3kΩ·cm；

注入参数：注入元素为B+，能量为100keV，剂量1.75E¹⁴ions/cm²，注入角度为7°，取同批注入中相同工艺参数的任意1片硅片利用高温退火炉退火，退火后用四探针测试仪测方块电阻，按照相对标准方差的统计规律，计算出均匀性参数，仪器相对偏差≤0.2%，每片测量49个点（49个点在去掉边缘3mm后的范围内取）；

测试结果：实际测量注入剂量均匀性为1σ≤ ％。

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

注入均匀性优于1%

测试方法：6＂圆片、N型，111晶向，氧化层200?，硅片电阻率≥3kΩ·cm；

注入参数：注入元素为He+，能量为100keV，剂量1.75E¹⁴ions/cm²，注入角度为7°，取同批注入中相同工艺参数的任意1片硅片利用高温退火炉退火，退火后用四探针测试仪测方块电阻，按照相对标准方差的统计规律，计算出均匀性参数，仪器相对偏差≤0.2%，每片测量49个点（49个点在去掉边缘3mm后的范围内取）；

测试结果：实际测量注入剂量均匀性为1σ≤ ％。

7

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

剂量范围

测试方法：引B+到靶，设备引出100μA或更小的束流，设置注入剂量为1E¹²，完成均匀性建立，测试注入是否正常运行。能够正常注入，则设备能够满足最小剂量注入要求。设备引出1mA或更大的束流，设置注入剂量为5E¹⁵，完成均匀性建立，测试注入是否正常运行。能够正常注入，则设备能够满足最大剂量注入要求。

测试结果：。

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

剂量范围

测试方法：引He+到靶，设备引出100μA或更小的束流，设置注入剂量为1E¹²，完成均匀性建立，测试注入是否正常运行。能够正常注入，则设备能够满足最小剂量注入要求。设备引出1mA或更大的束流，设置注入剂量为5E¹⁵，完成均匀性建立，测试注入是否正常运行。能够正常注入，则设备能够满足最大剂量注入要求。

测试结果：。

8

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

设备辐射剂量要求

测试方法：用γ射线测量仪，在能量为400keV，H+束流为3000μA的情况下在机器的四周均匀取点，距离机器外壳10cm测量。要求辐射剂量≤0.6μSv/hr。

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

设备辐射剂量要求

测试方法：用γ射线测量仪，在能量为400keV，He+束流为2000μA的情况下在机器的四周均匀取点，距离机器外壳10cm测量。要求辐射剂量≤0.6μSv/hr。

9

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

离子注入束流稳定性

测试方法：分别引出H+、He+两种离子，在100keV与300keV能量下将束流引出到达靶后，稳定30分钟后开始测量，测量时每5分钟记录一次束流值，持续记录1小时，根据记录的束流值计算束流的变化率，需＜10%/小时；

测试结果：。

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

离子注入束流稳定性

测试方法：引出He+离子，在100keV与300keV能量下将束流引出到达靶后，稳定30分钟后开始测量，测量时每5分钟记录一次束流值，持续记录1小时，根据记录的束流值计算束流的变化率，需＜10%/小时；

测试结果：。

10

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

能量精度

测试方法：分别引出H+、He+两种离子，在100keV~400keV范围内调节束流能量，单次步进50keV，记录实际能量大小与设定能量大小，能量偏离不大于±1%；

测试结果： 。

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

能量精度

测试方法：引出He+离子，在100keV~400keV范围内调节束流能量，单次步进50keV，记录实际能量大小与设定能量大小，能量偏离不大于±1%；

测试结果： 。

11

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

新增颗粒

测试方法：取4片硅片，用表面颗粒探测仪对需要测试的晶片进行颗粒检测,记录数据,然后分4批装载进入设备进行注入工艺,注入工艺参数如下：6″硅片，H+,400keV, 2mA, 1E¹⁶ions/cm² 。注入完成后再进行颗粒检测（去除边缘3mm范围）,前后数据的差值为颗粒污染值。

测试结果：

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

新增颗粒

测试方法：取4片硅片，用表面颗粒探测仪对需要测试的晶片进行颗粒检测,记录数据,然后分4批装载进入设备进行注入工艺,注入工艺参数如下：6″硅片，He+, 400keV, 2mA, 1E¹⁶ions/cm² 。注入完成后再进行颗粒检测（去除边缘3mm范围）,前后数据的差值为颗粒污染值。

测试结果：

序号

原采购公告、采购文件内容

更正后的采购公告、采购文件内容

1

采购公告及第一章磋商邀请四、响应文件提交截止时间：

2023年03月20日 09:00:00（北京时间）

采购公告及第一章磋商邀请四、响应文件提交截止时间：

2023年03月27日 09:00:00（北京时间）

2

采购公告及第一章磋商邀请五、开启时间：

2023年03月20日 09:00:00（北京时间）

采购公告及第一章磋商邀请五、开启时间：

2023年03月27日 09:00:00（北京时间）

3

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求.（4.1.3）条及第七章合同草案条款第七项第4.（4.1.3）条：

4.1.3 *方代表参与交货前检验及签署交货前检验记录的行为，不视为对合同货物质量的确认，不影响*方交货后*方依照合同约定对合同货物提出质量异议和（或）退货的权利，也不免除*方依照合同约定对合同货物所应承担的任何义务或责任。

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求.（4.1.3）条及第七章合同草案条款第七项第4.（4.1.3）条：

4.1.3预验收阶段，*方需要在*方的见证下对设备H+离子注入能力进行验证，验证方法为：首先检查气路是否配备了H₂气源，然后引出H+离子，确定H+粒子的质量数。记录束流大小 mA以及H+粒子质量数，并出具相应验证报告，验证报告作为终验收报告的组成部分。

4

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

设备可注入H、He离子

测试方法：使首先检查工艺气路是否配备了H₂、He、BF3、Ar气体源，然后分别引出这些元素离子，确定各种粒子的质量数；

测试结果：B+ 束流为mA，质量数:

H+束流为mA，质量数:

He+束流为mA，质量数:

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

设备可注入He离子

测试方法：使首先检查工艺气路是否配备了He气体源，然后引出He元素离子，确定He+粒子的质量数；

测试结果：

He+束流为mA，质量数:

5

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

能量＞400keV

能量为＞400keV，引出的H+束流进行试验，稳定工作30分钟，试验过程中出现的打火故障以不中断引束流为准；

测试结果：。

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

能量＞400keV

能量为＞400keV，引出的He+束流进行试验，稳定工作30分钟，试验过程中出现的打火故障以不中断引束流为准；

测试结果：。

6

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

注入均匀性优于1%

测试方法：6＂圆片、N型，111晶向，氧化层200?，硅片电阻率≥3kΩ·cm；

注入参数：注入元素为B+，能量为100keV，剂量1.75E¹⁴ions/cm²，注入角度为7°，取同批注入中相同工艺参数的任意1片硅片利用高温退火炉退火，退火后用四探针测试仪测方块电阻，按照相对标准方差的统计规律，计算出均匀性参数，仪器相对偏差≤0.2%，每片测量49个点（49个点在去掉边缘3mm后的范围内取）；

测试结果：实际测量注入剂量均匀性为1σ≤ ％。

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

注入均匀性优于1%

测试方法：6＂圆片、N型，111晶向，氧化层200?，硅片电阻率≥3kΩ·cm；

注入参数：注入元素为He+，能量为100keV，剂量1.75E¹⁴ions/cm²，注入角度为7°，取同批注入中相同工艺参数的任意1片硅片利用高温退火炉退火，退火后用四探针测试仪测方块电阻，按照相对标准方差的统计规律，计算出均匀性参数，仪器相对偏差≤0.2%，每片测量49个点（49个点在去掉边缘3mm后的范围内取）；

测试结果：实际测量注入剂量均匀性为1σ≤ ％。

7

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

剂量范围

测试方法：引B+到靶，设备引出100μA或更小的束流，设置注入剂量为1E¹²，完成均匀性建立，测试注入是否正常运行。能够正常注入，则设备能够满足最小剂量注入要求。设备引出1mA或更大的束流，设置注入剂量为5E¹⁵，完成均匀性建立，测试注入是否正常运行。能够正常注入，则设备能够满足最大剂量注入要求。

测试结果：。

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

剂量范围

测试方法：引He+到靶，设备引出100μA或更小的束流，设置注入剂量为1E¹²，完成均匀性建立，测试注入是否正常运行。能够正常注入，则设备能够满足最小剂量注入要求。设备引出1mA或更大的束流，设置注入剂量为5E¹⁵，完成均匀性建立，测试注入是否正常运行。能够正常注入，则设备能够满足最大剂量注入要求。

测试结果：。

8

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

设备辐射剂量要求

测试方法：用γ射线测量仪，在能量为400keV，H+束流为3000μA的情况下在机器的四周均匀取点，距离机器外壳10cm测量。要求辐射剂量≤0.6μSv/hr。

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

设备辐射剂量要求

测试方法：用γ射线测量仪，在能量为400keV，He+束流为2000μA的情况下在机器的四周均匀取点，距离机器外壳10cm测量。要求辐射剂量≤0.6μSv/hr。

9

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

离子注入束流稳定性

测试方法：分别引出H+、He+两种离子，在100keV与300keV能量下将束流引出到达靶后，稳定30分钟后开始测量，测量时每5分钟记录一次束流值，持续记录1小时，根据记录的束流值计算束流的变化率，需＜10%/小时；

测试结果：。

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

离子注入束流稳定性

测试方法：引出He+离子，在100keV与300keV能量下将束流引出到达靶后，稳定30分钟后开始测量，测量时每5分钟记录一次束流值，持续记录1小时，根据记录的束流值计算束流的变化率，需＜10%/小时；

测试结果：。

10

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

能量精度

测试方法：分别引出H+、He+两种离子，在100keV~400keV范围内调节束流能量，单次步进50keV，记录实际能量大小与设定能量大小，能量偏离不大于±1%；

测试结果： 。

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

能量精度

测试方法：引出He+离子，在100keV~400keV范围内调节束流能量，单次步进50keV，记录实际能量大小与设定能量大小，能量偏离不大于±1%；

测试结果： 。

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采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

新增颗粒

测试方法：取4片硅片，用表面颗粒探测仪对需要测试的晶片进行颗粒检测,记录数据,然后分4批装载进入设备进行注入工艺,注入工艺参数如下：6″硅片，H+,400keV, 2mA, 1E¹⁶ions/cm² 。注入完成后再进行颗粒检测（去除边缘3mm范围）,前后数据的差值为颗粒污染值。

测试结果：

采购文件第五章技术、服务需求二、具体需求或要求2、商务及其他要求（4.2.2）入所验收离子注入机检验规程及第七章合同草案条款合同附件1离子注入机检验规程：

新增颗粒

测试方法：取4片硅片，用表面颗粒探测仪对需要测试的晶片进行颗粒检测,记录数据,然后分4批装载进入设备进行注入工艺,注入工艺参数如下：6″硅片，He+, 400keV, 2mA, 1E¹⁶ions/cm² 。注入完成后再进行颗粒检测（去除边缘3mm范围）,前后数据的差值为颗粒污染值。

测试结果：