反射式显微膜厚测量仪招标变更

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反射式显微膜厚测量仪招标变更


反射式显微膜厚测量仪（XF-WSBX-2300346）延期公告
发布时间：2023-09-06 09:10:26阅读量：4次

延期信息
延期理由：由于该项目报价情况不满足要求，本项目延期至2023-09-09 11:00


项目名称反射式显微膜厚测量仪项目编号XF-WSBX-*
公告开始日期2023-09-06 09:10:26公告截止日期2023-09-09 11:00:00
采购单位浙江大学付款方式货到付款，*方在到货验收后15日内向*方一次性支付本项目的总额
联系人中标后在我参与的项目中查看联系电话中标后在我参与的项目中查看
签约时间要求成交后15个工作日内到货时间要求成交后30个工作日内
预算总价￥ *.00
发票要求增值税普通发票
收货地址 (略) 浙江大学紫金港校区东五楼光及电磁波研究中心 超净室
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

公告说明由于该项目报价情况不满足要求，本项目延期至2023-09-09 11:00



采购清单1
采购商品采购数量计量单位所属分类
反射式显微膜厚测量仪1台光电测量仪器

品牌Filmetrics
型号F40-UV
预算单价￥*.00
技术参数及配置要求1、设备品牌：Filmetrics
设备型号：F40-UV
2、主要用途：
采用无损非接触式光学测量，测量薄膜厚度，辅助测量其光学常数（n和k值）；测量分析纳米级薄膜膜层情况，改进镀膜工艺，监测膜层质量。
3、配置清单：
3.1、膜厚测量仪主体
3.2、15×紫外可见红外反射式镜头
3.3、UVX全波长显微镜（SS-Microscope-UVX-1）
4、详细技术要求：
4.1、仪器类别：反射式光谱测量（90°角）
4.2、测量氧化硅厚度测量范围：4nm-30um
4.3、测量n和k值最小厚度要求：50nm
4.4、＊波长范围：190-1100nm
4.5、光纤通光波长：190-2200nm
4.6、准确度（较大者）：1nm或0.2%（针对附带氧化硅厚度标准片）
4.7、精度：0.02nm（针对附带氧化硅厚度标准片）
4.8、稳定性：0.05nm（针对附带氧化硅厚度标准片）
4.9、＊标准厚度片：配置厚度约10000A的氧化硅厚度标准片，带聚焦和硅反射率参考测试区域。
4.10、镜头：配置15X紫外可见红外均透的反射式镜头。
4.11、＊光斑尺寸：17um
4.12、光源及寿命:外置氘灯（2000小时）和钨卤灯（1200小时）
4.13、离线分析软件：可授权离线分析模拟软件（不需要连接主机）
4.14、＊厚度拟合算法：至少拥有Exact，Robust和FFT三种厚度拟合算法
4.15、色坐标测量:可实现光谱CIE-L*a*b* 色坐标测量
4.16、文件导出格式:CSV,fibhi,mls
4.17、材料库：拥有不小于100种不同材料的数据库，可自由导入新材料文件。
4.18、原始信号：可实时显示光强原始信息，用于信号聚焦。
4.19、反射率模拟：可进行不同镀膜材料的建模，模拟镀膜膜系的反射率曲线。
售后服务电话支持:7x24小时;质保期:1年;服务时限:报修后24小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品;

浙江大学

2023-09-06 09:10:26


反射式显微膜厚测量仪（XF-WSBX-2300346）延期公告
发布时间：2023-09-06 09:10:26阅读量：4次

延期信息
延期理由：由于该项目报价情况不满足要求，本项目延期至2023-09-09 11:00


项目名称反射式显微膜厚测量仪项目编号XF-WSBX-*
公告开始日期2023-09-06 09:10:26公告截止日期2023-09-09 11:00:00
采购单位浙江大学付款方式货到付款，*方在到货验收后15日内向*方一次性支付本项目的总额
联系人中标后在我参与的项目中查看联系电话中标后在我参与的项目中查看
签约时间要求成交后15个工作日内到货时间要求成交后30个工作日内
预算总价￥ *.00
发票要求增值税普通发票
收货地址 (略) 浙江大学紫金港校区东五楼光及电磁波研究中心 超净室
供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

公告说明由于该项目报价情况不满足要求，本项目延期至2023-09-09 11:00



采购清单1
采购商品采购数量计量单位所属分类
反射式显微膜厚测量仪1台光电测量仪器

品牌Filmetrics
型号F40-UV
预算单价￥*.00
技术参数及配置要求1、设备品牌：Filmetrics
设备型号：F40-UV
2、主要用途：
采用无损非接触式光学测量，测量薄膜厚度，辅助测量其光学常数（n和k值）；测量分析纳米级薄膜膜层情况，改进镀膜工艺，监测膜层质量。
3、配置清单：
3.1、膜厚测量仪主体
3.2、15×紫外可见红外反射式镜头
3.3、UVX全波长显微镜（SS-Microscope-UVX-1）
4、详细技术要求：
4.1、仪器类别：反射式光谱测量（90°角）
4.2、测量氧化硅厚度测量范围：4nm-30um
4.3、测量n和k值最小厚度要求：50nm
4.4、＊波长范围：190-1100nm
4.5、光纤通光波长：190-2200nm
4.6、准确度（较大者）：1nm或0.2%（针对附带氧化硅厚度标准片）
4.7、精度：0.02nm（针对附带氧化硅厚度标准片）
4.8、稳定性：0.05nm（针对附带氧化硅厚度标准片）
4.9、＊标准厚度片：配置厚度约10000A的氧化硅厚度标准片，带聚焦和硅反射率参考测试区域。
4.10、镜头：配置15X紫外可见红外均透的反射式镜头。
4.11、＊光斑尺寸：17um
4.12、光源及寿命:外置氘灯（2000小时）和钨卤灯（1200小时）
4.13、离线分析软件：可授权离线分析模拟软件（不需要连接主机）
4.14、＊厚度拟合算法：至少拥有Exact，Robust和FFT三种厚度拟合算法
4.15、色坐标测量:可实现光谱CIE-L*a*b* 色坐标测量
4.16、文件导出格式:CSV,fibhi,mls
4.17、材料库：拥有不小于100种不同材料的数据库，可自由导入新材料文件。
4.18、原始信号：可实时显示光强原始信息，用于信号聚焦。
4.19、反射率模拟：可进行不同镀膜材料的建模，模拟镀膜膜系的反射率曲线。
售后服务电话支持:7x24小时;质保期:1年;服务时限:报修后24小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品;

浙江大学

2023-09-06 09:10:26

    
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