铒化合物及其微纳加工表征服务延期公告
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铒化合物及其微纳加工表征服务延期公告
| 项目名称 | 铒化合物及其微纳加工表征服务 | 项目编号 | ZJLAB-FS-BX* |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | * | 公告截止日期 | * |
| 采购单位 | 之江实验室 | 付款方式 | 预付30%款，剩余部分按设备使用时长结算，每季度末结算当季费用 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 无 | 到货时间要求 | 无 |
| 预 算 | *.0 | ||
| 收货地址 | 无 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 铒化合物及其微纳加工表征 | 1 | 项 | 其他服务 |
| 品牌 | 无 |
|---|---|
| 型号 | 无 |
| 品牌2 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 品牌3 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 预算 | *.0 |
| 技术参数及配置要求 | 1. 提供铒化合物材料：供应商利用化学气相沉积系统生长单晶铒化合物薄膜，项目人员获得其使用权。2. 铒化合物薄膜的加工转移：项目人员将在供应商实验室进行或委托进行如下实验：a. 利用光学显微镜和原子力显微镜对薄膜的尺寸和厚度进行表征，确定满足要求的薄膜材料；b. 利用微纳结构转移操作系统，借助光纤或者有机弹性薄膜将薄膜材料吸附，实现薄膜材料从生长衬底到特定衬底或者硅基光放大结构上的转移；c. 利用快速退火炉，在真空条件下热退火，以减少薄膜材料和衬底之间的空隙，以及薄膜材料表面的有机物。供应商为项目人员提供上述及相关设备的使用权。3. 铒化合物薄膜的光学表征：项目人员将在供应商实验室进行或委托进行如下实验：利用近红外微区荧光光谱测试系统，对铒化合物薄膜材料进行光致荧光光谱表征，折射率和吸收系数表征，以及光学增益系数的表征。对于吸收（增益）系数表征，首先在硅衬底上利用热蒸镀系统生长一层Ti/Au薄膜，然后利用纳米结构转移操作系统将铒化合物薄膜材料转移到此衬底上，接着转移特定厚度的六方氮化硼薄膜包裹铒化合物材料，然后利用近红外微区荧光光谱测试系统进行微分反射谱的表征。供应商为项目人员提供上述及相关设备的使用权。4. 服务时间：合同签署日至2024年12月31日1. 合同期间供应商提供的微纳加工表征服务需满足如下要求：1.1 供应商提供给采购方使用的设备包括光学显微镜、原子力显微镜、微纳结构转移操作系统、快速退火炉、近红外微区荧光测试系统、热蒸镀系统等；1.2 供应商保证设备在合同期内可以正常运转；1.3 供应商提供相关技术支持人员，协助采购方开展相关实验；1.4 供应商提供适宜的微纳加工和表征检测环境；1.5 供应商需为采购方提供足够的设备使用时间；1.6 采购方在合乎规范的情况下可在供应商实验室自由进出及进行相关实验。2. 供应商提供的铒化合物需满足如下要求：2.1 铒化合物薄膜为单晶；2.2 铒化合物薄膜的厚度大于400 nm；2.3 铒化合物薄膜尺寸大于20×20 μm^2；2.4 铒化合物数量能够满足采购方需要。3. 供应商提供的设备能够满足以下能力要求：3.1 具备分辨率小于1 μm的光学显微能力；3.2 具备横向分辨率小于50 nm、纵向分辨率小于10 nm的原子力显微能力；3.3 具备对准精度小于4 μm的铒化合物薄膜转移能力；3.4 具备真空度小于10^-4 bar的快速退火能力；3.5 具备C波段波长分辨率小于0.1 nm、空间分辨率小于6 μm的荧光光谱表征能力；3.6 具备表面粗糙度小于20 nm的金属薄膜沉积能力。注：请报价单位在云采通报价页面以附件的形式上传收费标准（各台需求设备每单位使用时长的单价），否则无效。 |
| 售后服务 | 5*12小时技术支持; |
| 项目名称 | 铒化合物及其微纳加工表征服务 | 项目编号 | ZJLAB-FS-BX* |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | * | 公告截止日期 | * |
| 采购单位 | 之江实验室 | 付款方式 | 预付30%款，剩余部分按设备使用时长结算，每季度末结算当季费用 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 无 | 到货时间要求 | 无 |
| 预 算 | *.0 | ||
| 收货地址 | 无 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 铒化合物及其微纳加工表征 | 1 | 项 | 其他服务 |
| 品牌 | 无 |
|---|---|
| 型号 | 无 |
| 品牌2 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 品牌3 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 预算 | *.0 |
| 技术参数及配置要求 | 1. 提供铒化合物材料：供应商利用化学气相沉积系统生长单晶铒化合物薄膜，项目人员获得其使用权。2. 铒化合物薄膜的加工转移：项目人员将在供应商实验室进行或委托进行如下实验：a. 利用光学显微镜和原子力显微镜对薄膜的尺寸和厚度进行表征，确定满足要求的薄膜材料；b. 利用微纳结构转移操作系统，借助光纤或者有机弹性薄膜将薄膜材料吸附，实现薄膜材料从生长衬底到特定衬底或者硅基光放大结构上的转移；c. 利用快速退火炉，在真空条件下热退火，以减少薄膜材料和衬底之间的空隙，以及薄膜材料表面的有机物。供应商为项目人员提供上述及相关设备的使用权。3. 铒化合物薄膜的光学表征：项目人员将在供应商实验室进行或委托进行如下实验：利用近红外微区荧光光谱测试系统，对铒化合物薄膜材料进行光致荧光光谱表征，折射率和吸收系数表征，以及光学增益系数的表征。对于吸收（增益）系数表征，首先在硅衬底上利用热蒸镀系统生长一层Ti/Au薄膜，然后利用纳米结构转移操作系统将铒化合物薄膜材料转移到此衬底上，接着转移特定厚度的六方氮化硼薄膜包裹铒化合物材料，然后利用近红外微区荧光光谱测试系统进行微分反射谱的表征。供应商为项目人员提供上述及相关设备的使用权。4. 服务时间：合同签署日至2024年12月31日1. 合同期间供应商提供的微纳加工表征服务需满足如下要求：1.1 供应商提供给采购方使用的设备包括光学显微镜、原子力显微镜、微纳结构转移操作系统、快速退火炉、近红外微区荧光测试系统、热蒸镀系统等；1.2 供应商保证设备在合同期内可以正常运转；1.3 供应商提供相关技术支持人员，协助采购方开展相关实验；1.4 供应商提供适宜的微纳加工和表征检测环境；1.5 供应商需为采购方提供足够的设备使用时间；1.6 采购方在合乎规范的情况下可在供应商实验室自由进出及进行相关实验。2. 供应商提供的铒化合物需满足如下要求：2.1 铒化合物薄膜为单晶；2.2 铒化合物薄膜的厚度大于400 nm；2.3 铒化合物薄膜尺寸大于20×20 μm^2；2.4 铒化合物数量能够满足采购方需要。3. 供应商提供的设备能够满足以下能力要求：3.1 具备分辨率小于1 μm的光学显微能力；3.2 具备横向分辨率小于50 nm、纵向分辨率小于10 nm的原子力显微能力；3.3 具备对准精度小于4 μm的铒化合物薄膜转移能力；3.4 具备真空度小于10^-4 bar的快速退火能力；3.5 具备C波段波长分辨率小于0.1 nm、空间分辨率小于6 μm的荧光光谱表征能力；3.6 具备表面粗糙度小于20 nm的金属薄膜沉积能力。注：请报价单位在云采通报价页面以附件的形式上传收费标准（各台需求设备每单位使用时长的单价），否则无效。 |
| 售后服务 | 5*12小时技术支持; |
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