光学软刻蚀装置招标变更

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光学软刻蚀装置招标变更


(略)

二.采购项目名称:

光学软刻蚀装置

三.采购项目编号:

CG 点击查看>>

四.原采购公告发布日期:

* 日

五.更正理由:

采购人要求

六.更正事项:

技术参数更正,更正后的技术参数如下:


设备名称

数量

技术参数

光学软刻蚀装置(进口)(CG 点击查看>>

1

1、曝光面积:200×200mm;

2、分辨力:≤3um;

3、对准精度:±2um;

4、掩模尺寸:3英寸、5英寸、7英寸、9英寸;

5、样片尺寸:2英寸、4英寸、6英寸、8英寸;

6、wafer chuck表面:防止光反射涂层;

7、掩模样片整体运动范围:X:10mm,Y:10mm;

8、掩模相对 (略) 程:X:±5mm,Y:±5mm,q:±6°;

9、汞灯功率:1000W直流;

10、曝光能量密度:≥15mW/cm2;

11、光源能量控制:光源恒功率(每日测量光强,微调recipe);

12、曝光峰值波长:365nm;

13、曝光方式:定时(倒计时方式0.1s~9999.9s);

14、光刻版夹具兼容性;

15、具有盲曝粗对准功能。

16、配置:

16.1、曝光头系统:冷光椭球镜,1000W直流高压汞灯,XYZ汞灯调节台,光学系统(冷光紫外平面反射镜、快门、蝇眼透镜组、冷光紫外抛物面反射镜),冷却风扇;

16.2、对准工件台系统:掩模样片相对运动台,XY转动台,样片调平机构,样片调焦机构,承片台3个(对应样片),掩模夹3个(对应掩模);

16.3、CCD对准显微镜系统:4倍显微镜2只,照 (略) 源2套,CCD相机2只,22英寸液显;

16.4、电控系统:汞灯触发电源(1000W),单片机控制系统,控制柜桌;

16.5、气动系统系统:包括气缸、电磁阀、减压阀、气动开关,电磁阀驱动,气动仪表等;

16.6、其他附件:真空泵1台,空压机1台,配套气管10~15m。


七.其他事项:



八.联系方式

采购代理机构名称: (略) (略)

地点: (略) 市丰潭 (略) (略) B座11楼1101

联系人:王盼

联系电话: 点击查看>>

传真:0571-8 点击查看>>





项目编号: CG 点击查看>>
采购目录: 货物类 截止日期: 点击查看>>




一.采购人名称:

(略)

二.采购项目名称:

光学软刻蚀装置

三.采购项目编号:

CG 点击查看>>

四.原采购公告发布日期:

* 日

五.更正理由:

采购人要求

六.更正事项:

技术参数更正,更正后的技术参数如下:


设备名称

数量

技术参数

光学软刻蚀装置(进口)(CG 点击查看>>

1

1、曝光面积:200×200mm;

2、分辨力:≤3um;

3、对准精度:±2um;

4、掩模尺寸:3英寸、5英寸、7英寸、9英寸;

5、样片尺寸:2英寸、4英寸、6英寸、8英寸;

6、wafer chuck表面:防止光反射涂层;

7、掩模样片整体运动范围:X:10mm,Y:10mm;

8、掩模相对 (略) 程:X:±5mm,Y:±5mm,q:±6°;

9、汞灯功率:1000W直流;

10、曝光能量密度:≥15mW/cm2;

11、光源能量控制:光源恒功率(每日测量光强,微调recipe);

12、曝光峰值波长:365nm;

13、曝光方式:定时(倒计时方式0.1s~9999.9s);

14、光刻版夹具兼容性;

15、具有盲曝粗对准功能。

16、配置:

16.1、曝光头系统:冷光椭球镜,1000W直流高压汞灯,XYZ汞灯调节台,光学系统(冷光紫外平面反射镜、快门、蝇眼透镜组、冷光紫外抛物面反射镜),冷却风扇;

16.2、对准工件台系统:掩模样片相对运动台,XY转动台,样片调平机构,样片调焦机构,承片台3个(对应样片),掩模夹3个(对应掩模);

16.3、CCD对准显微镜系统:4倍显微镜2只,照 (略) 源2套,CCD相机2只,22英寸液显;

16.4、电控系统:汞灯触发电源(1000W),单片机控制系统,控制柜桌;

16.5、气动系统系统:包括气缸、电磁阀、减压阀、气动开关,电磁阀驱动,气动仪表等;

16.6、其他附件:真空泵1台,空压机1台,配套气管10~15m。


七.其他事项:



八.联系方式

采购代理机构名称: (略) (略)

地点: (略) 市丰潭 (略) (略) B座11楼1101

联系人:王盼

联系电话: 点击查看>>

传真:0571-8 点击查看>>





(略)

二.采购项目名称:

光学软刻蚀装置

三.采购项目编号:

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四.原采购公告发布日期:

* 日

五.更正理由:

采购人要求

六.更正事项:

技术参数更正,更正后的技术参数如下:


设备名称

数量

技术参数

光学软刻蚀装置(进口)(CG 点击查看>>

1

1、曝光面积:200×200mm;

2、分辨力:≤3um;

3、对准精度:±2um;

4、掩模尺寸:3英寸、5英寸、7英寸、9英寸;

5、样片尺寸:2英寸、4英寸、6英寸、8英寸;

6、wafer chuck表面:防止光反射涂层;

7、掩模样片整体运动范围:X:10mm,Y:10mm;

8、掩模相对 (略) 程:X:±5mm,Y:±5mm,q:±6°;

9、汞灯功率:1000W直流;

10、曝光能量密度:≥15mW/cm2;

11、光源能量控制:光源恒功率(每日测量光强,微调recipe);

12、曝光峰值波长:365nm;

13、曝光方式:定时(倒计时方式0.1s~9999.9s);

14、光刻版夹具兼容性;

15、具有盲曝粗对准功能。

16、配置:

16.1、曝光头系统:冷光椭球镜,1000W直流高压汞灯,XYZ汞灯调节台,光学系统(冷光紫外平面反射镜、快门、蝇眼透镜组、冷光紫外抛物面反射镜),冷却风扇;

16.2、对准工件台系统:掩模样片相对运动台,XY转动台,样片调平机构,样片调焦机构,承片台3个(对应样片),掩模夹3个(对应掩模);

16.3、CCD对准显微镜系统:4倍显微镜2只,照 (略) 源2套,CCD相机2只,22英寸液显;

16.4、电控系统:汞灯触发电源(1000W),单片机控制系统,控制柜桌;

16.5、气动系统系统:包括气缸、电磁阀、减压阀、气动开关,电磁阀驱动,气动仪表等;

16.6、其他附件:真空泵1台,空压机1台,配套气管10~15m。


七.其他事项:



八.联系方式

采购代理机构名称: (略) (略)

地点: (略) 市丰潭 (略) (略) B座11楼1101

联系人:王盼

联系电话: 点击查看>>

传真:0571-8 点击查看>>





项目编号: CG 点击查看>>
采购目录: 货物类 截止日期: 点击查看>>




一.采购人名称:

(略)

二.采购项目名称:

光学软刻蚀装置

三.采购项目编号:

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四.原采购公告发布日期:

* 日

五.更正理由:

采购人要求

六.更正事项:

技术参数更正,更正后的技术参数如下:


设备名称

数量

技术参数

光学软刻蚀装置(进口)(CG 点击查看>>

1

1、曝光面积:200×200mm;

2、分辨力:≤3um;

3、对准精度:±2um;

4、掩模尺寸:3英寸、5英寸、7英寸、9英寸;

5、样片尺寸:2英寸、4英寸、6英寸、8英寸;

6、wafer chuck表面:防止光反射涂层;

7、掩模样片整体运动范围:X:10mm,Y:10mm;

8、掩模相对 (略) 程:X:±5mm,Y:±5mm,q:±6°;

9、汞灯功率:1000W直流;

10、曝光能量密度:≥15mW/cm2;

11、光源能量控制:光源恒功率(每日测量光强,微调recipe);

12、曝光峰值波长:365nm;

13、曝光方式:定时(倒计时方式0.1s~9999.9s);

14、光刻版夹具兼容性;

15、具有盲曝粗对准功能。

16、配置:

16.1、曝光头系统:冷光椭球镜,1000W直流高压汞灯,XYZ汞灯调节台,光学系统(冷光紫外平面反射镜、快门、蝇眼透镜组、冷光紫外抛物面反射镜),冷却风扇;

16.2、对准工件台系统:掩模样片相对运动台,XY转动台,样片调平机构,样片调焦机构,承片台3个(对应样片),掩模夹3个(对应掩模);

16.3、CCD对准显微镜系统:4倍显微镜2只,照 (略) 源2套,CCD相机2只,22英寸液显;

16.4、电控系统:汞灯触发电源(1000W),单片机控制系统,控制柜桌;

16.5、气动系统系统:包括气缸、电磁阀、减压阀、气动开关,电磁阀驱动,气动仪表等;

16.6、其他附件:真空泵1台,空压机1台,配套气管10~15m。


七.其他事项:



八.联系方式

采购代理机构名称: (略) (略)

地点: (略) 市丰潭 (略) (略) B座11楼1101

联系人:王盼

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