各投标人：
受招标人委托，因设备使用需求原因，现将本项目 (略) 久之洋 (略) 镀膜机采购项目（招标编号：HBCZ- 点击查看>> ）作如下修改
* 、3.2.1.2 “ 3）旋转基片架数量不少于4套，其中2套扇形板（4片式组合）和2套高精度整伞，每片具体 (略) 确定。”修改为“3）旋转基片架数量总共为4套（4片/套组合式扇形板），每片具体开孔 (略) 确定。”
* 、3.2.1.4 中增加“5）坩埚需配齐。”
* 、“3.2.1.8 备件包
1）蒸发室内水冷挡板，1套
2） (略) 有真空密封橡圈，1套；
3）电子枪绝缘陶瓷、密封圈，各2套；电子枪旋转坩埚、多穴坩埚、气动挡板，各1套；电子枪灯丝，2盒（ * 只装/盒）；
4）钼质坩埚，6个（注： (略) 图纸确认）；石墨坩埚2个；
5）铝质膜厚均匀性修正挡板（盲板），2套；
6）扇形板，2套，整伞2套（注：4扇/套；另， (略) 确定）。”修改为
“3.2.1.8 每台备件包
1）蒸发室内水冷挡板，1套
2） (略) 有真空密封橡圈，1套；
3）气动挡板等常用耗材和工件各2套；
4）钼质坩埚，4个（注： (略) 图纸确认）；石墨坩埚2个；
5）铝质膜厚均匀性修正挡板（盲板），2套；
6） (略) 根据情况提供的满足 (略) 的耗材。”
* 、“3.2.3.1 大面积成膜光学均匀性
1） 膜系结构为多层宽带减反射膜（ 点击查看>> nm波段），高/低折射率材料为Ti3O5（或Ta2O5）与SiO2，镀膜样片尺寸不应小于 * mm× * mm。
2） 要求镀膜表面目视无明显色差；
3） 均匀选择至少6个测试点，要求光学均匀性小于2.0%@ * nm；
4） 重复性：要求连续 * 次镀膜光谱曲线重复性小于1.0%@ * nm，测试对象为φ * 镀膜样片，测试剩余反射率曲线与透射曲线。其中，最大剩余反射率值不超过1%；整体平均透过率不低于 * .5%。”修改为“3.2.3.1 大面积成膜光学均匀性
1） 膜系结构为多层宽带减反射膜（ 点击查看>> nm波段），高/低折射率材料为Ti3O5（或Ta2O5）与SiO2，镀膜样片尺寸不应小于 * mm× * mm，要求镀膜表面目视无明显色差；
2） 均匀选择至少6个测试点，要求光学均匀性小于2.0%；
3） 重复性：要求连续 * 次镀膜光谱曲线重复性小于1.0%，测试对象为φ * 镀膜样片，测试剩余反射率曲线与透射曲线。其中，平均剩余反射率值不超过1%；整体平均透过率不低于 * %。”
* 、“3.2.3.3 工艺能力
1）镀制膜系结构为：(HL)^5 H 2L (HL)^5 的滤光片，中心波长 * nm，其中H为高折射率材料Ti3O5、L为低折射率材料SiO2，镀制完成后，均匀性≤1.5%。测试片尺寸为φ * ×1mm，K9或B * 材料（折射率为1. * * nm），扇形板上由上至下顺序选择不少于6 (略) 透过率检测。
2）要求膜层的附着力和耐磨性能满足GJB 点击查看>> 的相关要求。”修改为
“3.2.3.3 工艺能力
1）.镀制膜系结构为：(HL)^5 H 2L (HL)^5 的滤光片，中心波长 * nm，其中H为高折射率材料Ti3O5、L为低折射率材料SiO2，镀制完成后，均匀性≤1.0%。测试片尺寸为φ * ×1mm，K9或B * 材料，扇形板上由上至下顺序选择不少于6 (略) 透过率检测。
2）. 投标方也可以提供优于3.2.3.3.a条中参考膜系要求的窄带滤光膜膜系验证工艺能力。
3）．重复性：要求连续 * 次镀膜光谱曲线重复性小于1.0%。”
* 、增加“3.2.3.3 环境适应能力
膜层的附着力和耐磨性能满足GJB 点击查看>> 的相关要求。”
* 、删除投标人资格要求中的“（6）   投标单位必须提 (略) 贿承诺函。”
 
* 、开标时间及投标截止时间延至 * 日上午9时 * 分， (略) (略) 十楼 * 会议室，请投标人按照变更后的时间及地点准时参加开标大会。
    特此公告。
 
 
                                                  (略) (略)
                                                     * 日
 


各投标人：
受招标人委托，因设备使用需求原因，现将本项目 (略) 久之洋 (略) 镀膜机采购项目（招标编号：HBCZ- 点击查看>> ）作如下修改
* 、3.2.1.2 “ 3）旋转基片架数量不少于4套，其中2套扇形板（4片式组合）和2套高精度整伞，每片具体 (略) 确定。”修改为“3）旋转基片架数量总共为4套（4片/套组合式扇形板），每片具体开孔 (略) 确定。”
* 、3.2.1.4 中增加“5）坩埚需配齐。”
* 、“3.2.1.8 备件包
1）蒸发室内水冷挡板，1套
2） (略) 有真空密封橡圈，1套；
3）电子枪绝缘陶瓷、密封圈，各2套；电子枪旋转坩埚、多穴坩埚、气动挡板，各1套；电子枪灯丝，2盒（ * 只装/盒）；
4）钼质坩埚，6个（注： (略) 图纸确认）；石墨坩埚2个；
5）铝质膜厚均匀性修正挡板（盲板），2套；
6）扇形板，2套，整伞2套（注：4扇/套；另， (略) 确定）。”修改为
“3.2.1.8 每台备件包
1）蒸发室内水冷挡板，1套
2） (略) 有真空密封橡圈，1套；
3）气动挡板等常用耗材和工件各2套；
4）钼质坩埚，4个（注： (略) 图纸确认）；石墨坩埚2个；
5）铝质膜厚均匀性修正挡板（盲板），2套；
6） (略) 根据情况提供的满足 (略) 的耗材。”
* 、“3.2.3.1 大面积成膜光学均匀性
1） 膜系结构为多层宽带减反射膜（ 点击查看>> nm波段），高/低折射率材料为Ti3O5（或Ta2O5）与SiO2，镀膜样片尺寸不应小于 * mm× * mm。
2） 要求镀膜表面目视无明显色差；
3） 均匀选择至少6个测试点，要求光学均匀性小于2.0%@ * nm；
4） 重复性：要求连续 * 次镀膜光谱曲线重复性小于1.0%@ * nm，测试对象为φ * 镀膜样片，测试剩余反射率曲线与透射曲线。其中，最大剩余反射率值不超过1%；整体平均透过率不低于 * .5%。”修改为“3.2.3.1 大面积成膜光学均匀性
1） 膜系结构为多层宽带减反射膜（ 点击查看>> nm波段），高/低折射率材料为Ti3O5（或Ta2O5）与SiO2，镀膜样片尺寸不应小于 * mm× * mm，要求镀膜表面目视无明显色差；
2） 均匀选择至少6个测试点，要求光学均匀性小于2.0%；
3） 重复性：要求连续 * 次镀膜光谱曲线重复性小于1.0%，测试对象为φ * 镀膜样片，测试剩余反射率曲线与透射曲线。其中，平均剩余反射率值不超过1%；整体平均透过率不低于 * %。”
* 、“3.2.3.3 工艺能力
1）镀制膜系结构为：(HL)^5 H 2L (HL)^5 的滤光片，中心波长 * nm，其中H为高折射率材料Ti3O5、L为低折射率材料SiO2，镀制完成后，均匀性≤1.5%。测试片尺寸为φ * ×1mm，K9或B * 材料（折射率为1. * * nm），扇形板上由上至下顺序选择不少于6 (略) 透过率检测。
2）要求膜层的附着力和耐磨性能满足GJB 点击查看>> 的相关要求。”修改为
“3.2.3.3 工艺能力
1）.镀制膜系结构为：(HL)^5 H 2L (HL)^5 的滤光片，中心波长 * nm，其中H为高折射率材料Ti3O5、L为低折射率材料SiO2，镀制完成后，均匀性≤1.0%。测试片尺寸为φ * ×1mm，K9或B * 材料，扇形板上由上至下顺序选择不少于6 (略) 透过率检测。
2）. 投标方也可以提供优于3.2.3.3.a条中参考膜系要求的窄带滤光膜膜系验证工艺能力。
3）．重复性：要求连续 * 次镀膜光谱曲线重复性小于1.0%。”
* 、增加“3.2.3.3 环境适应能力
膜层的附着力和耐磨性能满足GJB 点击查看>> 的相关要求。”
* 、删除投标人资格要求中的“（6）   投标单位必须提 (略) 贿承诺函。”
 
* 、开标时间及投标截止时间延至 * 日上午9时 * 分， (略) (略) 十楼 * 会议室，请投标人按照变更后的时间及地点准时参加开标大会。
    特此公告。
 
 
                                                  (略) (略)
                                                     * 日
 

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