物理气相薄膜沉积设备(离化金属等离子体沉积钛、化学气相沉积氮化钛)重新招标澄清或变更公告(1)0613-194022193091

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物理气相薄膜沉积设备(离化金属等离子体沉积钛、化学气相沉积氮化钛)重新招标澄清或变更公告(1)0613-194022193091

招标项目编号: 点击查看>>
项目名称:物理气相薄膜沉积设备(离化金属等离子体沉积钛、化学气相沉积氮化钛)
项目名称(英文):PVD IMP-Ti/CVD-TiN Equipment
招标人:华虹半导体( (略) )有限公司
招标机构: (略) 有限公司
招标机构代码: *
招标方式:公开招标
投标报价方式:线下投标
招标结果:重新招标
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项目名称:物理气相薄膜沉积设备(离化金属等离子体沉积钛、化学气相沉积氮化钛)
项目名称(英文):PVD IMP-Ti/CVD-TiN Equipment
招标人:华虹半导体( (略) )有限公司
招标机构: (略) 有限公司
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