信息来源：东莞市政府采购网发布日期：2020年07月13日

• 为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将松山湖材料实验室2020年7（至）12月采购意向公开如下：

• 序号	采购项目名称	采购需求概况	落实政府采购政策情况	预算金额（万元）	预计采购时间	备注
  1	砷磷型分子束外延仪器	计划采购的砷磷型分子束外延仪器主要用于生长高质量GaAs基InAlP、InGaP以及InP基InGaAs、InGaAsP相关的III-V族化合物半导体超晶格、量子阱光电子及微电子材料等，采购的数量为一台。该仪器设备的具体要求如下：1、该设备所有零部件必须是全新产品，技术成熟，软件操作应具备直观、简便、功能强大的特点，有良好的人机界面。设备的设计制造应符合相关ISO9001、14001及OHSAS 18001等国际标准。2、该设备运行稳定、可靠，能够长时间稳定工作。3、该设备应易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持。4、该设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施。5、该设备应提供足够长时间的质保期。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	1,400.00	2020年9月
  2	场发射扫描电子显微镜	计划采购一台场发射扫描电镜，在低高倍加速电压下均可实现以高分辨率、高衬度和高信噪比使用二次电子和背散射电子进行检测，获得材料的微观形貌和成分特征，即使要求苛刻的非导电样品也能获得清晰的图像，并将对样品的损伤降至最小。最高放大倍率不低于200万倍；分辨率可达 0.7 nm @15 kV， 1.2 nm @1 kV。配置能谱仪、CL阴极荧光光谱仪和电子背散射衍射仪，可进行元素分布测定，晶体缺陷分析，微观组织结构和织构分析等。承担运输和保险费用，提供安装，调试及操作培训服务，仪器安装后满足各项技术指标，免费高级应用专家培训五天以上，保修期最低一年，期间提供免费保修服务。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	550.00	2020年8月
  3	飞秒激光器与光参量放大器系统	计划采购一台飞秒激光器与光参量放大器（OPA）系统，作为超快光源，配合现有仪器系统（如SNOM）和计划搭建的超快光谱测试系统，实现对材料的超快光谱、光学非线性特性研究。该标拟采购泵浦用的超快激光器一台、用于波长调谐的OPA一台。超快光源系统需满足输出脉宽：＜300 fs；激光功率：＞6 W；单脉冲能量：＞0.4 mJ；功率稳定性：rms＜1% 等。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	160.00	2020年8月
  4	X射线单晶衍射仪	主要功能：实现对单晶样品的晶相确定、衍射测试与结构解析；采购标的数量：1台；需满足的要求：1、配备两个不同波长的X射线微焦斑光管，能满足有机、无机等不同样品的测试要求；2、配备相应的结构分析软件；3、设备具有变温功能，能在不同温度下对单晶进行测试；4、设备有相应的安全回路，保证操作人员的健康；5、设备性能稳定，能长时间稳定工作；6、设备质保期一年以上，X射线光管质保期3年以上	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	450.00	2020年10月
  5	无液氦变温超导磁体系统	无液氦变温磁体系统可方便准确地表征多种材料在低温强场下的特性，系统安装、操作和维护方便。集成插件的变温范围从1.6K至325K，磁场强度达±9T。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	170.00	2020年8月
  6	大尺寸单晶CVD生长系统	1)？大尺寸单晶CVD系统;可生长25cm×30cm的大尺寸单晶铜箔;单晶率大于99.0%;可生长二维轻元素材料;1台，售后服务响应时间电话不超过4小时内,到现场时间不超过两天,投标方需有足够的售后力量,具有国内本地化的服务团队？。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	250.00	2020年8月
  7	高温石墨盘烤炉（氯化氢）	高温石墨盘烤炉（氯化氢），去除石墨盘上生长AlGaN材料，采用氯化氢（HCl）气体作为腐蚀材料，有效温区大于400mm，使用温度1400°C ±5°C ，？真空度10-3Torr，升温速度12°C /min，降温速度1400°C到60°C，1hr。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	180.00	2020年8月
  8	高功率脉冲PVD设备采购项目	主要功能：设备配备高功率磁控溅射系统2-4组、高功率脉冲多弧系统4-8组、高功率等离子体放电系统1组，可以实现离子氮化、高密度等离子体活化、化合物沉积、类金刚石沉积等等。主要参数为：机械泵和分子泵搭配泵组、极限真空度<1*10-4Pa、大功率高精度加热系统、多路进气系统、质量流量计单独可调、高电压多电极输入系统、灵活靶位调节、大负载工件转架、以及配套磁控溅射、多弧、辉光放电电源。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	120.00	2020年9月
  9	临时键合及解键合设备	临时键合及解键合设备主要用于薄片和双面工艺，将已加工完成的薄器件从硅、蓝宝石等材料的承载片上分离。考虑到上述需求和实际情况，需要购买一套临时键合及解键合设备。该设备的具体采购需求如下：1、具备硅片和砷化镓片的临时键合及解键合功能，样品加工尺寸4、6英寸兼容；2、可加工晶圆的最小厚度<100um；3、包含上蜡、键合、解键合、清洗等关键功能；4、设备运行稳定、可靠，且易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持；5、该设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	700.00	2020年9月
  10	化学机械抛光设备	化学机械抛光是目前唯一可以提供在整个晶片上全面平坦化的工艺技术。在芯片制造中的主要应用于对Si\SiO2\SiNx等介质材料,Cu\Mo等金属材料进行表面平整化，以及键合前表面抛光处理等。考虑到上述需求和实际情况，需要购买一套化学机械抛光设备。该化学机械抛光设备的具体采购需求如下：1、具备介质材料和金属材料的表面平整化功能，样品加工尺寸4、6、8英寸兼容；2、抛光最小去除量<50nm，抛光后表面粗糙度<0.5nm；3、设备运行稳定、可靠，且易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持；4、设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	1,000.00	2020年10月
  11	激光划片机	激光划片技术是半导体器件制作的关键技术，其加工是非接触式的，对工件本身无机械冲压力，工件不易变形。同时热影响极小，划线细、精度高，加工速度快，成品率高，被广泛应用于硅片、陶瓷片、薄金属片的切割和划片。考虑到上述需求和实际情况，需要购买一台激光划片机用于非金属材料切割。该化学机械抛光设备的具体采购需求如下：1、具备非金属材料的正面隐切功能，样品加工尺寸2、4、6、8英寸兼容，处理后表面外观无裂痕及破损；2、设备运行稳定、可靠，且易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持；3、设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	450.00	2020年10月
  12	原子层沉积设备	拟购置一套原子层沉积（ALD）设备，该设备主要用于原子级别的薄膜生长，设备性能指标及实验要求须满足如下条件： 1、前驱体：≥6路；目标制备材料：Al2O3/AlN、TiO2/TiN、HfO2、SiO2/SiN、Ta2O5/TaN、ZrO2等介质薄膜材料；2、加工晶片尺寸：8英寸；3、最高加热温度：≥450℃；温度控制精度：±2℃；4、膜厚均匀性<2%；具备加热和等离子体生长两种模式。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	400.00	2020年9月
  13	物理气相沉积设备	拟购置一套物理气相沉积（PVD）设备，主要用于压电薄膜材料制备，设备性能指标及实验要求须满足如下条件： 1、多腔室溅射系统，具备压电薄膜（PZT/AlN）材料及Ti、Pt、Mo金属材料制备能力；2、晶圆尺寸：200mm；3、压电薄膜厚度：500~2000nm；膜厚均匀性：≤±5%	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	1,800.00	2020年10月
  14	电感耦合等离子体化学气相沉积设备	拟购置一套电感耦合等离子体化学气相沉积（ICPCVD）设备，主要用于高质量及低温氮化硅、氧化硅薄膜生长，设备性能指标及实验要求须满足如下条件：1、气体管路：≥6路；目标制备材料：SiO2、Si3N4 、 SiON、Si薄膜材料；2、加工晶片尺寸：8英寸；3、最高加热温度：400℃；沉膜均匀性≤±5%；	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	350.00	2020年10月
  15	电子束曝光系统	拟购置一套电子束曝光系统，该系统的性能指标及实验要求须满足如下条件：1、8英寸晶圆兼容；2、曝光电流最大值可达350nA；3、曝光过程中电流从100pA至300nA可自动调节，无需调整光栏；4、该设备运行稳定、可靠，能够长时间稳定工作；5、该设备应易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持；6、该设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施；7、该设备应提供足够长时间的质保期。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	1,700.00	2020年7月
  16	解理及裂片系统	计划购置一套解理及裂片机系统，该系统的性能指标及实验要求须满足如下条件：1、4英寸晶圆兼容；2、适用于GaAs/InP等化合物半导体基底；3、样品架可360度旋转；4、该设备运行稳定、可靠，能够长时间稳定工作；5、该设备应易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持；6、该设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施；7、该设备应提供足够长时间的质保期。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	200.00	2020年7月
  17	超声扫描显微镜	计划购置一套超声扫描显微镜，该设备的性能指标及实验要求须满足如下条件：1、最大扫描范围320 mm*320 mm；2、最大扫描速度1500mm/s；3、重复精度+/-0.1 μm；4、该设备运行稳定、可靠，能够长时间稳定工作；5、该设备应易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持；6、该设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施；7、该设备应提供足够长时间的质保期。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	200.00	2020年7月
  18	激光直写设备	计划购置一套激光直写设备，该设备的性能指标及实验要求须满足如下条件：1、温度控制+/-0.5 C，灰尘离子过滤等级可达100级；2、有效光刻面积不小于200 mm*200 mm；3、平台移动的精度不低于10nm；4、设备具有255阶灰度曝光功能；5、该设备运行稳定、可靠，能够长时间稳定工作；6、该设备应易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持；7、该设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施；8、该设备应提供足够长时间的质保期？。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	550.00	2020年7月
  19	步进光刻机	计划购置一套步进光刻机设备，该设备的性能指标及实验要求须满足如下条件：1、曝光分辨率高于0.4μm；2、曝光样品尺寸兼容4-6英寸；3、线宽均匀性高于30nm；4、套刻精度高于100nm；5、自动对焦；6、多层套刻；7、该设备运行稳定、可靠，能够长时间稳定工作；8、该设备应易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持；9、该设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施；10、该设备应提供足够长时间的质保期。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	1,100.00	2020年11月
  20	全自动匀胶显影机	计划购置一套全自动匀胶显影机设备，该设备的性能指标及实验要求须满足如下条件：1、满足0.4μm光刻精度需求；2、2C（COT+ARC）2D配置；3、样品尺寸4/6寸兼容；4、该设备运行稳定、可靠，能够长时间稳定工作；5、该设备应易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持；6、该设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施；7、该设备应提供足够长时间的质保期。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	500.00	2020年11月
  21	线宽扫描电镜	计划购置一套线宽扫描电镜（CDSEM）设备，该设备的性能指标及实验要求须满足如下条件： 1、分辨率：≤30nm，测量线宽：≤0.3μm、放大倍率：≥20K、晶圆尺寸： 4、6、8英寸晶圆兼容;2、该设备运行稳定、可靠，能够长时间稳定工作；3、该设备应易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持；4、该设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施；5、该设备应提供足够长时间的质保期。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	500.00	2020年11月
  22	离子注入机	拟采购一台离子注入机设备，采购标的需实现的主要功能：1、单电荷加速电压大于等于200 KeV；2、注入元素种类>4种（如：B、P、As、Al、O、H、Mg等）；3、不均匀性：<1.5%；4、衬底尺寸：6英寸向下兼容。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	1,600.00	2020年10月
  23	离子束刻蚀设备	离子束刻蚀设备主要用于难熔金属、介质以及一些倾斜光栅类材料蚀刻。考虑上述需求和实际情况，需要购买离子束刻蚀设备。该设备的具体采购需求指标如下：1、刻蚀难熔金属，例如Pt，Mo，Au，Ir等，蚀刻速≥30nm/min；6inc片内均匀性<3%，片间均匀性<3%；2、配置反应离子束蚀刻功能（配置O2以及CHF3等反应性气体）；介质SiO2或者Si蚀刻速度≥20nm/min；6inc片内均匀性<3%，片间均匀性<3%。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	450.00	2020年8月
  24	离子束修调设备	离子束修调（Trim）设备主要用于TC-SAW器件中SiO2层的厚度修调，BAW-SMR中布拉格反射层的逐层修调以及金属电极和压电层的厚度修调，FBAR器件功能层的厚度修调和频率调整；金属薄膜电阻的厚度修调；薄膜磁头中金属磁头厚度修调等。考虑到上述需求和实际情况，需要购买离子束修调设备。该设备的具体采购需求指标如下：1、金属（例如Mo、W等）以及非金属（例如AlN、PZT等）薄膜表面厚度标准偏差从几个nm修正到1nm以内，膜厚提升不均匀性到0.1%；2、晶圆尺寸可达到8inch。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	1,000.00	2020年9月
  25	等离子体去胶机	该设备主要应用于半导体生产工艺中的光刻胶去除工艺，通过RF将O2/N2等离子化，然后与光刻胶发生反应生成CO2和水气达到去除光刻胶的效果;具备超低等离子体损伤，同时去胶速率快。考虑到上述需求和实际情况，需要购买等离子体去胶机。该设备的具体采购需求指标如下：1、去残胶，ER>80nm/min, UN<5%；2、载片台单独控温，控温精度+/2度，150度以内ER≥500nm/min并且Uniformity≤5%；温度不超过270度，ER≥6000nm/min并且Uniformity≤5%。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	200.00	2020年9月
  26	激光划片机	激光划片技术是半导体器件制作的关键技术，其加工是非接触式的，对工件本身无机械冲压力，工件不易变形。同时热影响极小，划线细、精度高，加工速度快，成品率高，被广泛应用于硅片、陶瓷片、薄金属片的切割和划片。考虑到上述需求和实际情况，需要购买一台激光划片机用于金属材料切割。该化学机械抛光设备的具体采购需求如下：1、具备金属材料的正面隐切功能，样品加工尺寸2、4、6、8英寸兼容，处理后表面外观无裂痕及破损；2、设备运行稳定、可靠，且易于维护和维修，并能提供优良的售后服务和强大的技术支持；3、设备应具有安全保护功能，在保护操作者人身安全、外延片生产安全等方面应有相应的安全防护措施。	遵守落实国家关于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品、支持监狱企业发展等政策	450.00	2020年10月

• 本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

发布人: 松山湖材料实验室

发布时间: 2020年07月13日