CVD镀膜系统(HITBX-2020000044)采购公告
CVD镀膜系统(HITBX-2020000044)采购公告
项目名称 | CVD镀膜系统 | 项目编号 | HITBX-********44 |
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公告开始日期 | 159*****75000 | 公告截止日期 | 160*****00000 |
采购单位 | 哈尔滨工业大学 | 付款方式 | 无 |
联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
签约时间要求 | 成交后30个工作日内 | 到货时间要求 | 签约后90个工作日内 |
预 算 | 480000.0 | ||
收货地址 | 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号,材料楼 | ||
供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
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CVD镀膜系统 | 1 | 套 | 无 |
品牌 | 无 |
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型号 | 无 |
品牌2 | 无 |
型号 | 无 |
品牌3 | 无 |
型号 | 无 |
预算 | 480000.0 |
技术参数及配置要求 | 一、主要技术指标:极限真空度:≤5x10-3 Pa抽速:30分钟,优于1x10-2Pa检漏漏率:≤10-6Pa.l/s工作真空度:10~300Pa工作气体流量:0~1000SCCM系统主要由真空反应室、坩埚支架及滑台,旋转基片台及滑台、外加热组件、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组1.反应室:1.1、真空室为单管卧式热壁型;有效尺寸约为:ф100mm×1400mm,反应室是用来沉积薄膜的工作室,它由进气法兰、固定法兰、石英反应管和后法兰等组成。1.2、石英反应管通过外圆密封固定在进气法兰和后法兰上,工艺气体装在进气法兰上,整个反应室通过后法兰和固定法兰被连接在炉体柜的骨架上,且进气法兰(坩埚支撑法兰),带有导轨可整体移出,方便更换坩埚及原料;旋转样品台法兰带有导轨可整体移出,方便更换样品。2、外加热组件:开启式外加热组件(位于滑轨上)2.1、加热元件:NiCrAl电阻丝2.2、加热区域:长900mm2.3、温区:3个,各300mm长2.4、恒温区域:150+200+150mm2.5、工作温度:最高1200℃(<1h),连续工作200℃-1000℃2.6、最大升降温速率:≤30℃/min2.7、热电偶:3个,K型2.8、控温方式:模糊PID控制和自整定调节; 智能化30段可编程控制; 超温和断偶报警功能控温精度:±1℃3、感应CVD系统:1套:(位于滑轨上)3.1、感应线圈;位于石英管外部3.2、自动匹配射频电源(功率≥500W):1套 |
售后服务 | 质 保 期 :1年; |
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