4″单面光刻机(GY202008384)采购公告
4″单面光刻机(GY202008384)采购公告
项目名称 | 4″单面光刻机 | 项目编号 | GY********4 |
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公告开始日期 | 160*****39000 | 公告截止日期 | 160*****00000 |
采购单位 | 山东大学 | 付款方式 | 国产设备与家具:货到验收合格后付款 |
联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
签约时间要求 | 无 | 到货时间要求 | 无 |
预 算 | 230000.0 | ||
收货地址 | 山东大学 | ||
供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
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4″单面光刻机 | 1 | 台 | 机电设备 |
品牌 | 四川南光真空科技有限公司 |
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型号 | H94-25C型 |
品牌2 | 无 |
型号 | 无 |
品牌3 | 无 |
型号 | 无 |
预算 | 230000.0 |
技术参数及配置要求 | 用于中小规模集成器件芯片、薄膜器件芯片、声表面波器件芯片、光电子器件芯片、微流控器件芯片、光学器件基片的研发和生产。适合硅片、玻璃片、陶瓷片、宝石片的对准曝光。一.主要技术参数:1.曝光类型:单面;2.曝光面积:110×110mm;★3.曝光照度不均匀性:≤3%;★4.曝光强度:≥40mw/cm2可调;★5.紫外光束角:≤3?;★6.紫外光中心波长:365nm.7.紫外光源寿命:≥2万小时;8.曝光分辨率:1μm;★9.曝光模式:可选择一次曝光或套刻曝光;10.显微镜扫描范围:X:±40mm Y:±35mm;11.对准范围:X、Y粗调±3mm,细调±0.3mm;Q粗调±15°,细调±3°;12.套刻精度:1μm;★13.分离量;0~50μm可调;14.接触-分离漂移:≤1μm;15.曝光方式:密着曝光,可实现硬接触、软接触和微力接触曝光;16.找平方式:三点式自动找平;★17.显微系统:双视场CCD系统,显微镜45X~300X连续变倍(物镜0.75X-5X连续变倍),双物镜距离可调范围11mm~100mm,计算机图像处理系统,19″液晶监视器;18.掩模版尺寸:3″×3″、4″×4″、5″×5″;19.基片尺寸:φ2、φ3、φ4、“碎片”;20.基片厚度:≤5 mm; 21.曝光定时:0~999.9秒可调;22.对准方式:切斯曼对准机构。★23.曝光头转位:气动;24. 电源:单相AC220V50HZ ,功耗≤1KW; 25.洁净空气压力:≥0.4MPa;26.真空度:-0.07MPa~-0.09MPa;27.尺寸: 920mm(长)×680mm(宽)×1600mm(高); 28.重量:约180Kg。二、配置:本机由LED紫外曝光头、CCD显微显示系统、对准工作台、电气控制系统、备附件构成。1.曝光头:LED紫外曝光头一台。★2.CCD显微显示系统:1)CCD数码摄像机二只;2)可变倍显微镜二只;3)计算机图像处理系统一套(含计算机一台、采集卡一件、19″液晶监视器一台、图像处理软件一套)。4)焦距、物距调节台一套;5)扫描机构一套;6)LED同轴照明光源二台。3.对准工作台:1)3″×3″、4″×4″、5″×5″版架各一件;2)φ2″、φ3″、φ4″、“碎片”承片台各一件;3)三点找平机构一套;4)切期曼对准机构一套;5)微分离机构一套;6)旋转机构一套。4.电气控制台:1)PLC可编程控制器一台; 2)LED曝光头电源一台; 3)定时器一台; 4)电磁阀及控制系统一套; 5)气动、真空仪表一套; 6)控制台一套。5.备附件: 1)真空软管(φ8mm)15m; 2)电磁阀二只; 3)紫外光强计一只;4)无油静音真空泵一台; 5)无油静音空压机一台。6.技术资料:1)使用说明书;2)合格证 |
售后服务 | 服务网点:当地;质保期限:1年;响应时限:报修后2小时;供货时间要求:成交后一个月内;提供厂家授权文件; |
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