薄膜溅射沉积系统招标公告

薄膜溅射沉积系统招标公告

中国矿业大学薄膜溅射沉积系统采购招标公告

招标项目编号

W—2012—235

招标内容

薄膜溅射沉积系统1套。

功能要求:

1. 该设备采用磁控溅射的原理,可用于在金属、玻璃、陶瓷、硅片等材料基体上,制备金属、非金属、半导体、化合物的单层、多层或复合膜。

2. 该设备适合高等院校科研及教学的薄膜材料制备,可实现纳米级单层及多层膜制备,可实现导电膜、半导体膜、绝缘膜及磁性材料的制备,对工作气体、基体材料等无特殊要求。

3. 除靶材、气源外,该设备不需另外采购其它任何配件即可正常工作,完成各种薄膜的制备及达到设备技术指标要求。

投标资格

1. 具备《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定的条件;

2. 具有产品代理销售授权(生产商除外);

3. 具有检察院出具的无行贿犯罪记录证明。

公告及报名时间

2012年12月10日~14日9:00~11:30、14:00~16:30,公告时即接受报名

报名流程

非注册用户:

以传真或电子邮件形式发报名函,函件中需含有拟参加投标项目的名称、企业名称、联系人、电话、传真、电子邮箱及企业营业执照与税务登记证复印件或扫描件,并加盖单位公章及法人签章。

注册用户:

以传真或电子邮件形式发报名函,函件中需含有拟参加投标项目的名称、企业名称、联系人、电话、传真及电子邮箱,并加盖单位公章及法人签章。

对不符合以上要求的函件,我办将视同无效。

招标文件售价

人民币(现金)300元整,售后恕不退还

招标文件发售时间

2012年12月10日~14日9:00~11:30、14:00~16:30

质疑、答疑时间

投标人对招标文件的条款如有任何质疑,务必于2012年12月17日16:30前以书面或传真形式送至,否则不予认可;招标人针对投标人的质疑,于2012年12月19日17:00前以补充通知的方式进行书面答疑。

投标截止时间

2012年12月25日14:00

投标保证金

人民币(现金)6000元整(应与投标文件同时提供)

投标有效期

自投标截止日期起90个日历日

开标时间

2012年12月25日14:00

投标、开标

中国矿业大学南湖校区计算机学院楼B110室

联系方式

单 位:中国矿业大学财务资产部招投标办公室

地 址:江苏省徐州市中国矿业大学南湖校区计算机学院楼A114室

邮 编:221116

报名电话、传真:0516—********

电子邮箱:zhbb@cumt.edu.cn

网 址:http://zhbb.cumt.edu.cn

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