序号

设备名称

主要技术参数

数量

预算（人民币）

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高真空热蒸发镀膜机

1、矩形沉积腔室，腔体内部尺寸不小于400mm×400mm×500 mm，并集成有电控柜；
2、配有镀膜控制软件，全自动PC控制和设置模式，包括沉积过程的控制、显示装置，可以显示膜厚、沉积时间等信息，蒸发速率优于0.1A/s,薄膜不均匀性≤5%；
3、配备干泵，气体抽速不小于9cfm；
4、配备分子泵，抽速不低于685l/s，需配有全量程真空规，测量范围不小于 3.75x10E-9 Torr至大气压；
5、在洁净、干燥环境下，真空度≤2×10E-7 Torr；
6、系统需配备3个金属热蒸发源，电源功率为2.5KW，扩展电压要求可达到10V，配有2个电源控制器，6个水冷电极柱；
7、需配有3个有机热蒸发源，配2cc坩埚，温控范围不小于0-1200℃；
8、校准膜厚检测探头不低于4套，传感器应安装在刚性的支架上，带有水冷功能；
9、样品台可以固定和安装最大直径不小于150mm的样品，且兼容小尺寸及其它异形样品；
10、样品台带有旋转功能，转速可调，调节范围不小于0-30RPM；
11、系统应配有独立蒸发源挡板，需为自动控制模式；
12、镀膜操作应具有分手动和自动两种模式，能预设参数，并能将相关操作进行储存，方便以后查询和调用，也可以导到电脑中进行保存；
13、带有1套PC控制装置，集成显示器。
14、可集成于手套箱内。

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998500

预算合计

998500.0