等离子增强化学气相沉积设备 招标公告
等离子增强化学气相沉积设备 招标公告
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 等离子增强化学气相沉积设备 | 1 | 设备功能:主要用于III-V族化合物衬底表面高温高速生长氧化硅、氮化硅薄膜 | |
等离子增强化学气相沉积设备 | 1 | 设备功能:主要用于III-V族化合物衬底表面低温低速生长氧化硅、氮化硅薄膜 |
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