磁控多靶溅射薄膜沉积系统招标公告

磁控多靶溅射薄膜沉积系统招标公告

项目名称:0618-1340TC13220D -2 磁控多靶溅射薄膜沉积系统
日期:2013年03月26日
招标编号:0618-1340TC13220D/02
中招国际招标有限公司受买方委托对下列产品及服务进行国际公开竞争性招标,于2013年03月26日在公告。本次招标采用传统招标 方式,现邀请合格投标人参加投标。
1、招标产品的名称、数量及主要技术参数:
包1:感应耦合等离子仪,1台
*5.1反应室的基础真空度:<2×10-7Torr
包2:磁控多靶溅射薄膜沉积系统,1套
*5.8单次溅射基片数量:100mm基片9片;150mm基片4片

2、招标文件售价:本招标文件每包售价为800元人民币或120美元;
3、购买招标文件时间:即日起至投标截止时间止,每天9:00-16:00(节假日除外,北京时间)
4、购买招标文件地点:中招国际招标有限公司508室
5、投标截止时间和开标时间:2013-04-15 09:30
6、中标情况将在公示。
7、开标地点:中招国际招标有限公司
地 址: 北京市海淀区皂君庙14号院9号楼
邮编: 100081
电子邮箱:lizhe628@sina.com
电话:***-****************
传真:***-********
联系人:李喆
开户银行(人民币):中国工商银行北京海淀支行营业部
开户银行(美元):中国银行总行营业部
帐 号(人民币):****************296
帐 号(美 元):A/C No.********4863 SWIFT CODE:BKCHCNBJ

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