磁控溅射镀膜设备招标公告

磁控溅射镀膜设备招标公告


我院拟采购一套磁控溅射镀膜设备,为确保采购活动公平公正和竞争充分,现将项目需求参数进行网上公示,公示期为2021年3月10日- 3月14日。广大供应商可以对项目需求参数的完整性、合理性、公正性提出具体意见建议,防止出现指向性排他性问题。

一、项目名称

磁控溅射镀膜设备

二、采购内容

磁控溅射镀膜设备1台,详见附件需求参数公示。

三、意见反馈方式和有关说明

供应商对本次公示内容存在合理化建议的,请在公示期内,采取专人送达、传真等方式书面递交我部,我部会反馈给予用户单位。提出的意见建议应当详细具体、理由充分、实事求是,不得有意排斥其它潜在供应商。反馈材料应当写明供应商名称并加盖单位印章,必要时可提供有关证明材料。

供应商提出的意见建议,将作为我部初步论证完善需求参数要求的必要参考,是否采纳均不影响供应商参与本项目后续采购活动,我部也不作书面回复。

四、联系方式

联系人:余助理

电 话:****-********

传 真:****-********

地 址:湖南省长沙市

标签: 参数 镀膜设备 磁控溅射

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