测试加工招标公告
测试加工招标公告
| 项目名称 | 测试加工 | 项目编号 | XF-WSBX-******* |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 2021-04-12 16:31:15 | 公告截止日期 | 2021-04-19 18:00:00 |
| 采购单位 | 浙江大学 | 付款方式 | 货到付款。境内供货的，甲方在到货验收后15日内向乙方一次性支付本项目的总款项。 境外供货需要由甲方办理进口减免税业务的，也必须以人民币报价，且包含货送到用户指定实验室前的所有费用。甲方指定的外贸代理公司在甲方到货验收后15日内向乙方指定的外方公司一次性支付款项。支付方式在《技术参数及配置要求》栏内另有约定的，从其约定。 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 成交后3天 | 到货时间要求 | |
| 预 算 | ￥250,000.00 | ||
| 收货地址 | |||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 测试加工 | 1 | 项 | 其他服务行业 |
| 预算 | ￥250,000.00 |
|---|---|
| 技术参数及配置要求 | 我们制作的芯片工序需要用到以下机器： 1.MA6 工艺说明：制作光刻胶掩膜 需要时间：20小时 2.NIKON-I12步进光刻机 工艺说明：制作高精度光刻胶掩膜 需要时间：20小时 3.电子束光刻机 工艺说明：高精度精细结构制作 需要时间：22小时 4.冷场发射扫描电镜 工艺说明：观察器件精细形貌 需要时间：20小时 5.等离子去胶机 工艺说明：芯片表面清洁 需要时间：26小时 6.PECVD 工艺说明：薄膜生长 需要时间：15小时 7.NLD 570 工艺说明：刻蚀特定材料 需要时间：10小时 8.金属干法 工艺说明：金属刻蚀 需要时间：10小时 9.磁控溅射 工艺说明：金属薄膜生长 需要时间：15小时 10.电子束蒸发（Cr、Al、Ni等）工艺说明：生长部分金属 需要时间：16小时 11.电子束蒸发（Au及合金） 工艺说明：生长金及其合金 需要时间：12小时 12划片机 工艺说明：得到特定尺寸芯片 需要时间：10小时 |
| 售后服务 | 无; |
浙江大学
2021-04-12 16:31:15
标签: 测试
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