原子层沉积系统（GY202103542）采购公告
原子层沉积系统（GY202103542）采购公告
| 项目名称 | 原子层沉积系统 | 项目编号 | GY********2 |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 2021-07-08 03:56:22 | 公告截止日期 | 2021-07-13 04:00:00 |
| 采购单位 | 信息科学与工程学院 | 付款方式 | 货到验收合格后付款 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 到货时间要求 | 签订合同后一周内 | |
| 预 算 | ￥320,000.00未公布 | ||
| 收货地址 | 山东大学青岛校区N5楼 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
| 公告说明 | |||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 原子层沉积系统 | 1 | 台 | 机电设备无无 |
| 品牌品牌1 | 迈纳德 |
|---|---|
| 型号 | MNT-S100-L3S1 |
| 品牌2 | |
| 型号 | |
| 品牌3 | |
| 型号 | |
| 预算 | ￥320,000.00 |
| 技术参数及配置要求 | 1 设备主机 2 设备主机规格 2.1 机柜主体采用铝型材可移动框架，门板采用不锈钢拉丝，面板为不锈钢镜面 2.2 触摸屏固定于面板上，可360度自由旋转，可调视距、视角、自由悬停 2.3 主控系统为PLC，采用PID温度控制方式 2.4 设备本底真空为0.67 Pa 2.5 设备漏率≤ 5×10-10 Pa·m3/s 3 反应腔 3.1 反应腔：反应腔体材质为316L，漏率≤ 5×10-10 Pa·m3/s，腔体表面镜面抛光后电解。 3.2 样品台尺寸φ100mm ，标准4英寸腔体。 3.3 开启方式：通过界面操作自动充气，配备压差计以及开腔指示灯。 3.4 样品台加热温度最高可达400 oC，采用程序PID控制方式，温度控制精度为±1 oC。 4 前驱体源输送系统 4.1 配备6路金属前驱体源输送管路，常温源1路，加热源2路，固态源1路，预留2路，配备载气管路和质量流量控制器（品牌Hariba） 4.2 前驱体源输送管路均包裹在加热套中，最高加热温度可达250℃。配置温度传感器，温度控制精度满足±1℃； 4.3 ALD专用阀门（品牌Swagelok）为自带吹扫功能的三孔阀，响应时间小于5 ms，采用耐高温执行器，耐温高达200 oC，阀体材料为超高纯应用场合的316L VIM-VAR不锈钢，隔膜材料为高强度和耐腐蚀的钴基超级合金。阀体内置直径为1/8”加热器，外包定制柔性保温套，最高加热温度可达200℃，温度控制精度满足±1℃ 4.3 每路常温源输送管路，配备1个ALD专用阀门（品牌Swagelok）和1套常温源容器，每套常温源容器包括1个Swagelok@ DOT钢瓶和1个隔膜手动阀（品牌Swagelok）。钢瓶的容积为50mL ，接口规格为高流量H型1/4” FVCR，隔膜手动阀耐温为121 oC。 4.4 每路加热源输送管路，配备1个ALD专用阀门（品牌Swagelok）、1套加热源容器以及加热保温系统，加热源容器包括1个Swagelok@ DOT钢瓶和2个隔膜手动阀（品牌Swagelok），钢瓶的容积为100mL ，入口规格为1/2” MVCR，出口为1/4” FVCR，加热源容器定制柔性加热保温套，最高加热温度可达250℃，温度控制精度满足±1℃。 4.5 每路载气辅助源输送管路，配备1个ALD专用阀门（品牌Swagelok）、1套载气辅助源容器以及加热保温系统，加热源容器包括1个钢瓶和2个波纹筒管高温手动阀（品牌Swagelok），钢瓶的容积为50mL ，接口规格为高流量H型1/4” FVCR，波纹管手动阀耐温为315 oC。加热源容器定制柔性加热保温套，最高加热温度可达250℃，温度控制精度满足±1℃。 4.6 管路及接头均采用316 EP级电解抛光不锈钢材料，所有气体管路连接处采用金属VCR密封；载气管路采用N2或者Ar气体，通过质量流量控制器控制(品牌为Horiba，量程为200 sccm)；配备惰性气体自清洗系统，在控制界面中可以设置自动清洗的次数； 5真空系统： 5.1 真空泵采用双级油封式真空泵(品牌为ULVAC)，抽速为14 m3/h，本底真空0.5*10-3Torr。 5.2真空测量：配备进口压力传感器，检测范围：1000-2.3*10-4 Torr。 5.3真空抽气管道可以烘烤至150℃，且真空泵前级配置热阱，加热温度300℃，控制精度±1℃； 6控制系统 61 控制系统要使用网络通信PLC控制方式，控制元器件之间有足够的散热空间。设备的电气控制系统安全可靠，维护方便； 6.2 界面操作界面支持历史数据、报警日志以及配方的导入导出功能； 6.3 界面操作系统实时展示系统加热状态，可根据工艺要求在配方结束后以及清洗后自动关闭加热系统 6.4 界面操作系统实时展示阀门开关状态、腔室压力状态、配方进展、薄膜沉积剩余时间 6.5 操作界面可编辑配方，可对工艺参数沉积温度、阀门编号、前驱体源脉冲时间、清洗时间、流量进行编辑、保存以及导入配方 6.6 操作界面含独立的高级设置界面，可对各个温度进行PID调试、编辑前驱体源标签、查看前驱体源使用循环次数 6.7 操作界面支持多个配方交替沉积，实现单一和多层薄膜材料的制备 6.8 操作界面中所有ALD阀门具备自动排空功能，所有管路具备自动清洗功能，可设置清洗次数，确保ALD阀门以及腔体管路中没有前驱体源的残留 6.9 系统中所有ALD阀门以及真空阀配备电磁阀，电磁阀响应时间<3 ms，带过电压保护回路，带动作指示灯。 |
| 售后服务 | 质保期限:1年; |
2021-07-08 03:56:22
标签: 原子层沉积系
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