高真空薄膜制备系统招标公告
高真空薄膜制备系统招标公告
| 采购项目名称 | 高真空薄膜制备系统 | 采购项目编号 | 清设比选********号 |
|---|---|---|---|
| 公告开始时间 | 2021-07-26 14:56:49 | 公告截止时间 | 2021-07-29 15:00:00 |
| 采购单位 | 清华大学 | 付款方式 | 合同签订后付款60%,验收合格后一周付尾款40% |
| 对外联系人 | 本项目不接受咨询 | 联系电话 | 本项目不接受咨询 |
| 签约时间要求 | 成交后5个工作日(如不按时签订合同，采购单位有权取消或变更采购结果) | 交货时间要求 | 签订合同后75个工作日 |
| 最高限价 | 未公布 | ||
| 交货地址 | 北京市清华大学逸夫科学技术楼 | ||
| 供应商特殊资质要求 | 无 | ||
| 物资名称 | 采购数量 | 计量单位 |
|---|---|---|
| 高真空薄膜制备系统 | 1 | 台 |
| 品牌 | 北京泰科诺科技有限公司 |
|---|---|
| 型号 | JCP500 |
| 技术参数及配置要求 | （1）真空腔室：直径Ф500mm,前开门结构，立式前开门结构，外表面焊接水冷线，内表面抛光处理，外表面电抛光处理。 （2）真空腔体及真空管道材质：优质不锈钢 （3）真空系统：进口磁悬浮分子泵1台，抽速≥1100L/S；进口涡旋干泵1台，抽速≥8.3L/S；腔体自动恒压系统1套； （4）系统漏率：停泵12小时候后，真空≤10Pa； （5）极限真空：≥5.0×10-5Pa （6）抽速：从大气抽至5.0×10-3Pa≤10min； （7）基片台:直径Ф150mm，转速0~20转/分钟可调；加热温度：室温至500℃，PID智能温控，可分段加热； （8）磁控溅射靶：2套进口3英寸磁控溅射靶，可溅射铁磁材料； （9）溅射电源：进口射频电源1台，功率600W;国产射频电源1台，功率500W; (10) 质量流量控制器：进口质量流量控制器，流量范围：0~200SCCM（氩气）、0~20SCCM（氧气）、0~100SCCM(氮气） 精度: 满量程的±1.0 % 重复性：满量程的± 0.2% 响应时间：小于50 ms 输出信号：提供RS-485; Modbus RTU (Slave); （11）电器控制系统：PLC+液晶屏+工控机控制全自动控制，可实现手动及自动控制； （12）工艺参数：ITO制备电阻10欧姆，透过率≥85%（高透玻璃）； （13）辅助配件：冷却循环水机1台，空气压缩机1台； |
| 质保期 | 12个月 |
清华大学
2021-07-26 14:56:49
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