序号 | 货物名称 | 招标技术要求 | 投标技术响应 | 偏离情况 | 说明 |
1 | PLD腔室 | 1.腔体配备紫外(石英)以及红外激光加热(石英)专用视窗 | | | |
2. 真空系统分子泵,分子泵需配有数据接口以实现软件控制,抽速≥260 L/s,并配合使用涡旋式防腐蚀干泵,抽速≥190L/min,本底极限真空度≤5×10-9 mbar(烘烤后); | | | |
3. 主腔体配备两套不同的真空计,一套组合pirani/Bayard-Alpert(真空计类型)真空计,量程5×10-9 mbar 到1 bar,用于测量真空度; | | | |
4. 另外配置一套精确的Baratron(真空计类型)真空计,量程10-4 到 1 mbar,专门用于精确控制生长时的工艺压力; | | | |
5. 腔体配备自动控温烘烤装置。 | | | |
6. 样品架: | | | |
6.1. 配备5维样品架,样品可在X/Y/Z方向移动,并且可以主轴旋转和面内旋转。X/Y方向位移行程为±12.5 mm,Z方向为100 mm,手动控制;主轴可以360o连续旋转,手动控制;面内可以360o连续旋转,手动控制; | | | |
6.2. 衬底配有挡板,手动控制; | | | |
7.激光加热器 | | | |
▲7.1配备激光加热装置,使用工业级红外激光器,功率不小于200W,样品加热温度达1000°C以上,10Pa臭氧环境中可以加热至850℃;10*10mm样品区域; | | | |
7.2. 配备专门用于激光加热的样品托,该样品托可以兼容旗形(flag type)样品托;并配有3套专用样品托。 | | | |
8.扫描式靶材台: | | | |
8.1. 能够同时安装6个1英寸的靶; | | | |
▲8.2. 靶台可以公转(用于选靶),靶台可以自转,同时在X方向上线性扫描,公转、自转和扫描由步进马达驱动。靶台自转和线性扫描可以在激光束不动的情况下,使激光相对扫过整个靶材表面,从而保证激发出的等离子体羽辉位置、角度都不发生改变; | | | |
8.3. 靶台配有挡板,避免靶材间的交叉污染; | | | |
8.4. 靶台可以升降,即竖直方向上的位置可以调整,手动控制; | | | |
8.5. 靶台配有水冷; | | | |
8.6. 可通过快速进样室一次性传递3个靶材,提高换靶效率。 | | | |
9.高压RHEED(反射式高能电子衍射仪): | | | |
▲9.1. RHEED电子枪,能量最高可达30 keV,工作气压最高可达0.4 Torr(50 Pa); | | | |
9.2. 采用高压稳压电源,保证电子束的能量稳定性优于10-4 rad; | | | |
9.3. 工作距离为150 mm时,电子束斑最小可达50 μm; | | | |
9.4. 具备两级差分抽气功能,第二级差分配备1套独立分子泵,抽速大于70 l/s;第一级差分配备1套独立分子泵,抽速大于70 l/s;第一级和第二级分子泵公用一个涡旋式防腐蚀干泵。 | | | |
9.5. 整个电子枪外部配μ金属屏蔽罩,以屏蔽环境磁场对电子束轨迹的影响; | | | |
9.6. 在腔体和电子枪之间配备闸板阀,用于保护和维护电子枪; | | | |
9.7. 配备可调焦镜头,CCD(电荷耦合元件的英文简称)以及图像采集和数据分析软件;软件能够对所选的三个区域进行数据采集功能,可同时记录三个点RHEED的震荡曲线,并能进行数据处理、保存;配有遮光罩,防止外界光线干扰。 | | | |
2 | MBE腔室 | 1. 真空系统复合离子泵300L加控制器,升华泵,分子泵,需配有数据接口以实现软件控制,抽速≥260 L/s,并配合涡旋式干泵,抽速≥190L/min,本底极限真空度≤2×10-10 mbar(烘烤后); | | | |
2. 腔体配备1套超高真空离子规(6.7*10-12 -10-3mbar)及控制器; | | | |
3. 腔体配备自动控温烘烤装置。 | | | |
4. 样品架: | | | |
▲4.1. 配备5维样品架,样品可在X/Y/Z方向移动,并且可以倾斜和面内旋转。X/Y方向位移行程为±12.5 mm,Z方向为100 mm,手动控制;绕轴差分±180°连续旋转,手动控制;面内可以180o旋转(调整基片方位角),手动控制; | | | |
▲4.2. 加热样品台采用辐射和电子束加热的方式可以到1000℃;低温样品台通过液氮实现80K-RT的变温; | | | |
4.3 采用热偶测温 | | | |
5 RHEED(反射式高能电子衍射仪): | | | |
▲5.1. RHEED电子枪,能量最高可达15keV; | | | |
5.2. 配备可调焦镜头,CCD以及图像采集和数据分析软件;软件能够对所选的三个区域进行数据采集功能,可同时记录三个点RHEED的震荡曲线,并能进行数据处理、保存; | | | |
6.配有膜厚仪,含探头,精度0.01A | | | |
7.配有两台标准热蒸发源(300 -1350℃),并配有PID温控电源(60V,6.6A); | | | |
8.扫描式靶材台 | | | |
8.1. 能够同时安装3个1英寸的靶; | | | |
▲8.2. 靶台可以公转(用于选靶),靶台可以自转,同时在X方向上线性扫描,公转、自转和扫描由步进马达驱动。靶台自转和线性扫描可以在激光束不动的情况下,使激光相对扫过整个靶材表面,从而保证激发出的等离子体羽辉位置、角度都不发生改变; | | | |
8.3. 靶台配有挡板,避免靶材间的交叉污染; | | | |
8.4. 靶台可以升降,即竖直方向上的位置可以调整,手动控制; | | | |
8.5. 靶台配有水冷; | | | |
8.6. 可通过快速进样室一次性传递3个靶材,提高换靶效率。 | | | |
3 | 快速进样室 | 1. 进样室配备单独的分子泵,选用国际一流品牌,可软件控制,抽速为70L/s,配备涡旋式干泵,抽速大于等于100L/min; | | | |
2. 能够通过磁力杆方便地传递样品以及靶材,与PLD和MBE主腔体之间采用DN63CF插板阀隔离; | | | |
3. 配备Pirani/ Bayard-Alpert(真空计类型)真空计,量程5×10-10mbar 到1bar; | | | |
4. 进样室配有观察窗和快开门; | | | |
5. 进样室可以储存4块样品,3个靶材; | | | |
4 | 电控系统 | 1. 所有电路都集成到一个机柜中; | | | |
2. 配备2台电脑,一台用于系统控制,电脑预装原厂控制软件,另一台用于RHEED分析,预装分析软件; | | | |
3. 控制软件能够控制样品加热,靶的扫描、自转、公转,分子泵以及系统工艺压力等; | | | |
5 | 臭氧发生器 | 1. 臭氧发生器产生氧气浓度至少15%; | | | |
2. 配有专门的臭氧气路(防腐蚀); | | | |
3. 配有残余臭氧处理装置。 | | | |
4.在真空腔体内部具有臭氧延长管(导流管),使样品表面产生局部高氧压; | | | |
5.配有微漏阀; | | | |
6 | 准分子激光系统 | 1. 准分子激光需配备的光路需要包括透镜(焦距500 mm)、激光45°全反镜、半透半反镜以及配套的光学支架和导轨; | | | |
2. 给准分子激光器配有光学平台; | | | |
3. 在光学导轨上配备激光屏蔽玻璃罩,以防止准分子激光辐射; | | | |
★4. 准分子激光光路利用三个步进电动机实现透镜和反射镜的三轴联动扫描,使得激光在靶材的表面进行扫描的时候保证激发出的等离子体羽辉强度不发生改变,使得10 mm×10 mm样品上的薄膜厚度均匀;样品生长时候保持不动,确保同时能进行RHEED的实时膜厚监控; | | | |